[發明專利]基于單目結構光的自檢自校準方法及裝置

在審

• 申請號: 202011010623.9
• 申請日: 2020-09-23
• 公開（公告）號: CN112164099A
• 公開（公告）日: 2021-01-01
• 發明（設計）人: 戶磊;薛遠;曹天宇;王亞運;季棟
• 申請（專利權）人: 北京的盧深視科技有限公司;合肥的盧深視科技有限公司
• 主分類號: G06T7/33
• 分類號: G06T7/33;G06T7/37
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李文清

1.一種基于單目結構光的自檢自校準方法，其特征在于，包括：

獲取單目結構光系統的參考圖、物體圖和誤差閾值范圍；

根據所述參考圖和所述物體圖，確定所述參考圖與所述物體圖的行對齊誤差；

若所述行對齊誤差在所述誤差閾值范圍內，則完成對所述單目結構光系統的自檢自校準。

2.根據權利要求1所述的基于單目結構光的自檢自校準方法，其特征在于，所述根據所述參考圖和所述物體圖，確定所述參考圖與所述物體圖的行對齊誤差的步驟，包括：

獲取所述參考圖的特征點和所述物體圖的特征點；

將所述參考圖的特征點和所述物體圖的特征點進行匹配，獲取匹配結果；

根據所述匹配結果，確定所述參考圖與所述物體圖的行對齊誤差。

3.根據權利要求2所述的基于單目結構光的自檢自校準方法，其特征在于，所述方法還包括：

若所述行對齊誤差不在所述誤差閾值范圍內，則根據所述匹配結果，確定所述參考圖與所述物體圖之間的變換矩陣，并基于所述變換矩陣對所述參考圖進行變換；

若確定變換后的所述參考圖與所述物體圖的行對齊誤差在所述誤差閾值范圍內，則完成對所述單目結構光系統的自檢自校準。

4.根據權利要求3所述的基于單目結構光的自檢自校準方法，其特征在于，所述根據所述匹配結果，確定所述參考圖與所述物體圖之間的變換矩陣，具體包括：

基于所述匹配結果，計算本質矩陣；

基于所述本質矩陣，求解所述變換矩陣。

5.根據權利要求2-4中任一項所述的基于單目結構光的自檢自校準方法，其特征在于，所述將所述參考圖的特征點和所述物體圖的特征點進行匹配，獲取匹配結果，具體包括：

對于所述物體圖的每個特征點，在所述參考圖中與所述特征點對應的第一預設區域中搜索與所述特征點匹配的第一特征點。

6.根據權利要求5所述的基于單目結構光的自檢自校準方法，其特征在于，所述將所述參考圖的特征點和所述物體圖的特征點進行匹配，獲取匹配結果，還包括：

在所述物體圖中與所述第一特征點對應的第二預設區域中搜索與所述第一特征點匹配的第二特征點；

若所述第一特征點與所述第二特征點重合，則確定所述特征點與所述第一特征點為有效匹配。

7.一種基于單目結構光的自檢自校準裝置，其特征在于，包括：處理器，所述處理器包括：

獲取模塊，用于獲取單目結構光系統的參考圖、物體圖和誤差閾值范圍；

行對齊誤差確定模塊，用于根據所述參考圖和所述物體圖，確定所述參考圖與所述物體圖的行對齊誤差；

自檢自校準完成模塊，用于若所述行對齊誤差在所述誤差閾值范圍內，則完成對所述單目結構光系統的自檢自校準。

8.根據權利要求7所述的基于單目結構光的自檢自校準裝置，其特征在于，所述裝置還包括：散斑投射器和圖像傳感器；

所述散斑投射器用于投射散斑點；

所述圖像傳感器用于獲取所述散斑點在不同距離處的散斑圖像；

相應地，所述處理器還包括：參考圖獲取模塊；所述參考圖獲取模塊用于確定散斑點在不同距離處的散斑圖像中的位置信息；基于所述位置信息，確定所述散斑點在無窮遠處的散斑圖像，并將所述散斑點在無窮遠處的散斑圖像作為所述參考圖。

9.一種電子設備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述程序時實現如權利要求1至6任一項所述基于單目結構光的自檢自校準方法的步驟。

10.一種非暫態計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1至6任一項所述基于單目結構光的自檢自校準方法的步驟。