[發(fā)明專利]顯示母板、顯示母板的制備方法和對(duì)位方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011009790.1
• 申請(qǐng)日: 2020-09-23
• 公開（公告）號(hào): CN112117316A
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李碩;石領(lǐng);何源
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32;H01L51/52;H01L23/544;G03F9/00
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 王輝;闞梓瑄

1.一種顯示母板，其特征在于，所述顯示母板包括顯示區(qū)和圍繞所述顯示區(qū)的周邊區(qū)，所述周邊區(qū)包括對(duì)位標(biāo)記區(qū)，所述顯示母板包括：

陣列基板；

對(duì)位標(biāo)記，設(shè)于所述陣列基板且位于所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)；

彩膜層，包括濾光層和遮光層，至少部分所述遮光層位于所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)；

其中，所述遮光層位于所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)的部分包括第一遮光部和第二遮光部；所述第一遮光部覆蓋所述對(duì)位標(biāo)記，所述第二遮光部覆蓋所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)內(nèi)所述對(duì)位標(biāo)記以外的區(qū)域；

其中，所述第一遮光部背離所述陣列基板的表面和所述第二遮光部背離所述陣列基板的表面不在同一平面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示母板，其特征在于，所述顯示母板還包括：

有機(jī)層，設(shè)于所述陣列基板且位于所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)，所述遮光層位于所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)的部分設(shè)于所述有機(jī)層背離所述陣列基板的一側(cè)；

其中，所述對(duì)位標(biāo)記形成于所述有機(jī)層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示母板，其特征在于，所述有機(jī)層為一層或多層。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示母板，其特征在于，所述顯示母板還包括所述顯示區(qū)的有機(jī)發(fā)光器件，有機(jī)發(fā)光器件包括：

第一電極，設(shè)于所述陣列基板；

像素界定層，設(shè)于所述第一電極背離所述陣列基板的一側(cè)，所述像素界定層具有開口區(qū)，所述開口區(qū)露出所述第一電極；

有機(jī)發(fā)光功能層，位于所述第一電極背離所述陣列基板的一側(cè)，且位于所述開口區(qū)；

第二電極，設(shè)于所述有機(jī)發(fā)光功能層背離所述陣列基板的一側(cè)；

其中，所述有機(jī)層與所述像素界定層同層設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示母板，其特征在于，所述顯示母板還包括設(shè)于所述顯示區(qū)的觸控功能層，所述觸控功能層位于所述陣列基板和所述遮光層之間，包括：

第一觸控電極層，設(shè)于所述陣列基板上；

介電層，設(shè)于所述第一觸控電極層背離所述陣列基板的一側(cè)；

第二觸控電極層，設(shè)于所述介電層背離所述第一觸控電極層的一側(cè)，且位于所述遮光層靠近所述陣列基板的一側(cè)；

保護(hù)層，設(shè)于所述第二觸控電極層背離所述介電層的一側(cè)；

其中，所述有機(jī)層與所述保護(hù)層同層設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示母板，其特征在于，所述有機(jī)層具有在所述陣列基板厚度方向上貫穿的鏤空部，所述鏤空部組成所述對(duì)位標(biāo)記；

其中，所述遮光層的第一遮光部覆蓋所述有機(jī)層的鏤空部，所述第二遮光部覆蓋所述有機(jī)層除過所述鏤空部以外的部分。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示母板，其特征在于，所述有機(jī)層具有在所述陣列基板厚度方向上貫穿的鏤空部，所述有機(jī)層除過所述鏤空部以外的部分組成所述對(duì)位標(biāo)記；

其中，所述遮光層的第一遮光部覆蓋所述有機(jī)層除過所述鏤空部以外的部分，所述第二遮光部覆蓋所述有機(jī)層的鏤空部。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示母板，其特征在于，所述有機(jī)層的厚度介于1.5μm-2.5μm之間。

9.一種顯示母板的制備方法，其特征在于，包括：

提供一陣列基板，所述陣列基板劃分有顯示區(qū)和圍繞所述顯示區(qū)的周邊區(qū)，所述周邊區(qū)包括對(duì)位標(biāo)記區(qū)；

在所述陣列基板的對(duì)位標(biāo)記區(qū)形成對(duì)位標(biāo)記；

在所述陣列基板上形成彩膜層，所述彩膜層包括濾光層和遮光層，至少部分所述遮光層形成于所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)；

其中，形成所述遮光層時(shí)，使所述遮光層形成位于所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)的部分包括第一遮光部和第二遮光部；使所述第一遮光部覆蓋所述對(duì)位標(biāo)記，使所述第二遮光部覆蓋所述對(duì)位標(biāo)記區(qū)內(nèi)所述對(duì)位標(biāo)記以外的區(qū)域；其中，形成所述第一遮光部和所述第二遮光部時(shí)，使所述第一遮光部背離所述陣列基板的表面和所述第二遮光部背離所述陣列基板的表面不在同一平面。