[發(fā)明專利]獲取原子成像中的原子位置的方法與裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011008851.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112116581B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 白雪冬;周鑫;陳潘;許智;廖磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G06T7/00 | 分類號(hào): | G06T7/00;G06T7/136;G06T7/70 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;王博 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 獲取 原子 成像 中的 位置 方法 裝置 | ||
1.一種透射電鏡圖像分析方法,包括:
獲取材料的透射電鏡原始圖像;
根據(jù)所述原始圖像的每個(gè)圖像像素的圖像像素值,獲得所述原始圖像中的亮斑的輪廓數(shù)據(jù),所述輪廓數(shù)據(jù)限定其外邊界以及中心點(diǎn)位置;
根據(jù)所述輪廓數(shù)據(jù)中的外邊界以及中心點(diǎn)位置,獲取所述原始圖像中包含有所述亮斑的區(qū)域的像素值,
擬合獲得所述亮斑的中心點(diǎn)精確位置,得到所述亮斑對(duì)應(yīng)的亮原子的中心位置;
其中所述擬合獲得所述亮斑的中心點(diǎn)精確位置包括:設(shè)定擬合模型為圓形高斯函數(shù),以所述包含有所述亮斑的區(qū)域內(nèi)的像素值為數(shù)據(jù)并用擬合函數(shù)獲得所述擬合模型的待定參數(shù),其中所述圓形高斯函數(shù)為:
其中x0和y0為待擬合的所述亮斑的中心點(diǎn)精確位置,Amp為高斯函數(shù)的振幅,σ為所述亮斑的面積參量,offset為所述亮斑的中心點(diǎn)在所述原始圖像中的平移參量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括對(duì)原始圖像的預(yù)處理步驟以用于獲得清晰的所述亮斑的輪廓,其中,所述預(yù)處理步驟包括:
對(duì)所述原始圖像進(jìn)行對(duì)比度運(yùn)算并獲得均衡圖像;
對(duì)所述均衡圖像進(jìn)行卷積運(yùn)算并獲得平滑圖像;
對(duì)所述平滑圖像進(jìn)行閾值分割運(yùn)算并獲得閾值分割圖像;以及
對(duì)所述閾值分割圖像進(jìn)行腐蝕運(yùn)算以及膨脹運(yùn)算并獲得預(yù)處理后的原始圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中
在對(duì)所述原始圖像進(jìn)行對(duì)比度運(yùn)算并獲得均衡圖像的步驟中采用可限制對(duì)比度的自適應(yīng)均衡化函數(shù)進(jìn)行均衡,其中目標(biāo)像素點(diǎn)的像素值由所述自適應(yīng)均衡化函數(shù)運(yùn)算并更新,且所述更新由所述目標(biāo)像素點(diǎn)以及其近鄰像素點(diǎn)的像素值共同決定。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中
在對(duì)所述原始圖像進(jìn)行對(duì)比度運(yùn)算并獲得均衡圖像的步驟中采用以下函數(shù)的一種:伽馬變換函數(shù)、線性變換函數(shù)、直方圖正規(guī)化函數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中在對(duì)所述均衡圖像進(jìn)行卷積運(yùn)算并獲得平滑圖像的步驟中采用以下函數(shù)的一種:高斯模糊函數(shù)、均值濾波函數(shù)、中值濾波函數(shù)、自定義濾波函數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中
所述獲得原始圖像中的亮斑的輪廓數(shù)據(jù)的過(guò)程還包括:按照所述輪廓的面積分布設(shè)定篩選閾值,以剔除距離所述輪廓的面積分布中心偏差較大的輪廓數(shù)據(jù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述擬合函數(shù)采用最小二乘曲線擬合法。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括:
依據(jù)多個(gè)相鄰的所述亮原子的中心位置以及所述材料的晶格種類,獲得其他原子的中心位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中,所述獲得其他原子的中心位置的步驟包括:
建立kd-tree樹(shù)形數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)并建立每一個(gè)亮原子與其近鄰亮原子的映射;
依據(jù)所述材料的晶格結(jié)構(gòu)關(guān)系以及多個(gè)近鄰亮原子的中心點(diǎn)精確位置計(jì)算所述多個(gè)近鄰亮原子之間的其他原子的預(yù)估中心點(diǎn)位置;
依據(jù)所述預(yù)估中心點(diǎn)位置,提取所述原始圖像中相應(yīng)區(qū)域的像素值,擬合獲得所述其他原子的中心點(diǎn)精確位置,其中,所述擬合獲得所述其他原子的中心點(diǎn)精確位置包括:
設(shè)定擬合模型為圓形高斯函數(shù),以所述區(qū)域內(nèi)的像素值為數(shù)據(jù)并用擬合函數(shù)獲得所述擬合模型的待定參數(shù),其中所述圓形高斯函數(shù)為:
其中x0和y0為待擬合的所述亮斑的中心點(diǎn)精確位置,Amp為高斯函數(shù)的振幅,σ為所述亮斑的面積參量,offset為所述亮斑的中心點(diǎn)在所述原始圖像中的平移參量。
10.一種透射電鏡圖像分析裝置,包括存儲(chǔ)器和處理器,其中所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,所述計(jì)算機(jī)程序在執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-9之一所述的方法。
11.一種計(jì)算機(jī)可讀儲(chǔ)存介質(zhì),其上儲(chǔ)存有計(jì)算機(jī)程序,所述計(jì)算機(jī)程序在執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-9之一所述的方法。
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