[發明專利]一種氮化鎵襯底材料的拋光液

有效

• 申請號: 202011008767.0
• 申請日: 2020-09-23
• 公開（公告）號: CN112126357B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 潘國順;陳高攀;羅海梅
• 申請（專利權）人: 深圳清華大學研究院
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L33/00
• 代理公司: 深圳市壹壹壹知識產權代理事務所(普通合伙) 44521
• 代理人: 師勇

1.一種氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，包括拋光顆粒、腐蝕劑、氧化劑、有序催化劑、分散穩定劑和水，各組分重量百分比含量為：

拋光顆粒 10～50wt%

腐蝕劑0.1～20wt%

氧化劑 0.01～10wt%

有序催化劑 0.0001～10wt%

分散穩定劑0.01～10wt%

水 余量；

所述有序催化劑為具備比表面積大、表面能高、多孔、多催化中心、規則的活性位分布、結構穩定、分散性好、多官能團特點中的一種或多種的復合物；

所述分散穩定劑為羥基醇，包括乙二醇、丙二醇、丁二醇、己二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙烯醇、丙三醇中的一種或多種。

2.如權利要求1所述的氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，所述拋光顆粒為氧化硅、氧化鈰、金剛石、碳化硅、氮化硼、氧化鋯、氧化鐵中的一種或多種，粒徑分布范圍為0.01-20微米。

3.如權利要求1所述的氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，所述腐蝕劑包括酸性腐蝕劑及堿性腐蝕劑。

4.如權利要求3所述的氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，所述酸性腐蝕劑包括鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、硼酸、碳酸酸式鉀、鈉鹽、檸檬酸、水楊酸、羥基乙酸、草酸、蘋果酸、乳酸、氨基酸中的一種或多種。

5.如權利要求3所述的氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，所述堿性腐蝕劑包括氫氧化鉀、氫氧化鈉、氨、甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、異丙醇胺、氨基丙醇、四乙基胺、乙二胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、羥胺、二乙基三胺、三乙基四胺、羥乙基乙二胺、六亞甲基二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺中的一種或多種。

6.如權利要求1所述的氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，所述的氧化劑包括次氯酸、次氯酸鈉、次氯酸鉀、次氯酸銨、高氯酸、高氯酸鈉、高氯酸鉀、次溴酸、次溴酸鈉、高溴酸、高溴酸鈉、次碘酸、次碘酸鈉、碘酸、碘酸鈉、碘酸鉀、高碘酸、高碘酸鈉、高碘酸鉀、過氧化氫、過氧化鈉、過氧化鉀、硝酸鈉、亞硝酸鈉、硝酸鉀、硝酸鋁、硝酸鐵、過碳酸鈉、過碳酸鉀、過硫酸鈉、過二硫酸、過二硫酸鈉、過二硫酸銨、過乙酸或過苯甲酸、過氧化脲中的一種或多種。

7.如權利要求1所述的氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，所述有序催化劑采用金屬單質、氧化物、鹽、碳、硅藻土、石墨、石墨烯、蒙脫土、蛭石、高嶺土中的一種或多種經過合成處理、改性處理制備而成。

8.如權利要求7所述的氮化鎵襯底材料的拋光液，其特征在于，所述合成處理包括采用固相研磨法、熱蒸發法、離子濺射法、真空蒸發法、等離子蒸發法、電子束蒸發、化學氣相沉積法、共沉淀法、水解沉淀法、水熱和溶劑熱法、微乳液法、溶劑蒸發法、模板法中的一種或多種進行處理；所述改性處理包括表面有機包覆、沉淀反應包覆、機械力化學、插層改性、物理/化學包覆、機械力化學/有機包覆、無機沉淀反應/有機包覆中的一種或多種進行處理。