[發明專利]陣列基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 202011007768.3
• 申請日: 2020-09-23
• 公開（公告）號: CN112083607B
• 公開（公告）日: 2022-04-22
• 發明（設計）人: 王小東;唐崇偉
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 紀婷婧

1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括襯底基板、設置于所述襯底基板上密封區的擋墻和設置于所述襯底基板上顯示區的配向膜；

所述擋墻位于密封區框膠粘結處的內側，所述擋墻用于防止所述顯示區的配向膜向所述框膠粘結處擴散；

所述擋墻包括第一擋墻及第二擋墻；所述第一擋墻包括多個間隔設置的第一阻擋件；所述第二擋墻位于所述第一擋墻與所述框膠粘結處之間，所述第二擋墻包括多個間隔設置的第二阻擋件；

所述第一擋墻用于對所述配向膜進行至少第一流動方向的阻擋，所述第二擋墻用于對所述配向膜進行至少第二流動方向的阻擋，所述第一阻擋件和所述第二阻擋件均為片狀結構的擋片，所述擋片的阻擋面用于提供對所述至少第一流動方向的阻擋和對所述至少第二流動方向的阻擋，作為所述第一阻擋件的擋片的阻擋面與配向膜的涂布方向呈第一預設角度，作為所述第二阻擋件的擋片的阻擋面與配向膜的涂布方向呈第二預設角度。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，作為所述第一阻擋件的擋片的阻擋面與配向膜的涂布方向平行，作為所述第二阻擋件的擋片的阻擋面與配向膜的涂布方向垂直；其中，所述配向膜的涂布方向為從顯示區指向密封區。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第一阻擋件沿與配向膜的涂布方向垂直的第一直線依次間隔排列；所述第二阻擋件分為兩列分別沿與配向膜的涂布方向垂直的第二直線和第三直線依次間隔排列，相鄰兩個第二阻擋件分別位于第二直線和第三直線上。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一預設角度大于0度且小于90度，所述第二預設角度大于0度且小于90度。

5.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述襯底基板上形成有公共電極金屬；所述公共電極金屬上形成有柵絕緣層；所述柵絕緣層上形成有鈍化層；所述公共電極金屬對應的鈍化層區域為公共電極金屬區，所述擋墻設置于所述公共電極金屬區上；所述密封區包括所述公共電極金屬區。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一阻擋件的高度小于所述第二阻擋件的高度，以使所述第一擋墻和所述第二擋墻形成坡度結構。

7.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括襯底基板、設置于所述襯底基板上密封區的擋墻和設置于所述襯底基板上顯示區的配向膜；

所述擋墻位于密封區框膠粘結處的內側，所述擋墻用于防止所述顯示區的配向膜向所述框膠粘結處擴散；

所述擋墻包括第一擋墻及第二擋墻；所述第一擋墻包括多個間隔設置的第一阻擋件；所述第二擋墻位于所述第一擋墻與所述框膠粘結處之間，所述第二擋墻包括多個間隔設置的第二阻擋件；

所述第一擋墻用于對所述配向膜進行至少第一流動方向的阻擋，所述第二擋墻用于對所述配向膜進行至少第二流動方向的阻擋，所述第一阻擋件和所述第二阻擋件均為三棱柱體，所述三棱柱體與所述襯底基板垂直的三個柱面均可用于提供對所述至少第一流動方向的阻擋和對所述至少第二流動方向的阻擋。

8.一種陣列基板的制造方法，所述陣列基板包括襯底基板、設置于所述襯底基板上密封區的擋墻和設置于所述襯底基板上顯示區的配向膜；其特征在于，所述陣列基板的制造方法包括：

在襯底基板上形成公共電極金屬；

在所述公共電極金屬上形成柵絕緣層；

在所述柵絕緣層上形成鈍化層；

在公共電極金屬區上設置擋墻，其中，所述公共電極金屬對應的鈍化層區域為公共電極金屬區；所述擋墻包括第一擋墻及第二擋墻；所述第一擋墻包括多個間隔設置的第一阻擋件；所述第二擋墻位于所述第一擋墻與框膠粘結處之間，所述第二擋墻包括多個間隔設置的第二阻擋件；所述第一擋墻用于對所述配向膜進行至少第一流動方向的阻擋，所述第二擋墻用于對所述配向膜進行至少第二流動方向的阻擋，所述第一阻擋件和所述第二阻擋件均為片狀結構的擋片，所述擋片的阻擋面用于提供對所述至少第一流動方向的阻擋和對所述至少第二流動方向的阻擋，作為所述第一阻擋件的擋片的阻擋面與配向膜的涂布方向呈第一預設角度，作為所述第二阻擋件的擋片的阻擋面與配向膜的涂布方向呈第二預設角度。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1至7任意一項所述的陣列基板。