[發明專利]一種機器人的路徑規劃方法、機器人及主控芯片

在審

• 申請號: 202011006551.0
• 申請日: 2020-09-23
• 公開（公告）號: CN112540611A
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 雷力;黃進光;林李澤;張國棟
• 申請（專利權）人: 深圳市銀星智能科技股份有限公司
• 主分類號: G05D1/02
• 分類號: G05D1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種機器人的路徑規劃方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取環境地圖，并在所述環境地圖中標識可清掃的第一清潔區域；

在所述第一清潔區域采用第一清潔模式進行清潔，所述第一清潔模式包括直線迂回形式進行遍歷，若當前位置數據符合所述第一清潔區域的邊界數據或者障礙物的輪廓數據，則旋轉180°同時移動第一預設距離；

確定第二清潔區域，在所述第二清潔區域采用第二清潔模式進行清潔，所述第二清潔模式包括直線迂回形式進行遍歷，若當前位置數據符合所述第二清潔區域的邊界，則旋轉180°同時移動第二預設距離，所述第二預設距離小于所述第一預設距離，所述第二清潔區域與所述第一清潔區域有交集或無交集。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一清潔模式包括所述機器人以第一壓力拖地，所述第二清潔模式包括所述機器人以第二壓力拖地，所述第二壓力大于所述第一壓力。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一清潔模式包括所述機器人拖地時以第一出水量出水，所述第二清潔模式包括所述機器人拖地時以第二出水量出水，所述第二出水量大于所述第一出水量。

4.根據權利要求1至3任意一項所述的方法，其特征在于，所述確定第二清潔區域包括：

從終端設備接收目標指令，所述目標指令指示所述第一清潔區域中或所述第一清潔區域之外的所述第二清潔區域；

根據所述目標指令確定所述第二清潔區域的邊界。

5.根據權利要求1至3任意一項所述的方法，其特征在于，所述確定第二清潔區域包括：

當確定所述第一清潔區域中或所述第一清潔區域之外，清潔度低于預設值的清潔區域時，確定所述清潔度低于所述預設值的清潔區域為所述第二清潔區域。

6.根據權利要求1至3任意一項所述的方法，其特征在于，所述確定第二清潔區域包括：

獲取語音信息，所述語音信息指示所述第一清潔區域中或所述第一清潔區域之外的所述第二清潔區域；

根據所述語音信息確定所述第二清潔區域的邊界。

7.一種機器人，其特征在于，所述機器人包括：地圖構建模塊、控制模塊和行走模塊，

所述地圖構建模塊，用于獲取環境地圖，并在所述環境地圖中標識可清掃的第一清潔區域；

所述控制模塊，用于控制所述行走模塊在所述第一清潔區域采用第一清潔模式進行清潔，所述第一清潔模式包括直線迂回形式進行遍歷，若當前位置數據符合所述第一清潔區域的邊界數據或者障礙物的輪廓數據，則旋轉180°同時移動第一預設距離；

所述控制模塊，還用于確定第二清潔區域，并控制所述行走模塊在所述第二清潔區域采用第二清潔模式進行清潔，所述第二清潔模式包括直線迂回形式進行遍歷，若當前位置數據符合所述第二清潔區域的邊界，則旋轉180°同時移動第二預設距離，所述第二預設距離小于所述第一預設距離，所述第二清潔區域與所述第一清潔區域有交集或無交集。

8.根據權利要求7所述的機器人，其特征在于，所述機器人還包括：機器主體、第一磁體、第二磁體，拖板組件及拖布，

其中，所述拖板組件半固定于所述機器主體上，所述拖布固定于所述拖板組件上，

所述第一磁體固定于所述機器主體上，所述第二磁體固定于所述拖板組件上，

所述第一清潔模式包括：所述控制模塊控制所述第一磁體產生第一磁性強度，以使所述第一磁體與所述第二磁體產生斥力，使得所述拖布以第一壓力拖地；

所述第二清潔模式包括：所述控制模塊控制所述第一磁體產生第二磁性強度，以使所述第一磁體與所述第二磁體產生斥力，使得所述拖布以第二壓力拖地，所述第二壓力大于所述第一壓力。

9.根據權利要求7所述的機器人，其特征在于，所述機器人還包括：供液模塊，

所述第一清潔模式包括：所述控制模塊控制所述供液模塊以第一出水量出水；

所述第二清潔模式包括：所述控制模塊控制所述供液模塊以第二出水量出水，所述第二出水量大于所述第一出水量。