[發明專利]一種硒化銻薄膜太陽能電池的制備方法在審
| 申請號: | 202011005558.0 | 申請日: | 2020-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN112201725A | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發明(設計)人: | 查鋼強;張文玉;胡瑞琪;李易偉;曹昆;李陽 | 申請(專利權)人: | 西北工業大學深圳研究院;西北工業大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0445 |
| 代理公司: | 西北工業大學專利中心 61204 | 代理人: | 王鮮凱 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區粵海街道高*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硒化銻 薄膜 太陽能電池 制備 方法 | ||
1.一種硒化銻薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于步驟如下:
步驟1:將硒化銻晶體采用瑪瑙研缽研成粉末,壓制成片作為升華源;將升華源分別放在去離子水、丙酮、乙醇、去離子水中清洗10~20分鐘、10~20分鐘、10~20分鐘和20~30分鐘,然后用氮氣吹干,放入真空干燥箱干燥30~40分鐘;
步驟2:將FTO襯底分別放在去離子水、丙酮、乙醇、去離子水中清洗10~20分鐘、10~20分鐘、10~20分鐘和20~30分鐘,然后用氮氣吹干,放入真空干燥箱干燥30~40分鐘;
步驟3:將處理后的FTO襯底垂直放入混合溶液中,在水浴溫度為70~90℃,沉積時間為30~60分鐘后得到硫化鎘薄膜后取出,再用去離子水洗去硫化鎘薄膜表面的殘留絡合物后用氮氣吹干,放入真空干燥箱干燥30~40分鐘;
所述混合溶液為:摩爾比為1︰2.5︰2.5的硫酸鎘鹽、氨水和硫脲;
步驟4、吸收層形成:將升華源置于生長腔室的下托盤,沉積了硫化鎘薄膜的FTO襯底置于生長腔室的上托盤,二者之間的距離為
生長結束后,將硒化銻升華源溫度以25~30℃/min的速度降到80~100℃,襯底溫度以10~15℃/min的速度降到60~80℃,然后自然冷卻到室溫;
步驟5、退火:將硒化銻薄膜在300℃~400℃的溫度下真空退火或真空硒化退火1~5小時,10~15℃/min的速度降到60~80℃,然后自然冷卻到室溫;
步驟6、背電極制備:在退火后的硒化銻薄膜上采用真空蒸鍍法蒸鍍金電極,制成硒化銻薄膜太陽能電池。
2.根據權利要求1所述硒化銻薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述硒化銻晶體純度為99.99%,晶體粉末的粒徑小于300目。
3.根據權利要求1所述硒化銻薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟3的混合溶液的PH值為10~12。
4.根據權利要求1或3所述硒化銻薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟3的混合溶液的PH值為11。
5.根據權利要求1所述硒化銻薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟3的硫化鎘薄膜的沉積水浴溫度為90℃,沉積時間為40分鐘。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





