[發明專利]一種萘二酰亞胺超分子光電材料及其制備方法與應用有效
| 申請號： | 202011003996.3 | 申請日： | 2020-09-22 |
| 公開（公告）號： | CN112209927B | 公開（公告）日： | 2021-11-12 |
| 發明（設計）人： | 仇中選;呂海金;辛飛飛;趙美法;左常江 | 申請（專利權）人： | 青島職業技術學院 |
| 主分類號： | C07D471/06 | 分類號： | C07D471/06;C07C211/63;H01B1/12 |
| 代理公司： | 北京金碩果知識產權代理事務所(普通合伙) 11259 | 代理人： | 郝曉霞 |
| 地址： | 266555 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 萘二酰 亞胺 分子 光電 材料 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種萘二酰亞胺超分子光電材料，其特征在于，所述萘二酰亞胺超分子光電材料具有以下結構：
其中，R1、R2分別為C10～C20的直鏈或支鏈的烷基。
2.根據權利要求1所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料，其特征在于，其結構式為
3.根據權利要求1所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料，其特征在于，其結構式為
4.根據權利要求1所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料，其特征在于，所述萘二酰亞胺超分子光電材料的形貌為片狀結構或螺旋狀結構。
5.根據權利要求1所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1、制備陰離子萘二酰亞胺衍生物：將萘四酸酐和甘氨酸懸浮于丙酸中，回流反應，反應完畢，用NaHCO3中和，得到陰離子萘二酰亞胺衍生物；
S2、配制陰離子萘二酰亞胺衍生物水溶液；
S3、向所述陰離子萘二酰亞胺衍生物水溶液中加入陽離子表面活性劑，充分攪拌，靜置，析出物經后處理得到萘二酰亞胺超分子光電材料。
6.根據權利要求5所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料的制備方法，其特征在于，步驟S3中所述陽離子表面活性劑為癸基三甲基溴化銨或十六烷基三甲基溴化銨。
7.根據權利要求5所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料的制備方法，其特征在于，步驟S3中所述陰離子萘二酰亞胺衍生物水溶液中的陰離子萘二酰亞胺衍生物與陽離子表面活性劑的摩爾比為1:4-1:2。
8.根據權利要求1所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料作為導電材料的應用。
9.根據權利要求1所述的一種萘二酰亞胺超分子光電材料作為光響應材料的應用。
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