[發明專利]一種基于納米金團簇的納米抗菌涂層材料及其制備方法

有效

• 申請號: 202011003783.0
• 申請日: 2020-09-22
• 公開（公告）號: CN112190767B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發明（設計）人: 陳云豐;褚光宇;張春雷;崔大祥
• 申請（專利權）人: 上海市第六人民醫院
• 主分類號: A61L31/02
• 分類號: A61L31/02;A61L31/08;A61L31/16
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 郎祺

1.一種基于納米金團簇的納米抗菌涂層材料的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一，用新鮮配置的HAuCl₄與pMBA溶液先后加入到超純水中，攪拌得到白色Au(I)-pMBA絡合物；

步驟二，加入NaOH溶液使所述白色Au(I)-pMBA絡合物溶解，然后加入NaBH₄溶液，室溫繼續攪拌2-4h后，超濾管收集濃縮得到pMBA-AuNCs團簇水溶液；

步驟三，取所述pMBA-AuNCs團簇水溶液于離心管中，加入HCl使配體的pMBA分子完全質子化，pMBA-AuNCs團簇將從水溶液析出，離心收集并去除上清液中的多余的HCl和NaCl，并用超純水清洗兩次，室溫干燥后加入甲醇溶解，得到配體末端羧基完全質子化的pMBA-AuNCs團簇甲醇溶液；

步驟四，向步驟三得到的所述pMBA-AuNCs團簇甲醇溶液中加入IVB族四價離子的鹽溶液，然后超聲處理5-10min得到混合溶液；

步驟五，向混合溶液中加入Cu²⁺的鹽溶液，然后超聲處理5-10min得到pMBA-AuNCs團簇與金屬離子甲醇混合溶液，即所述納米抗菌涂層材料。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟四中所述的IVB族四價離子為Ti⁴⁺、Zr⁴⁺或Hf⁴⁺。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟四中所述pMBA-AuNCs團簇與IVB族四價離子的摩爾比為1:10。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述鹽溶液為鹽酸鹽溶液。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述IVB族四價離子與Cu²⁺的比例為1：(1～2)。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟四和步驟五中的超聲處理時間為5min。

7.一種如權利要求1-6任一項所述制備方法制備的基于納米金團簇的納米抗菌涂層材料。

8.如權利要求7所述的納米抗菌涂層材料在制備抗菌納米涂層中的應用。

9.一種采用如權利要求7所述的納米抗菌涂層材料制備抗菌納米涂層的方法，其特征在于，將所述納米抗菌涂層材料均勻滴加到干燥的鈦片上，室溫干燥后形成抗菌納米涂層。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述鈦片在使用前采用強酸氧化法處理表面：拋光處理后的鈦片經置于30％的H₂O₂和H₂SO₄體積比為1:1的混合溶液中，氧化處理10-15min，表面形成富含羥基的TiO₂薄層；最后用大量清水清洗，放入無水乙醇中備用。