[發明專利]顯示面板及其制作方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 202011002970.7
• 申請日: 2020-09-22
• 公開（公告）號: CN114256295A
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發明（設計）人: 梅文海;張宜馳
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/00;H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 張筱寧

1.一種顯示面板，包括基板，所述基板包括多個發光區，其特征在于，還包括像素阻擋層；

每一所述發光區包括：依次位于所述基板上的第一電極、功能層和量子點層；

所述像素阻擋層包括開口區和堤壩，所述堤壩位于相鄰所述發光區，且包圍所述第一電極。

2.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述堤壩在所述基板上的正投影區域與所述量子點層在所述基板上的正投影區域部分重疊。

3.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述第一電極在所述基板上的正投影區域的面積、所述功能層在所述基板上的正投影區域的面積和所述量子點層在所述基板上的正投影區域的面積均相等。

4.根據權利要求1-3任一項所述的顯示面板，其特征在于，所述功能層為電子傳輸層；

還包括：空穴傳輸層、空穴注入層和第二電極；

所述空穴傳輸層、所述空穴注入層和所述第二電極依次層疊設置在所述量子點層遠離所述基板的一側。

5.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1-4任一項所述的顯示面板。

6.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

通過構圖工藝在所述基板上制作膜層限定層，所述膜層限定層包括開口區域，所述開口區的位置與發光區的位置對應；

在所述開口區域內依次制作第一電極、功能層和量子點層，并去除所述膜層限定層；

通過構圖工藝制作像素阻擋層。

7.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述通過構圖工藝在所述基板上制作膜層限定層，所述膜層限定層包括開口區域，在所述開口區域內依次制作第一電極、功能層和量子點層，并去除所述膜層限定層，包括：

在所述基板上涂覆光刻膠，并對所述光刻膠曝光、顯影，形成第一膜層限定層，所述第一膜層限定層包括第一開口區域，所述第一開口區域的位置與紅色發光區的位置對應；

在所述第一開口區域內依次制作第一電極、電子傳輸層和紅色量子點層，并去除所述光刻膠；

在所述基板上涂覆光刻膠，并對所述光刻膠曝光、顯影，形成第二膜層限定層，所述第二膜層限定層包括第二開口區域，所述第二開口區域的位置與綠色發光區的位置對應；

在所述第二開口區域內依次制作第一電極、電子傳輸層和綠色量子點層，并去除光刻膠；

在所述基板上涂覆光刻膠，并對所述光刻膠曝光、顯影，形成第三膜層限定層，所述第三膜層限定層包括第三開口區域，所述第三開口區域的位置與藍色發光區的位置對應；

在所述第三開口區域內依次制作第一電極、電子傳輸層和藍色量子點層，并去除所述光刻膠。

8.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述通過構圖工藝在所述基板上制作膜層限定層，所述膜層限定層包括開口區域，在所述開口區域內依次制作第一電極、功能層和量子點層，并去除所述膜層限定層，包括：

在所述基板上依次制作犧牲層和光刻膠，并對所述犧牲層和光刻膠進行曝光、顯影和刻蝕，形成第四膜層限定層，所述第四膜層限定層包括第四開口區域，所述第四開口區域的位置與紅色發光區的位置對應；

在所述第四開口區域內依次制作第一電極、電子傳輸層和紅色量子點層，并去除所述犧牲層和所述光刻膠；

在所述基板上依次制作犧牲層和光刻膠，并對所述犧牲層和光刻膠進行曝光、顯影和刻蝕，形成第五膜層限定層，所述第五膜層限定層包括第五開口區域，所述第五開口區域的位置與綠色發光區的位置對應；

在所述第五開口區域內依次制作第一電極、電子傳輸層和綠色量子點層，并去除所述犧牲層和所述光刻膠；

在所述基板上依次制作犧牲層和光刻膠，并對所述犧牲層和光刻膠進行曝光、顯影和刻蝕，形成第六膜層限定層，所述第六膜層限定層包括第六開口區域，所述第六開口區域的位置與藍色發光區的位置對應；

在所述第六開口區域內依次制作第一電極、電子傳輸層和藍色量子點層，并去除所述犧牲層和所述光刻膠。