[發(fā)明專(zhuān)利]一種新型AlGaN基UV-LED器件及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011002799.X | 申請(qǐng)日: | 2020-09-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112103376A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊洪權(quán) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 陜西工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L33/20 | 分類(lèi)號(hào): | H01L33/20;H01L33/00;H01L33/06;H01L33/32 |
| 代理公司: | 陜西增瑞律師事務(wù)所 61219 | 代理人: | 孫衛(wèi)增 |
| 地址: | 712000 *** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 新型 algan uv led 器件 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供一種新型AlGaN基UV?LED器件及其制備方法,包括:襯底、AlN成核層、緩沖層、n?AlGaN層、AlInGaN多量子阱、p型AlGaN層和p型GaN冒層;在p型GaN冒層處設(shè)有窗口區(qū),p型GaN冒層采用纖鋅礦氮化硼作為p型層材料。運(yùn)用BN作為p型層,具有高導(dǎo)電率和對(duì)紫外線透明等優(yōu)點(diǎn),要優(yōu)于傳統(tǒng)的p型AlGaN層。將纖鋅礦結(jié)構(gòu)的氮化硼薄膜作為AlGaN基紫外LED的P型層材料,纖鋅礦結(jié)構(gòu)氮化硼的晶格常數(shù)與AlGaN材料較為匹配,相互間可以較好地進(jìn)行異質(zhì)外延;纖鋅礦結(jié)構(gòu)氮化硼的帶隙5.46eV,對(duì)大部分紫外波段都是透明的。設(shè)置窗口區(qū)可以有效的提高了光的輸出功率以及器件的外量子效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及微電子技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及到是一種新型AlGaN基UV-LED器件及其制備方法。
背景技術(shù)
研究、開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體深紫外發(fā)光二極管(LED)是當(dāng)今寬帶隙半導(dǎo)體光電子器件的研究熱點(diǎn)。目前所用的傳統(tǒng)紫外光源是氣體激光器和汞燈,存在著低效率、體積大、不環(huán)保和電壓高等缺點(diǎn)。與之相反,半導(dǎo)體紫外光源是一種固態(tài)紫外光源,它具有效率高、壽命長(zhǎng)、體積小、質(zhì)量輕、環(huán)境友好、電壓低等優(yōu)點(diǎn),在國(guó)防技術(shù)、信息科技、生物制藥、環(huán)境監(jiān)測(cè)、公共衛(wèi)生等領(lǐng)域具有及其廣大的應(yīng)用前景。高Al組分AlGaN材料是制備短波長(zhǎng)半導(dǎo)體發(fā)光器件不可替代的材料體系,無(wú)論在民用和軍用方面都有重大需求。在民用方面,AlGaN基紫外(UV)光源,具有無(wú)汞污染、波長(zhǎng)可調(diào)、體積小、集成性好、能耗低、壽命長(zhǎng)等諸多優(yōu)勢(shì),在殺菌消毒、癌癥檢測(cè)、皮膚病治療等醫(yī)療衛(wèi)生領(lǐng)域,在二惡英、多氯聯(lián)苯、農(nóng)藥等污染物快速分解、以及水與空氣凈化等環(huán)保領(lǐng)域,在高顯色指數(shù)白光照明能源領(lǐng)域,大容量信息傳輸和存儲(chǔ)等信息領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。
基于高Al組分AlGaN及其低維量子結(jié)構(gòu)材料的半導(dǎo)體UV發(fā)光器件的研究始于上世紀(jì)90年代,初期主要探索了波長(zhǎng)在370-400nm之間的近紫外LED的外延生長(zhǎng)和器件研制。隨著AlGaN研究的不斷進(jìn)步,高Al組分AlGaN材料質(zhì)量不斷改善,相繼有各種更短波長(zhǎng)的UV-LED的報(bào)導(dǎo)。2005年美國(guó)南卡羅來(lái)納州立大學(xué)的.Khan等人采用脈沖原子層MOCVD技術(shù),在藍(lán)寶石襯底上首次外延生長(zhǎng)出發(fā)光波長(zhǎng)305nm的UV-LED;隨后幾年,該研究組相繼報(bào)導(dǎo)了240-280nm的UV-LED;2006年日本NTT基礎(chǔ)研究實(shí)驗(yàn)室采用AlN基p-i-n結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)了發(fā)光波長(zhǎng)210nm的深紫外LED。雖然人們通過(guò)調(diào)節(jié)AlGaN材料的Al組分已實(shí)現(xiàn)了從210-360nm波段的UV-LED,但是隨著LED發(fā)光波長(zhǎng)變短,AlGaN材料的Al組分相應(yīng)增大,從材料外延生長(zhǎng)到器件制作的難度也隨之增大,光輸出功率逐漸降低。對(duì)于210nm的AlN基LED,在40mA注入電流的發(fā)光功率僅為0.02μW,離實(shí)用相距很遠(yuǎn)。近幾年,提高發(fā)光功率和效率成為國(guó)際上UV-LED研究的主要內(nèi)容。通過(guò)研究人員的不懈努力,UV-LED的發(fā)光效率有了一定進(jìn)步和提高,2008年日本理化研究所報(bào)導(dǎo)了發(fā)光波長(zhǎng)227nm的UV-LED,30mA下輸出功率0.15mW;2009年該研究所和松下電工合作,實(shí)現(xiàn)了波長(zhǎng)282nm、輸出功率10.6mW的UV-LED。然而,與GaN基藍(lán)光LED相比,目前AlGaN基UV-LED的發(fā)光功率和效率還遠(yuǎn)不能令人們滿(mǎn)意,波長(zhǎng)短于320nm的UV-LED的發(fā)光效率普遍在1%以下。導(dǎo)致高Al組分AlGaN基深紫外LED效率偏低的一個(gè)主要原因是高Al組分的AlGaN材料的p型電導(dǎo)率過(guò)低。因?yàn)長(zhǎng)ED是一種將電能轉(zhuǎn)換為光能的半導(dǎo)體器件。電光轉(zhuǎn)換過(guò)程主要由三步驟構(gòu)成,首先是電子和空穴的注入和傳輸?shù)交钚詤^(qū),其次是電子和空穴在活性區(qū)的輻射復(fù)合發(fā)出光子,最后是光從器件表面出來(lái)。AlGaN材料施主、受主雜質(zhì)離化能隨Al組分的增加而增大,降低了載流子的濃度,尤其是p型高Al組分的AlGaN材料的空穴濃度極低,同時(shí)補(bǔ)償中心和散射中心的增多造成其遷移率也降低,使得P型AlGaN材料的電導(dǎo)率極低,并無(wú)法與金屬電極形成良好的歐姆接觸,從而不得不采用P型GaN作為最頂上的電極接觸層。但由于GaN會(huì)強(qiáng)烈吸收紫外線,使得從正面出光的效率很低,因此傳統(tǒng)的AlGaN基紫外LED都不得不采用倒裝焊的封裝形式,讓光從底部藍(lán)寶石襯底出射,這增加了芯片的制造的復(fù)雜性,增加了成本和降低了良率。因此,如何獲得一種能夠與AlGaN材料體系匹配,具有良好P型導(dǎo)電率,而且對(duì)紫外線透明的P型材料,是目前AlGaN基紫外LED研發(fā)的關(guān)鍵問(wèn)題。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件





