[發(fā)明專利]圖像數(shù)據(jù)處理方法、裝置、設(shè)備以及介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011001720.1
• 申請日: 2020-09-22
• 公開（公告）號: CN112102480B
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳人望;曹煊;葛彥昊;汪鋮杰
• 申請（專利權(quán)）人: 騰訊科技（深圳）有限公司
• 主分類號: G06T17/00
• 分類號: G06T17/00;G06T15/04
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強;杜維

1.一種圖像數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，包括：

獲取第一三維對象模型，獲取所述第一三維對象模型對應(yīng)的初始紋理圖；

若所述初始紋理圖為分散類型的紋理圖，則對所述第一三維對象模型中頂點的第一三維空間坐標(biāo)進行降維，得到所述第一三維對象模型中頂點的二維空間坐標(biāo)；

獲取與所述二維空間坐標(biāo)相對應(yīng)的原始紋理坐標(biāo)，根據(jù)所述原始紋理坐標(biāo)對應(yīng)的紋理數(shù)據(jù)，生成所述第一三維對象模型對應(yīng)的目標(biāo)紋理圖；

獲取第二三維對象模型；所述第二三維對象模型為不攜帶目標(biāo)紋理圖的三維模型，所述第一三維對象模型中的對象形狀與所述第二三維對象模型中的對象形狀之間的形狀差異滿足形態(tài)相似條件；

獲取所述第二三維對象模型中的頂點在所述第一三維對象模型中的投影點，根據(jù)所述投影點確定所述第二三維對象模型中頂點的遷移紋理坐標(biāo)；

在所述目標(biāo)紋理圖中獲取所述遷移紋理坐標(biāo)對應(yīng)的紋理數(shù)據(jù)，根據(jù)所述遷移紋理坐標(biāo)對應(yīng)的紋理數(shù)據(jù)以及所述第二三維對象模型，生成攜帶所述紋理數(shù)據(jù)的目標(biāo)三維模型。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述第一三維對象模型中頂點的第一三維空間坐標(biāo)進行降維，得到所述第一三維對象模型中頂點的二維空間坐標(biāo)，包括：

根據(jù)所述第一三維對象模型中頂點的第一三維空間坐標(biāo)以及鄰域點參數(shù)，生成與所述第一三維對象模型相關(guān)聯(lián)的鄰接距離矩陣；

獲取所述鄰接距離矩陣中任意兩個頂點之間的最短路徑距離，根據(jù)所述最短路徑距離將所述鄰接距離矩陣轉(zhuǎn)換為最小路徑矩陣，根據(jù)所述最小路徑矩陣確定所述第一三維對象模型中頂點的二維空間坐標(biāo)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取第二三維對象模型，包括：

獲取三維模板模型，獲取所述三維模板模型中頂點的第二三維空間坐標(biāo)，根據(jù)所述第一三維對象模型中的對象形狀，獲取所述第二三維空間坐標(biāo)對應(yīng)的形變參數(shù)；

根據(jù)所述形變參數(shù)對所述第二三維空間坐標(biāo)進行變形，得到更新后的第二三維空間坐標(biāo)；

根據(jù)所述更新后的第二三維空間坐標(biāo)，將所述三維模板模型更新為所述第二三維對象模型。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取所述第二三維對象模型中的頂點在所述第一三維對象模型中的投影點，根據(jù)所述投影點確定所述第二三維對象模型中頂點的遷移紋理坐標(biāo)，包括：

獲取所述第二三維對象模型中的頂點b_i，確定所述頂點b_i對應(yīng)的頂點法線n_i；i為小于或等于所述第二三維對象模型中所包含的頂點數(shù)量的正整數(shù)；

根據(jù)所述頂點法線n_i，確定所述頂點b_i在所述第一三維對象模型中的投影點c_i；

在所述第一三維對象模型中確定所述投影點c_i所屬的目標(biāo)平面塊，根據(jù)所述目標(biāo)平面塊對應(yīng)的原始紋理坐標(biāo)，確定所述頂點b_i對應(yīng)的遷移紋理坐標(biāo)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述頂點法線n_i，確定所述頂點b_i在所述第一三維對象模型中的投影點c_i，包括：

獲取所述第一三維對象模型中頂點的第一三維空間坐標(biāo)，根據(jù)所述第一三維空間坐標(biāo)建立空間二分樹；

根據(jù)所述空間二分樹，在所述第一三維對象模型中獲取與所述第二三維對象模型中的頂點b_i具有最短距離的候選頂點，獲取與所述候選頂點相鄰的至少兩個平面塊；所述至少兩個平面塊包括所述目標(biāo)平面塊；

根據(jù)所述頂點法線n_i，在所述至少兩個平面塊中確定所述頂點b_i對應(yīng)的投影直線；

當(dāng)存在所述投影直線與所述至少兩個平面塊相交時，將所述投影直線與所述至少兩個平面塊的交點確定為所述投影點c_i。