[發明專利]基于次氯酸的消毒方法在審
| 申請號： | 202011001639.3 | 申請日： | 2020-09-22 |
| 公開（公告）號： | CN112138188A | 公開（公告）日： | 2020-12-29 |
| 發明（設計）人： | 李志鋼;尚毅鵬 | 申請（專利權）人： | 李志鋼;尚毅鵬 |
| 主分類號： | A61L2/22 | 分類號： | A61L2/22;A61L2/26 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 張成新 |
| 地址： | 101300 北京市順*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 次氯酸 消毒 方法 | ||
1.一種基于次氯酸的消毒方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S10：將次氯酸溶液加入霧化噴射系統；
步驟S40：所述次氯酸溶液經過所述霧化噴射系統霧化噴出次氯酸微粒，所述次氯酸微粒的粒徑小于等于0.5μm；
步驟S50：噴出的所述次氯酸微粒形成的消毒區域的高度與消毒對象的高度相適配，以均勻覆蓋所述消毒對象的表面。
2.根據權利要求1所述的消毒方法，其特征在于，所述消毒對象為人體，在所述步驟S50中，噴出所述次氯酸微粒形成的所述消毒區域的高度大于等于1.5m且小于等于2m。
3.根據權利要求1所述的消毒方法，其特征在于，所述霧化噴射系統具有多個沿豎直方向均勻分布的噴射孔，所述多個噴射孔位于所述消毒對象的一側并與所述消毒對象之間具有間隔距離，所述多個噴射孔的整體高度與所述消毒對象的高度相適配，所述步驟S50包括：
步驟S51：所述次氯酸微粒經多個所述噴射孔在所述消毒對象的側方噴出；
步驟S52：所述消毒對象與所述多個噴射孔以勻速相對轉動至少一周，以使噴出的所述次氯酸微粒均勻覆蓋所述消毒對象的表面。
4.根據權利要求3所述的消毒方法，其特征在于，在所述步驟S51中，所述次氯酸微粒的噴出距離大于等于所述消毒對象沿噴出方向的尺寸和所述間隔距離之和。
5.根據權利要求4所述的消毒方法，其特征在于，所述間隔距離小于等于10cm，所述噴出距離大于等于70cm小于等于110cm，所述次氯酸微粒的噴出速度大于等于1.8×1012個/s小于等于2.2×1012個/s。
6.根據權利要求1所述的消毒方法，其特征在于，所述步驟S10包括：
步驟S11：將所述次氯酸溶液加入所述霧化噴射系統，待加入的所述次氯酸溶液達到預設量后停止加液；
步驟S12：實時對所述霧化噴射系統內的所述次氯酸溶液進行檢測，若所述次氯酸溶液小于所述預設量，則控制啟動加液，直至達到所述預設量后停止。
7.根據權利要求1所述的消毒方法，其特征在于，還包括以下步驟：
步驟S20：通過激光裝置在預設位置形成激光指示標識，所述消毒對象到達所述激光指示標識處后停止，
其中，所述步驟S20與所述步驟S10以及所述步驟S20與所述步驟S40的順序并不固定。
8.根據權利要求1所述的消毒方法，其特征在于，還包括以下步驟：
步驟S30：檢測所述消毒對象是否處于消毒區域，若是，則控制所述霧化噴射系統啟動噴射所述次氯酸微粒，若否，則控制所述霧化噴射系統不啟動或停止噴射所述次氯酸微粒，
其中，所述步驟S30與所述步驟S10、所述步驟S30與所述步驟S40以及所述步驟S30與所述步驟S50的順序并不固定。
9.根據權利要求1所述的消毒方法，其特征在于，所述次氯酸溶液的濃度大于等于200mg/L。
10.根據權利要求1所述的消毒方法，其特征在于，所述霧化噴射系統包括霧化裝置和噴射裝置，所述霧化裝置與所述噴射裝置相連通，所述步驟S40包括：
步驟S41：所述次氯酸溶液經過所述霧化裝置霧化形成粒徑大于等于1μm小于等于10μm的次氯酸微粒；
步驟S42：將所述粒徑大于等于1μm小于等于10μm的次氯酸微粒通入到所述噴射裝置中，并經過所述噴射裝置噴出所述粒徑小于等于0.5μm的次氯酸微粒。
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