[發(fā)明專(zhuān)利]基于UiO-66-NH2 在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011000692.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111999265A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沈常宇;陳宏晨 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)計(jì)量大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/45 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/45 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 310018 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 uio 66 nh base sub | ||
本發(fā)明公開(kāi)了基于UiO?66?NH2的傾斜光纖光柵氫氣傳感器,由寬帶光源、偏振控制器、第一單模光纖、傾斜光纖光柵、第二單模光纖、光譜儀、氣室、UiO?66?NH2膜、氫氣氣體流量控制閥、氮?dú)鈿怏w流量控制閥、氫氣瓶、氮?dú)馄俊DMS組成;其中傾斜光纖光柵上面附有PDMS,通過(guò)PDMS再附上UiO?66?NH2膜。采用溶劑熱法制成的UiO?66?NH2粉末通過(guò)PDMS均勻的涂附在傾斜光纖光柵上作為氫氣敏感層。該發(fā)明具有響應(yīng)速度快,靈敏度高的優(yōu)點(diǎn),具有很好的實(shí)用價(jià)值和應(yīng)用前景。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明提出了基于UiO-66-NH2的傾斜光纖光柵氫氣傳感器,屬于光纖傳感技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
UiO-66-NH2是一種金屬有機(jī)骨架材料(MOFS),具有三維多孔結(jié)構(gòu),可以用于氫氣的吸附,當(dāng)氫氣進(jìn)入多孔中,其UiO-66-NH2的折射率將發(fā)生變化。
將采用溶劑熱法制成的UiO-66-NH2粉末均勻涂覆在傾斜光纖光柵上,在不同濃度氫氣下,UiO-66-NH2膜的折射率會(huì)不同。
由于聚二甲基硅氧烷(PDMS)彈性體有著優(yōu)良的彈性性能和良好的粘附性等優(yōu)點(diǎn),且受熱易膨脹,無(wú)毒、不易燃,因此在光纖傳感領(lǐng)域是一種很有前景的材料。
傾斜光纖光柵(TFBG)的特殊結(jié)構(gòu)導(dǎo)致了多種復(fù)雜的模式耦合的出現(xiàn)其中比較特殊的是纖芯模與包層模耦合,包層模的出現(xiàn)使得TFBG感應(yīng)環(huán)境折射率變的敏感程度比普通布拉格光纖光柵更高。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供基于UiO-66-NH2的傾斜光纖光柵氫氣傳感器,以UiO-66-NH2膜作為氫氣敏感層,UiO-66-NH2膜的有效折射率的改變引起的干涉圖形的波長(zhǎng)改變,來(lái)測(cè)定氫氣的濃度。
本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):基于UiO-66-NH2的傾斜光纖光柵氫氣傳感器,由寬帶光源(1),偏振控制器(2),第一單模光纖(3),傾斜光纖光柵(4),第二單模光纖(5),光譜儀(6),氣室(7),UiO-66-NH2膜(8),氫氣氣體流量控制閥(9),氮?dú)鈿怏w流量控制閥(10),氫氣瓶(11),氮?dú)馄?12),PDMS(13)組成,其特征在于:寬帶光源(1)與偏振控制器(2)左端連接,偏振控制器(2)右端與第一單模光纖(3)左端連接,第一單模光纖(3)右端與傾斜光纖光柵(4)左端連接,傾斜光纖光柵(4)的中心波長(zhǎng)為1548nm,涂附有PDMS(13),通過(guò)PDMS(13)再附上UiO-66-NH2膜(8),UiO-66-NH2膜(8)的厚度為300nm,傾斜光纖光柵(4)右端與第二單模光纖(5),左端連接,第二單模光纖(5)右端與光譜儀(6)左端連接,氣室(7)下端與氫氣氣體流量控制閥(9)上端和氮?dú)鈿怏w流量控制閥(10)上端連接,氫氣氣體流量控制閥(9)下端與氫氣瓶(11)連接,氮?dú)鈿怏w流量控制閥(10)下端與氮?dú)馄?12)連接,氫氣濃度發(fā)生變化時(shí),UiO-66-NH2膜(8)吸收了的氫氣量也發(fā)生變化,使得UiO-66-NH2膜(8)折射率發(fā)生變化,傾斜光纖光柵(4)的透射譜發(fā)生漂移,由此可以測(cè)得氫氣濃度及其變化量。
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