[發(fā)明專利]基于葉綠素?zé)晒獬上竦木G豆葉斑病的早期檢測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010999601.3 | 申請日: | 2020-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN112179881B | 公開(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳然然;陳新;李靈慧;袁星星;薛晨晨;陳景斌;閆強;林云 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇省農(nóng)業(yè)科學(xué)院 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 蘇虹 |
| 地址: | 210014 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 葉綠素 熒光 成像 綠豆 葉斑病 早期 檢測 方法 | ||
1.一種基于葉綠素?zé)晒獬上竦木G豆葉斑病的早期檢測方法,其特征在于包括如下步驟:
(1)選取同等種植條件下的綠豆植株,設(shè)置試驗組和對照組,試驗組在復(fù)葉期進行致病菌菌絲塊接種;對照組為未接菌綠豆植株;
(2)采用葉綠素?zé)晒獬上裣到y(tǒng)獲取試驗組和對照組的葉綠素?zé)晒鈹?shù)據(jù);
(3)采用主成分分析的方法對數(shù)據(jù)進行降維處理,以主成分分析降維后的數(shù)據(jù)作為輸入進行模型訓(xùn)練;對試驗組獲取的響應(yīng)最敏感的熒光參數(shù)和熒光圖像隨接種天數(shù)的變化趨勢進行分析;所述響應(yīng)最敏感的熒光參數(shù)包括光適應(yīng)熒光衰減率Rfd、非光化熒光猝滅qN、基于“Lake模型”的光適應(yīng)化學(xué)熒光猝滅qL和暗馳豫光化學(xué)熒光猝滅qP;
(4)基于上述響應(yīng)最敏感的熒光參數(shù)構(gòu)建綠豆葉斑病機器學(xué)習(xí)模型,采用Cubic-SVM算法模型對采集的葉綠素?zé)晒鈹?shù)據(jù)進行訓(xùn)練及預(yù)測;
步驟(1)中,試驗組接種包括在綠豆長出第一組復(fù)葉時,選擇健康復(fù)葉進行變灰尾孢菌菌絲塊的接種;
步驟(2)中,熒光成像前對植株進行暗處理,暗處理時間大于25分鐘;
步驟(2)中,測量得到的葉綠素?zé)晒鈪?shù)包括葉片的最小熒光Fo、最大熒光Fm、Kautsky誘導(dǎo)效應(yīng)下最大熒光Fp、光適應(yīng)下的瞬時熒光Ft-Ln、光適應(yīng)最大熒光Fm-Ln、光適應(yīng)穩(wěn)態(tài)熒光Ft-Lss、光適應(yīng)穩(wěn)態(tài)最大熒光Fm-Lss、暗馳豫即時熒光Ft-Dn、暗馳豫最大熒光Fm-Dn、光適應(yīng)熒光衰減率Rfd、非光化熒光猝滅qN、基于“Lake模型”的光適應(yīng)化學(xué)熒光猝滅qL和暗馳豫光化學(xué)熒光猝滅qP。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于葉綠素?zé)晒獬上竦木G豆葉斑病的早期檢測方法,其特征在于:步驟(2)中,分別取試驗組接種1天、2天、3天及相應(yīng)對照組的綠豆葉片進行數(shù)據(jù)獲取。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于葉綠素?zé)晒獬上竦木G豆葉斑病的早期檢測方法,其特征在于:葉綠素?zé)晒鉁y量完成后,使用FluorCam?7分析軟件圖像進行預(yù)處理;利用SPSS22.0軟件中的主成分分析對數(shù)據(jù)進行降維處理,識別算法分析采用MATLAB2019a完成,以PCA降維后數(shù)據(jù)為輸入,模型的驗證采用K折交叉驗證;模型評價采用預(yù)測準確率和AUC值為指標。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





