[發(fā)明專利]一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010996920.9
• 申請(qǐng)日: 2020-09-21
• 公開（公告）號(hào): CN112030144A
• 公開（公告）日: 2020-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 錢鋒;姚飛;王小東;廖運(yùn)華;梁錦東;陳進(jìn)福
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞帕薩電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/50
• 分類號(hào): C23C16/50;C23C16/455
• 代理公司: 深圳國海智峰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44489
• 代理人: 王慶海;劉軍鋒

1.一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，包括抽真空機(jī)構(gòu)、反應(yīng)機(jī)構(gòu)及移送機(jī)構(gòu)，所述抽真空機(jī)構(gòu)與所述反應(yīng)機(jī)構(gòu)相連通，所述移送機(jī)構(gòu)將待處理產(chǎn)品送入或取出所述反應(yīng)機(jī)構(gòu)，所述反應(yīng)機(jī)構(gòu)包括反應(yīng)腔室、電極組件及承載組件，所述電極組件設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的頂端并在所述反應(yīng)腔室的內(nèi)部移動(dòng)，所述承載組件設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的底端并在所述反應(yīng)腔室的內(nèi)部移動(dòng)，所述電極組件包括至少一個(gè)出氣裝置，所述出氣裝置從上往下依次包括呈中空狀的彌散管和彌散球頭，所述彌散管和所述彌散球頭均設(shè)有若干個(gè)均勻分布的彌散孔，所述電極組件為導(dǎo)電材料，所述電極組件加設(shè)偏壓電源。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述彌散管上套設(shè)有密封蓋板，所述密封蓋板在工作時(shí)蓋壓待處理產(chǎn)品并使待處理產(chǎn)品內(nèi)部真空度范圍為1Pa-100Pa，反應(yīng)腔室的真空度范圍為0.1Pa-10Pa。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述電極組件還包括第一升降機(jī)構(gòu)、上電極板及進(jìn)氣通道，所述第一升降機(jī)構(gòu)固定在所述反應(yīng)腔室的頂端，所述上電極板固定在所述第一升降機(jī)構(gòu)的升降軸上，所述上電極板與所述進(jìn)氣通道相連通，所述出氣裝置固定在所述上電極板的底端并與所述上電極板連通，所述上電極板與偏壓負(fù)極連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述上電極板開設(shè)有若干層彌散層，所述彌散層的寬度從上往下依次擴(kuò)大，相鄰兩彌散層之間設(shè)有彌散板，所述彌散板上設(shè)有若干個(gè)彌散通口，且從上往下彌散板的彌散通口依次變細(xì)，且位于底端的彌散板上設(shè)有若干個(gè)出氣裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述承載組件包括第二升降機(jī)構(gòu)、下電極板及定位件，所述第二升降機(jī)構(gòu)固定在所述反應(yīng)腔室的底端，所述下電極板固定在所述第二升降機(jī)構(gòu)的升降軸上，所述定位件設(shè)于所述下電極板上，所述下電極板與偏壓正極連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述移送機(jī)構(gòu)包括移送腔室、進(jìn)片件、移送驅(qū)動(dòng)裝置及導(dǎo)向桿，所述移送驅(qū)動(dòng)裝置固定在所述移送腔室的腔壁上，所述導(dǎo)向桿固定設(shè)置在所述移送腔室的內(nèi)部，所述進(jìn)片件與所述移動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置傳動(dòng)連接，所述進(jìn)片件與所述導(dǎo)向桿滑動(dòng)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述移送腔室的側(cè)壁上固定設(shè)有定位監(jiān)測裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述抽真空機(jī)構(gòu)包括干泵、羅茨泵，所述羅茨泵和反應(yīng)腔室之間設(shè)有角閥和蝶閥。