[發明專利]一種mini型MT插芯的APC研磨工藝及結構有效
| 申請號: | 202010989927.8 | 申請日: | 2020-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN112077705B | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發明(設計)人: | 歐陽艷;鄭鐘信;陳斌 | 申請(專利權)人: | 匯聚科技(惠州)有限公司 |
| 主分類號: | B24B19/22 | 分類號: | B24B19/22;B24B37/04 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 譚映華 |
| 地址: | 516029 廣東省惠*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 mini mt apc 研磨 工藝 結構 | ||
本申請涉及一種mini型MT插芯的APC研磨工藝及結構,包括以下步驟:S1,穿纖固化;S2,研磨預處理;S3,粗磨;S4,光磨;S5,拉纖;S6,拋光;S7,清洗檢驗。本申請的有益效果是:本申請采用研磨工藝,有效的解決了mini插芯APC研磨插芯破損、端面不良、插芯通道光纖高度不良的問題。且可同時研磨16個以上的插芯,極大的提高了插芯的加工效率。本申請的Mini型MT插芯APC斜度結構,能夠有效的提高插芯回損數值,性能更佳。
技術領域
本申請涉及多通道插芯加工工藝技術領域,更具體地,涉及一種mini型MT插芯的APC研磨工藝及結構。
背景技術
隨著4G技術的全面覆蓋、以及5G技術的大面積推廣,數據中心互聯、光纖傳感、新一代光纖等技術的快速發展,超大容量、超高速率、超長距離的光傳輸網絡將會成為5G數據中心建設的必備條件,而用于承載的光模塊的設備組件設備,則逐漸朝小型化、密集化方向發展。則對光纖組件的密集化,小型化,簡單化建設要求更高。
mini MT插芯是一種多通道數據傳輸的設備的重要核心,其體積比普通的MT插芯要小50%以上,更加匹配小型化、密集化光模塊的設備組件。但由于其體積小,壁厚薄,其加工難點在于研磨-拋光的設備與工藝。如何有效的固定mini型MT插芯,并且進行端面研磨和拋光工藝,不僅涉及到機械設備的改進,同時也需要對研磨工藝中所涉及的壓力,轉速、時間等精確控制。
現有的mini型MT插芯加工工藝,受技術的局限性,目前大規模的應用,也只有一種連接器物理接觸(physical contact,PC)型,其兩端光纖垂直端面直接接觸,其插回損值只能滿足IL≤0.7dB、RL≥25dB。但對于目前5G的大面積覆蓋的趨勢而言,長距離光纖鏈路中使用的高功率激光器對反射非常敏感,嚴重的反射甚至可能會對其造成損壞。而斜面物理接觸(Angled Physical Contact,APC)型結構,是現有公開技術,最適合大面積推廣、并有效解決低回損的問題的產品結構。
發明內容
本申請為克服現有技術中mini型MT插芯PC型的低回損、APC加工工藝不穩定的問題,本申請所要解決的技術問題是提供一種mini型MT插芯的APC研磨工藝及結構。
一種mini型MT插芯的APC研磨工藝,包括如下步驟:
S1:穿纖固化:將多根光纖穿入mini型MT插芯的光纖通道孔中;在mini插芯的注膠窗口注膠,并高溫烘烤mini型MT插芯;
S2:研磨預處理:將露出mini型MT插芯端面的光纖切除,并固定在研磨盤中,研磨盤與研磨裝置配合放置;
S3:粗磨:所述研磨裝置選用磨粒粒徑16um的研磨砂紙,所述研磨裝置在粗磨轉速與粗磨壓力的要求下,對所述插芯端面進行研磨,所述研磨時間為20s~40s;
S4:光磨:所述研磨裝置選用磨粒粒徑3um的研磨砂紙,所述研磨裝置在光磨轉速與光磨壓力下,對所述插芯端面進行研磨,所述研磨時間為60s~100s;
S5:拉纖:所述研磨裝置選用磨粒粒徑1um的研磨砂紙,并在研磨紙上附著研磨液,所述研磨裝置在拉纖轉速與拉纖壓力下,對所述插芯端面進行研磨,所述研磨拉纖時間為95s~120s;
S6:拋光:所述研磨裝置選用磨粒粒徑0.5um的研磨砂紙,所述研磨裝置在拋光轉速與拋光壓力下,對所述插芯端面進行研磨,所述研磨拉纖時間為70s~110s;
S7:清洗檢驗:對插芯進行端面清洗,并檢測性能。
所述S3工序中,選用磨粒粒徑16um的研磨砂紙,所述研磨裝置以70rmp~90rmp的粗磨轉速轉動,所述研磨裝置的粗磨壓力在3.0kg~4kg的負載下進行,研磨時間為20s~40s.
所述S3工序中,選用的研磨紙材質為碳化硅研磨紙。
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