[發明專利]一種彈性體為載體的抗菌、除臭塑料母粒及其制備方法在審
| 申請號： | 202010983577.4 | 申請日： | 2020-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN112048147A | 公開（公告）日： | 2020-12-08 |
| 發明（設計）人： | 賈緯民;安云;張垚宇 | 申請（專利權）人： | 高碑店市安普光電材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C08L53/02 | 分類號： | C08L53/02;C08L75/04;C08L23/08;C08L51/06;C08L23/06;C08K13/06;C08K9/00;C08K3/04;C08K5/098;C08K5/134;C08K5/526;C08J3/22;C08L55/02 |
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| 地址： | 071000 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 彈性體 載體 抗菌 除臭 塑料 及其 制備 方法 | ||
1.一種彈性體為載體的抗菌、除臭塑料母粒，其特征在于包括橡塑彈性體、深度氧化修飾的氧化石墨烯、復合抗氧化劑、相溶劑POE-g-MAH，各成分質量比為30～45：30～45：5～10：5～10，其中所述深度氧化修飾的氧化石墨烯是用氧化石墨烯經微波引發紫外線照射氧化。
2.根據權利要求1所述的母粒，其特征在于所述橡塑彈性體是SBS，TPU，POE，EVA中的任一種或多種彈性體。
3.根據權利要求2所述的母粒，其特征在于所述橡塑彈性體是SBS或POE。
4.根據權利要求1所述的母粒，其特征在于還包括硬脂酸鋅和聚乙烯蠟。
5.根據權利要求1所述的母粒，其特征在于所述深度氧化修飾的氧化石墨烯C/O比值為45～50。
6.根據權利要求1所述的母粒，其特征在于所述深度氧化修飾的氧化石墨烯晶體的無序排列表征，由拉曼光譜上偵測其ID/IG比值為1～1.2。
7.根據權利要求1所述的母粒，其特征在于所述深度氧化修飾的氧化石墨烯晶體的羥基官能團、羧基官能團、環氧基官能團、羰基官能團的濃度相對于普通氧化石墨烯均度提升2～3倍。
8.根據權利要求1所述的母粒，其特征在于所述紫外線照射氧化采用微波無極紫外燈模組發射185mm紫外線，所述微波頻率為24.5GHZ或950MHZ。
9.根據權利要求1所述的母粒，其特征在于所述復合抗氧化劑采用抗氧化劑1010及168以2～3:1的比例復配。
10.權利要求1-9任一所述的母粒的制備方法，其特征在于將各組分置于密煉機中，以密煉機在140-160℃溫度下混煉20-30mins，得混煉料投入單螺桿制粒機，四段溫度設定為160±2℃、165±2℃、170±2℃、165±2℃，轉速340-360rpm，切粒后氣冷方式制得母粒。
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