[發(fā)明專利]一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010982785.2 | 申請日: | 2020-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN112228903B | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張群;王紫欣;王曉燕;馬曉曦;高耀紅 | 申請(專利權(quán))人: | 西北工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | F23R3/12 | 分類號: | F23R3/12;F23R3/42 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 710072 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 縱向 發(fā)生器 通道 燃燒室 火焰 筒壁面 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu),包括通道的尺寸與布置,通道壁面上氣流孔和縱向渦發(fā)生器的尺寸與布置,冷壁面氣流孔的尺寸與布置以及熱壁面氣膜孔的尺寸與布置,三個(gè)通道分布于冷壁面與熱壁面之間,冷卻氣流經(jīng)過火焰筒冷壁面時(shí),從火焰筒冷壁面上分布的氣流孔進(jìn)入通道1中,進(jìn)入通道1的冷卻氣流經(jīng)過通道1和通道2之間的隔板下層布置的氣流孔進(jìn)入通道2中,通道1和通道2之間的隔板以及通道2和通道3之間的隔板上布置有縱向渦發(fā)生器,紊亂進(jìn)入通道2的冷卻氣流,強(qiáng)化換熱,冷卻氣流通過分布在通道2和通道3之間隔板上層的氣流孔進(jìn)入通道3中,進(jìn)入通道3的冷卻氣流從通道3底面的熱壁面上布置的氣膜孔流出,對熱壁面形成氣膜冷卻,通道1、通道2以及通道3由垂直于冷壁面和熱壁面之間的四個(gè)隔板形成,且通道1、通道2和通道3平行分布于冷熱壁面之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu),其特征在于:該結(jié)構(gòu)是由多個(gè)帶縱向渦發(fā)生器的三通道型冷卻結(jié)構(gòu)循環(huán)排布形成,且循環(huán)單元的布置個(gè)數(shù)范圍為236~559。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu),其特征在于:火焰筒外壁上氣流孔直徑的大小范圍為0.5~1.5mm,孔間距為3~6mm,其連通冷壁面外側(cè)與火焰筒壁板內(nèi)部帶縱向渦發(fā)生器的三通道型冷卻結(jié)構(gòu)之間的氣流通道,冷壁面氣流孔與水平方向即火焰筒軸線方向的夾角范圍為30°~90°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu),其特征在于:通道1的寬度范圍為1~3mm,通道兩側(cè)壁面厚度為0.2~0.5mm,且通道1與通道2之間會(huì)布置大量單排氣流孔,孔的直徑為0.2~1.2mm,孔間距為1~2mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu),其特征在于:通道2的寬度范圍為1~3mm,通道兩側(cè)壁面厚度為0.2~0.5mm,通道2內(nèi)兩側(cè)壁面上均布置有大量交錯(cuò)分布的縱向渦發(fā)生器,縱向渦發(fā)生器的高度范圍為0.2~0.8mm,弦長范圍為0.4~1.6mm,兩縱向渦發(fā)生器間的距離范圍為0.5~3mm,縱向渦發(fā)生器與橫流方向的夾角范圍為0°~60°,且通道2與通道3之間會(huì)布置大量單排氣流孔,孔的直徑為0.2~1.2mm,孔間距為1~2mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu),其特征在于:通道3的寬度范圍為1~3mm,通道兩側(cè)壁面厚度為0.2~0.5mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶縱向渦發(fā)生器的三通道型燃燒室火焰筒壁面結(jié)構(gòu),其特征在于:熱壁面上氣膜孔的直徑大小范圍為0.5~1.5mm,孔間距為3~6mm,其連通熱壁面內(nèi)側(cè)與火焰筒壁板內(nèi)部帶縱向渦發(fā)生器的三通道型冷卻結(jié)構(gòu)之間的氣流通道,熱壁面氣膜孔與水平方向的夾角范圍為30°~90°。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西北工業(yè)大學(xué),未經(jīng)西北工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010982785.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





