[發(fā)明專利]一種檢測方法和檢測設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010981796.9
• 申請日: 2020-09-17
• 公開（公告）號: CN114199891A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳魯;方一;黃有為;魏林鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳中科飛測科技股份有限公司
• 主分類號: G01N21/95
• 分類號: G01N21/95;H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李婷婷

1.一種檢測方法，其特征在于，包括：

提供檢測光，所述檢測光在待測物表面形成檢測光斑，所述檢測光經(jīng)所述待測物形成信號光；

探測所述待測物表面探測區(qū)內(nèi)的第一信號光，所述探測區(qū)與所述檢測光斑至少部分重疊；

調(diào)整所述第一信號光的檢測區(qū)域的尺寸；

其中，調(diào)整所述第一信號光的檢測區(qū)域的尺寸包括：

在對所述待測物遠離其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述第一信號光的檢測區(qū)域調(diào)整為第一尺寸，在對所述待測物靠近其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述第一信號光的檢測區(qū)域調(diào)整為第二尺寸，在垂直于掃描方向的方向上，所述第一尺寸大于所述第二尺寸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，調(diào)整所述第一信號光的檢測區(qū)域的尺寸包括：

調(diào)整所述檢測光斑的尺寸和/或調(diào)整所述探測區(qū)的尺寸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述提供檢測光之前還包括:

使所述探測區(qū)的中心與所述檢測光斑的中心重疊。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，在對所述待測物遠離其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述第一信號光的檢測區(qū)域調(diào)整為第一尺寸，在對所述待測物靠近其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述信號光的檢測區(qū)域調(diào)整為第二尺寸包括：

在對所述待測物遠離其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述檢測光斑的尺寸調(diào)整為第一尺寸，在對所述待測物靠近其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述檢測光斑的尺寸調(diào)整為第二尺寸，且在任一方向上，所述檢測光斑的尺寸小于等于所述探測區(qū)的尺寸；

和/或，在對所述待測物遠離其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第一尺寸，在對所述待測物靠近其中心的區(qū)域進行檢測時，將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第二尺寸，且在任一方向上，所述探測區(qū)的尺寸小于等于所述檢測光斑的尺寸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，將所述檢測光斑的尺寸調(diào)整為第一尺寸包括：控制第一擴束組件進入所述檢測光的光路，和/或，控制第一光闌組件離開所述檢測光的光路，以將所述檢測光斑的尺寸調(diào)整為第一尺寸；

將所述檢測光斑的尺寸調(diào)整為第二尺寸包括：控制所述第一擴束組件離開所述檢測光的光路，和/或，控制所述第一光闌組件進入所述檢測光的光路，以將所述檢測光斑的尺寸調(diào)整為第二尺寸。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第一尺寸，將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第二尺寸包括：

控制探測模塊感興趣的探測區(qū)的尺寸，以將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第一尺寸，將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第二尺寸；

其中，所述探測模塊用于探測所述待測物表面探測區(qū)內(nèi)的信號光。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第一尺寸包括：控制第二光闌組件離開所述信號光的光路，以將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第一尺寸；

將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第二尺寸包括：

控制所述第二光闌組件進入所述信號光的光路，以將所述探測區(qū)的尺寸調(diào)整為第二尺寸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在遠離所述待測物中心的方向上，所述待測物包括依次排列的第一區(qū)域至第N區(qū)域，N為大于或等于2的自然數(shù)，調(diào)整檢測所述待測物表面的所述信號光的區(qū)域的尺寸包括：

在對所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域依次進行檢測時，將所述檢測光斑的尺寸依次調(diào)大；

和/或，在對所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域依次進行檢測時，將所述探測區(qū)的尺寸依次調(diào)大。