[發明專利]一種對位標記及其制備方法有效
| 申請號： | 202010979393.0 | 申請日： | 2020-09-17 |
| 公開（公告）號： | CN112071823B | 公開（公告）日： | 2022-07-22 |
| 發明（設計）人： | 盧紹祥;陸聰;陳媛;郭芳芳;李俊文;曾森茂 | 申請（專利權）人： | 長江存儲科技有限責任公司 |
| 主分類號： | H01L23/544 | 分類號： | H01L23/544;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 駱宗力 |
| 地址： | 430074 湖北省武漢*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 對位 標記 及其 制備 方法 | ||
1.一種對位標記，其特征在于，所述對位標記用于多層層疊的功能膜層的對準，所述對位標記包括：
分別位于各層所述功能膜層上的標記圖案，所述標記圖案的延伸方向與所述標記圖案所在的功能膜層的表面平行；
用于固定所有所述標記圖案的固定膜層，所述固定膜層的延伸方向與所述功能膜層的表面相交。
2.根據權利要求1所述的對位標記，其特征在于，所述固定膜層與所有所述功能膜層的至少一條側邊固定連接。
3.根據權利要求2所述的對位標記，其特征在于，所述固定膜層與所有所述功能膜層的所有側邊固定連接。
4.根據權利要求1所述的對位標記，其特征在于，所述功能膜層形成過程中的臨時結構膜層的刻蝕速率大于所述固定膜層的刻蝕速率，且所述臨時結構膜層的刻蝕速率大于所述功能膜層的刻蝕速率。
5.根據權利要求1所述的對位標記，其特征在于，所述標記圖案包括覆蓋標記圖案、光刻對準標記圖案和L型對準圖案中的至少一種。
6.根據權利要求5所述的對位標記，其特征在于，所述覆蓋標記圖案包括多條沿第一方向延伸的第一標記和多條沿第二方向延伸的第二標記；
所述第一方向和第二方向均平行于所述功能膜層的表面，且所述第一方向和所述第二方向垂直。
7.一種對位標記的制備方法，其特征在于，包括：
在多層功能膜層的形成過程中，依次形成位于各層所述功能膜層上的標記圖案以及用于固定所有所述標記圖案的固定膜層；
所述標記圖案的延伸方向與所述標記圖案所在的功能膜層的表面平行；
所述固定膜層的延伸方向與所述功能膜層的表面相交。
8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述固定膜層與所有所述功能膜層的至少一條側邊固定連接。
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述固定膜層與所有所述功能膜層的所有側邊固定連接。
10.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，功能膜層形成過程中的臨時結構膜層的刻蝕速率大于所述固定膜層的刻蝕速率，且所述臨時結構膜層的刻蝕速率大于所述功能膜層的刻蝕速率。
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