[發明專利]一種氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 202010972402.3
• 申請日: 2020-09-16
• 公開（公告）號: CN112142450B
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 陳爍爍;江楠;孫健
• 申請（專利權）人: 南充三環電子有限公司;潮州三環（集團）股份有限公司
• 主分類號: C04B35/10
• 分類號: C04B35/10;C04B35/622
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 顏希文

1.一種氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體，其特征在于，所述陶瓷燒結體包含以下質量百分含量的成分：含鋯化合物、以氧化鋯的形式計算6.65-13.3 wt%，含釔化合物、以氧化釔形式計算0.35~0.7 wt%，含硅化合物、以氧化硅形式計算0.16~2.76 wt%，含鈣化合物、以氧化鈣形式計算0.035~0.6 wt%，含鎂化合物、以氧化鎂形式計算0.07~1.2 wt%，余量為氧化鋁；

其中，所述氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體中，單位面積內含鋯化合物晶體顆粒面積占比為2.2-4.3%。

2.根據權利要求1所述的氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體，其特征在于，所述陶瓷燒結體包含以下質量百分含量的成分：含鋯化合物、以氧化鋯的形式計算6.65-10.45 wt%，含釔化合物、以氧化釔形式計算0.35~0.55 wt%，含硅化合物、以氧化硅形式計算0.23~0.92 wt%，含鈣化合物、以氧化鈣形式計算0.05~0.2 wt%，含鎂化合物、以氧化鎂形式計算0.1~0.4wt%，余量為氧化鋁。

3.根據權利要求1所述的氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體，其特征在于，氧化鋯復合氧化鋁陶瓷晶體的平均粒徑D50為0.9-1.3 um，氧化鋁晶體的平均粒徑D50為1.0~1.4 um，氧化鋯晶體的平均粒徑D50為0.3~0.7 um。

4.根據權利要求3所述的氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體，其特征在于，所述氧化鋁晶體粒徑D90和D10的差值為2.7-3.1 um，所述氧化鋯晶體粒徑D90和D10的差值為1.1 -1.5 um。

5.根據權利要求1所述的氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體，其特征在于，氧化鋁晶粒的90%以上數量呈現柱狀外觀分布，并且其長徑比大于3。

6.一種包含權利要求1~5任一項所述氧化鋯復合氧化鋁陶瓷燒結體的氧化鋁基板。

7.如權利要求6所述氧化鋁基板的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

（1）配比稱量氧化鋁粉、氧化鋯粉和氧化釔粉，按摩爾比3:97將氧化釔和氧化鋯配比成3Y-ZrO₂粉，再將氧化鋁和3Y-ZrO₂粉各自與溶劑配成5wt%的懸浮液，再進行混合分散；

（2）將步驟（1）懸浮液取出，置于恒溫干燥箱中90℃下干燥，隨后將物料粉碎，過100目篩網待用；

（3）將過篩待用的混合粉體加入分散劑、粘接劑、增塑劑、潤滑劑進行球磨、脫泡、隨后進行流延成型得到生坯，將生坯至于1500℃-1600℃進行高溫燒結，結束后隨爐自然冷卻至室溫，即得氧化鋁陶瓷基板。

8.根據權利要求7所述的氧化鋁基板的制備方法，其特征在于，所述步驟（1）中，混合分散采用砂磨分散。