[發明專利]一種高聚物及其制備和應用

在審

• 申請號: 202010972001.8
• 申請日: 2020-09-16
• 公開（公告）號: CN112300327A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 薛建寧;宋長偉;羅祥平;盧琳;劉中河;孔令廣;李立東;張奕;曾常亮;鄧紹敏;羅強
• 申請（專利權）人: 北京市燃氣集團有限責任公司
• 主分類號: C08F251/00
• 分類號: C08F251/00;C08F220/06;C08F222/02;C08F4/40;C08F4/30;C23F11/173
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 李穎

1.一種高聚物，其特征在于：采用水溶液聚合法，在引發劑的作用下于水溶液中使IA和AA單體在CTS上進行接枝聚合，即得高聚物(CTS-IA-AA)；其中，引發劑為氧化還原體系(APS-SBS)和EDTA。

2.按權利要求1所述的高聚物，其特征在于：所述高聚物表面比較光滑且致密，呈現松散的棉花狀絮團結構。

3.按權利要求1或2所述的高聚物，其特征在于：所述CTS:IA:AA的質量比為(1～11)：(2～10)：(3～17)。

4.按權利要求1或2所述的高聚物，其特征在于：所述氧化還原體系于聚合反應體系內終濃度為1％-18wt％；APS與SBS之間質量比起1-2:1。

5.一種權利要求1所述的高聚物的制備方法，其特征在于：

將CTS和單體IA和AA按上述比例混合，并經水充分溶解，在N₂保護下，加入EDTA和氧化還原體系，于30～80℃水浴反應1～6h h，而后經醇使聚合物析出，再經醇洗滌離心收集沉淀、干燥即為高聚物(CTS-IA-AA)。

6.按權利要求5所述制備方法，其特征在于：所述CTS:IA:AA的質量比為(1～11)：(2～10)：(3～17)。

7.按權利要求5所述制備方法，其特征在于：所述引發劑于聚合體系內終濃度為1％-18wt％；APS與SBS之間質量比起1-2:1；所述EDTA與CTS的質量比為2:1。

8.一種權利要求1所述高聚物的應用，其特征在于：所述高聚物在作為金屬材料緩蝕劑中的應用。

9.按權利要求8所述的應用，其特征在于：所述緩蝕劑為高聚物添加至NaCl溶液；其中，高聚物的添加量為0.10-0.20g/L。