[發(fā)明專利]背光模組及顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010971771.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112086014B | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹炳坤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G09F9/00 | 分類號(hào): | G09F9/00 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 背光 模組 顯示裝置 | ||
1.一種背光模組,其特征在于,包括襯底、位于所述襯底一側(cè)的偏光層、位于所述襯底遠(yuǎn)離所述偏光層的一側(cè)的光學(xué)膜層以及位于所述襯底和/或所述光學(xué)膜層側(cè)邊的光源,所述光源位于所述光學(xué)膜層與所述偏光層之間;
其中,所述光學(xué)膜層包括多層呈凹狀或凸?fàn)畹木酃饽樱龉庠窗l(fā)出的光線經(jīng)過多層所述聚光膜層會(huì)聚至所述偏光層以及從所述偏光層上的第一開口垂直導(dǎo)出;
多層所述聚光膜層包括位于所述襯底上的增亮層、位于所述增亮層上的介質(zhì)層、位于所述介質(zhì)層上的第一聚光層以及位于所述第一聚光層上的反射層;
所述第一聚光層包括位于所述介質(zhì)層一側(cè)的第一聚光單元,所述光源發(fā)出的光線經(jīng)過所述第一聚光單元會(huì)聚至所述增亮層;
所述增亮層包括至少兩個(gè)增亮單元,所述增亮單元將來自于所述第一聚光層的光線會(huì)聚至所述偏光層以及從所述第一開口垂直導(dǎo)出;
所述增亮層還包括呈凸起狀的至少兩個(gè)擴(kuò)散單元,所述擴(kuò)散單元位于所述增亮層靠近所述介質(zhì)層的一側(cè),所述擴(kuò)散單元包括至少兩個(gè)朝向所述介質(zhì)層的第一凸起;
所述光源發(fā)出的光線經(jīng)所述擴(kuò)散單元入射至所述介質(zhì)層;
所述第一聚光單元包括至少兩個(gè)朝向所述介質(zhì)層的第二凸起,相鄰兩個(gè)所述第二凸起的間距小于相鄰兩個(gè)所述第一凸起的間距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于,所述第一凸起對(duì)應(yīng)設(shè)置于相鄰兩個(gè)所述第二凸起之間;
其中,所述第一凸起靠近所述介質(zhì)層的一側(cè)與所述第一聚光層遠(yuǎn)離所述介質(zhì)層的一側(cè)的間距小于或等于所述第二凸起靠近所述介質(zhì)層的一側(cè)與所述第一聚光層遠(yuǎn)離所述介質(zhì)層的一側(cè)的間距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于,多層所述聚光膜層還包括第二聚光層,所述第二聚光層位于所述增亮層與所述介質(zhì)層之間;或者,所述第二聚光層與所述增亮層一體設(shè)置;
所述第二聚光層包括至少兩個(gè)第二聚光單元,所述第一聚光單元會(huì)聚的光線經(jīng)所述第二聚光單元再次會(huì)聚以及導(dǎo)出至所述增亮層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的背光模組,所述第一聚光單元的第二凸起沿第一方向連續(xù)分布,所述第二聚光單元包括至少兩個(gè)第三凸起,所述第三凸起沿第二方向連續(xù)分布;
其中,所述第一方向與所述第二方向相互垂直。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于,所述背光模組還包括位于所述第一聚光層與所述反射層之間的發(fā)光層,所述發(fā)光層在所述光源發(fā)出的光的激發(fā)下發(fā)出可見光,可見光經(jīng)過多層所述聚光膜層會(huì)聚至所述偏光層以及從所述第一開口垂直導(dǎo)出。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于,所述介質(zhì)層的折射率小于所述增亮層的折射率以及所述第一聚光層的折射率。
7.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的背光模組、以及位于所述偏光層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)的顯示面板。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010971771.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





