[發(fā)明專利]一種鈦基稀土合金靶材及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010970959.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112144030A | 公開(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魯濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海晶維材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C22C14/00;C22C1/02;C22F1/18;C22F1/02 |
| 代理公司: | 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 湯東鳳 |
| 地址: | 200333 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 稀土 合金 及其 制備 方法 | ||
1.一種鈦基稀土合金靶材及其制備方法,其特征在于:所述鈦基稀土合金薄膜吸氣劑靶材的合金配方包括,以質(zhì)量百分比分別配比鈦基二元合金配方TiREx(wt%)、鈦基三元合金配方TiRE1xRE2y(wt%)、鈦基四元合金配方TiRE1xRE2yRE3z(wt%)、大于四元合金的鈦基多元稀土元素的復(fù)合添加;所述基稀土合金薄膜吸氣劑靶材采用如下制備方法制成,包括以下步驟:
A.熔煉:將配比好的原料裝入熔煉爐,熔煉爐中用坩堝尺寸為直徑~305×高度15~200mm高度;將爐內(nèi)真空度抽至0.09~1Pa以下;熔煉電流為600~2000A;熔煉過程中施加磁攪拌,熔煉成鑄錠;
B.致密化處理:在高純氬氣的氣氛爐中,對(duì)鑄錠進(jìn)行致密化處理;升溫加壓,溫度為900~1100℃,高純氬氣的壓力為1~2.5MPa,持續(xù)時(shí)間為1~4h;獲得高致密度及成分均勻的鈦基稀土合金鑄錠靶坯;
C.吸氣劑靶材的機(jī)加工:對(duì)鈦基稀土合金鑄錠靶坯進(jìn)行加工,獲得所需的鈦基稀土合金薄膜吸氣劑靶材,合金靶材的尺寸:直徑為1~8英寸靶材;或者矩形靶材尺寸為:長0~990mm×寬0~230mm×厚度4~10mm;
D.吸氣薄膜樣品制備:用其合金靶材,在磁控濺射上,在硅晶元基體樣品上進(jìn)行濺射,制備成吸氣薄膜;吸氣劑薄膜的激活溫度250~450℃,激活時(shí)間15~120min,初始吸氫速率18~90ml/s.cm2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦基稀土合金靶材及其制備方法,其特征在于:所述鈦基二元合金配方TiREx(wt%)的稀土RE的含量在0.01~45wt%,余量是Ti元素,其中RE代表稀土元素,RE分別為La、Ce、Nd、Pr、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sc、Y元素中的一種或者任意幾種稀土元素混合物的復(fù)合添加。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦基稀土合金靶材及其制備方法,其特征在于:所述鈦基三元合金配方TiRE1xRE2y(wt%)的稀土RE1的含量x在0.01~25wt%、稀土RE2的含量y在0.01~25wt%,余量是Ti元素;其中RE1、RE2代表稀土元素,為La、Ce、Nd、Pr、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sc、Y元素中的一種或者任意幾種稀土元素混合物的復(fù)合添加。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦基稀土合金靶材及其制備方法,其特征在于:所述鈦基四元合金配方TiRE1xRE2yRE3z(wt%)的稀土RE1的含量x在0.01~25wt%、稀土RE2的含量y在0.01~15wt%、稀土RE3的含量z在0.01~5wt%,余量是Ti元素;其中RE1、RE2、RE3代表稀土元素,為La、Ce、Nd、Pr、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sc、Y元素中的一種或者任意幾種稀土元素混合物的復(fù)合添加。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦基稀土合金靶材及其制備方法,其特征在于:所述大于四元合金的鈦基多元稀土元素的復(fù)合添加,其中稀土元素的總含量在0~45wt%之間,稀土元素La、Ce、Nd、Pr、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sc、Y元素中的一種或者任意幾種稀土元素混合物的復(fù)合添加。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦基稀土合金靶材及其制備方法,其特征在于:所述鈦基二元合金配方TiREx(wt%)、鈦基三元合金配方TiRE1xRE2y(wt%)、鈦基四元合金配方TiRE1xRE2yRE3z(wt%)、大于四元合金的鈦基多元稀土元素的復(fù)合添加的純度均大于99.90%。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





