[發明專利]一種用于EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統

有效

• 申請號: 202010965090.3
• 申請日: 2020-09-15
• 公開（公告）號: CN112162466B
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 孫海軼;王成;王關德;鄒家杰;李學紅;劉科;張宗昕;齊榮;冷雨欣
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05G2/00
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種用于EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統，其特征在于，包括：熔錫罐(3)、晶纖維加熱腔(4)、儲液罐(8)、廢液罐(12)、真空泵(16)、熱電偶(19)、水冷機(23)；

所述的熔錫罐(3)的頂部設有可開關的頂蓋，該頂蓋上設有供熔錫罐液位開關(21)插入的測量口以及觀察窗口(20,22)，在所述的頂蓋內盤有制冷水管，該制冷水管外接水冷機(23)；所述的熔錫罐(3)的上部設有抽氣口(18)和充氣口(2)，該充氣口(2)通過管道與氮氣瓶(26)相連，所述的熔錫罐(3)的上部還設有真空計(1)，用于測量熔錫罐(3)內真空度；所述的熔錫罐(3)的罐體部分置于所述的晶纖維加熱腔(4)中，該晶纖維加熱腔(4)中內置環形加熱電阻絲；所述的熔錫罐(3)的罐體上設有溫度測量口，供熱電偶(19)插入；所述的真空泵(16)通過管道與所述的抽氣口(18)相連，該管道上安裝有三通閥(17)，該三通閥(17)的另外兩端分別與儲液罐抽氣口(7)和廢液罐抽氣口(11)相連；

所述的熔錫罐(3)的底部經管道分別連接所述的儲液罐(8)和廢液罐(12)，在所述的熔錫罐(3)與所述的儲液罐(8)之間的管道內設有儲液罐高溫球閥(5)和過濾器(6)，所述的儲液罐高溫球閥(5)為自動控制閥門，用于控制錫液的流向，所述的過濾器(6)內置不銹鋼濾網，用于去除錫液中的大顆粒雜質；在所述的熔錫罐(3)與所述的廢液罐(12)之間的管道內設有廢液罐高溫球閥(15)，所述的廢液罐高溫球閥(15)為自動控制閥門，用于控制廢錫液的流向；所述的熔錫罐液位開關(21 )用于熔錫罐最低錫液位的判定，在熔錫罐內的液位到達最后1cm高度時報警。

2.根據權利要求1所述的用于EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統，其特征在于，所述的儲液罐(8)的頂部設有儲液罐抽氣口(7)和供儲液罐液位開關(10)插入的液位開關測量口；所述的儲液罐(8)的罐體部分置于儲液罐加熱套(9)內。

3.根據權利要求1所述的用于EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統，其特征在于，所述的廢液罐(12)的頂部設有廢液罐抽氣口(11)和供廢液罐液位開關(14)插入的液位開關測量口；所述的廢液罐(12)的罐體部分置于廢液罐加熱套(13)內。

4.根據權利要求2或3所述的用于EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統，其特征在于，所述的儲液罐(8)和廢液罐(12)采用不銹鋼材料制作，頂蓋采用法蘭盤設計，高溫密封圈密封。

5.根據權利要求1所述的用于EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統，其特征在于，所述的熔錫罐(3)主體呈圓柱形，下方呈錐形，由不銹鋼材料加工而成，頂蓋采用法蘭盤設計，高溫密封圈密封。

6.根據權利要求1所述的用于EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統，其特征在于，所述的熔錫罐(3)與所述的氮氣瓶(26)連接的管道內設有減壓閥(24)和氣壓閥(25)。