[發(fā)明專(zhuān)利]痘痘檢測(cè)設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010964114.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112200772A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳仿雄 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳數(shù)聯(lián)天下智能科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06T7/00 | 分類(lèi)號(hào): | G06T7/00;G06K9/62 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)粵海*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測(cè) 設(shè)備 | ||
1.一種痘痘檢測(cè)設(shè)備,其特征在于,包括存儲(chǔ)器以及一個(gè)或多個(gè)處理器,所述一個(gè)或多個(gè)處理器用于執(zhí)行存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中的與痘痘識(shí)別模型對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)程序,所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型包含卷積模塊、一級(jí)標(biāo)簽?zāi)K及二級(jí)標(biāo)簽?zāi)K,所述一級(jí)標(biāo)簽?zāi)K及所述二級(jí)標(biāo)簽?zāi)K分別與所述卷積模塊連接,所述卷積模塊用于對(duì)輸入所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型的痘痘圖像進(jìn)行卷積處理,得到第一特征圖像,所述第一特征圖像用于輸入所述一級(jí)標(biāo)簽?zāi)K及輸入所述二級(jí)標(biāo)簽?zāi)K,所述一級(jí)標(biāo)簽?zāi)K用于根據(jù)輸入的第一特征圖像輸出第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù),所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)用于指示所述痘痘圖像屬于各一級(jí)標(biāo)簽的可能性,所述一級(jí)標(biāo)簽是與痘痘分類(lèi)組合具有一對(duì)一關(guān)系的標(biāo)簽,所述痘痘分類(lèi)組合是按照特征相似度劃分的,且一個(gè)所述痘痘分類(lèi)組合包含至少兩個(gè)特征相似度滿(mǎn)足預(yù)設(shè)條件的痘痘類(lèi)型,所述二級(jí)標(biāo)簽?zāi)K用于根據(jù)輸入的第一特征圖像輸出第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù),所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)用于指示所述痘痘圖像屬于各二級(jí)標(biāo)簽的可能性,所述二級(jí)標(biāo)簽是與痘痘類(lèi)型具有一對(duì)一關(guān)系的標(biāo)簽;所述一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)程序被存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中;所述一個(gè)或多個(gè)處理器在執(zhí)行所述一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)程序時(shí),使得所述痘痘檢測(cè)設(shè)備執(zhí)行如下步驟:
獲取痘痘樣本數(shù)據(jù)集,所述痘痘樣本數(shù)據(jù)集中包含痘痘圖像、所述痘痘圖像的一級(jí)標(biāo)簽及二級(jí)標(biāo)簽;
利用所述痘痘圖像對(duì)預(yù)設(shè)的痘痘類(lèi)型識(shí)別模型進(jìn)行迭代訓(xùn)練,直至基于所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述痘痘圖像的一級(jí)標(biāo)簽及二級(jí)標(biāo)簽確定所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型收斂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述處理器在執(zhí)行所述利用所述痘痘圖像對(duì)預(yù)設(shè)的痘痘類(lèi)型識(shí)別模型進(jìn)行迭代訓(xùn)練,直至基于所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述痘痘圖像的一級(jí)標(biāo)簽及二級(jí)標(biāo)簽確定所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型收斂的步驟的過(guò)程中,具體執(zhí)行如下步驟:
將所述痘痘圖像輸入至所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型的卷積模塊中;
獲取所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模塊中所述一級(jí)標(biāo)簽?zāi)K輸出的所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù),及獲取所述二級(jí)標(biāo)簽?zāi)K輸出的所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù);
根據(jù)所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述痘痘圖像的一級(jí)標(biāo)簽及二級(jí)標(biāo)簽,確定所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型是否收斂;
若收斂,則確定收斂后的痘痘類(lèi)型識(shí)別模型為訓(xùn)練完成后的痘痘類(lèi)型識(shí)別模型;
若未收斂,則對(duì)所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型進(jìn)行參數(shù)優(yōu)化,并返回執(zhí)行所述將所述痘痘圖像輸入至所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型的卷積模塊中的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述處理器在執(zhí)行所述根據(jù)所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)、所述痘痘圖像的一級(jí)標(biāo)簽及二級(jí)標(biāo)簽,確定所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型是否收斂的步驟的過(guò)程中,具體執(zhí)行如下步驟:
利用所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)及所述痘痘圖像的一級(jí)標(biāo)簽,得到第一損失值,利用所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)及所述痘痘圖像的二級(jí)標(biāo)簽,得到第二損失值;
根據(jù)所述第一損失值及所述第二損失值確定所述痘痘類(lèi)型識(shí)別模型是否收斂。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,所述處理器在執(zhí)行所述利用所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)及所述痘痘圖像的一級(jí)標(biāo)簽,得到第一損失值,利用所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)及所述痘痘圖像的二級(jí)標(biāo)簽,得到第二損失值的步驟的過(guò)程中,具體執(zhí)行如下步驟:
將所述一級(jí)標(biāo)簽及所述二級(jí)標(biāo)簽分別轉(zhuǎn)換成one-hot類(lèi)型的標(biāo)簽,得到一級(jí)one-hot標(biāo)簽及二級(jí)one-hot標(biāo)簽;
利用所述第一預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)及所述一級(jí)one-hot標(biāo)簽得到所述第一損失值,利用所述第二預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)及所述二級(jí)one-hot標(biāo)簽得到所述第二損失值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述處理器在執(zhí)行所述利用所述痘痘圖像對(duì)預(yù)設(shè)的痘痘類(lèi)型識(shí)別模型進(jìn)行訓(xùn)練,得到訓(xùn)練后的痘痘類(lèi)型識(shí)別模型的步驟之前,還用于執(zhí)行如下步驟:
獲取所述痘痘樣本數(shù)據(jù)集中的最大像素值及最小像素值;
利用所述最大像素值及最小像素值,對(duì)所述痘痘樣本數(shù)據(jù)集中痘痘圖像包含的像素點(diǎn)的像素值進(jìn)行歸一化處理,得到優(yōu)化后的痘痘圖像。
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