[發(fā)明專利]一種酸性多表面清洗劑在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010963666.2 | 申請日: | 2020-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN112048397A | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 冉曉玲 | 申請(專利權(quán))人: | 上海毅諾生物科技有限公司 |
| 主分類號: | C11D1/831 | 分類號: | C11D1/831;C11D3/20 |
| 代理公司: | 上海九澤律師事務(wù)所 31337 | 代理人: | 周云 |
| 地址: | 200233 上海市徐*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 酸性 表面 洗劑 | ||
本發(fā)明公開了一種酸性多表面清洗劑,按質(zhì)量百分?jǐn)?shù),包括0.02%~2%的非離子表面活性劑、0.02%~2%的陰離子表面活性劑、0.02%~2%的Bola表面活性劑、1%~20%的有機酸和余量的水,所述Bola表面活性劑的結(jié)構(gòu)通式為:其中,R1為C8~C20的亞烷基,R2為氫原子、烷基或雜烷基,M為堿金屬。該清洗劑具有良好的去污能力,且使用弱酸對設(shè)備無腐蝕。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及清洗劑技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種酸性多表面清洗劑。
背景技術(shù)
對于儀器設(shè)備來說,通常具有金屬、玻璃等不同材質(zhì)的表面,儀器設(shè)備在使用一段時間后,在這些表面可能會形成不同的污垢,這些污垢包括無機鹽和油漬等,污垢的存在可能會造成儀器設(shè)備的使用性能下降以及處理能力降低。目前常用的污垢清洗方法通常有物理清洗和化學(xué)清洗兩種,而物理清洗又主要有水力清洗、氣-液脈沖法、反沖洗法、超聲波清洗法、機械清洗法及負(fù)壓清洗法;當(dāng)污染比較嚴(yán)重時,采用物理清洗方法已不能恢復(fù)通量時,通常需要采用化學(xué)方法清洗?;瘜W(xué)清洗本質(zhì)上是污染物與清洗劑之間的一個多相反應(yīng),傳統(tǒng)的化學(xué)清洗法是酸堿交替清洗,對污染特別嚴(yán)重的采用強堿和氧化劑(如次氯酸鈉)組合清洗,但使用次氯酸鈉或強堿清洗會對儀器設(shè)備本身的性能有一定的影響,在一定程度上會縮短儀器的使用壽命。因此,有必要研發(fā)一種對儀器設(shè)備無腐蝕,且能夠有效清洗各種儀器設(shè)備的酸性清洗劑。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于克服現(xiàn)有技術(shù)的上述不足,提供一種去污效果好的酸性多表面清洗劑。
其所要解決的技術(shù)問題可以通過以下技術(shù)方案來實施。
一種酸性多表面清洗劑,其特點為:
按質(zhì)量百分?jǐn)?shù),包括0.02%~2%的非離子表面活性劑、0.02%~2%的陰離子表面活性劑、0.02%~2%的Bola表面活性劑、1%~20%的有機酸和余量的水,所述Bola表面活性劑的結(jié)構(gòu)通式為:
其中,R1為C8~C20的亞烷基,R2為氫原子、烷基或雜烷基,M為堿金屬。
進(jìn)一步地,按質(zhì)量百分?jǐn)?shù),包括0.2~1%的非離子表面活性劑、0.4~2%的陰離子表面活性劑、0.1%~0.5%的Bola表面活性劑、5~15%的有機酸和余量的水。
優(yōu)選的,所述非離子表面活性劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.5%,所述陰離子表面活性劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1.5%,所述Bola表面活性劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%~0.5%,所述有機酸的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%,余量為水。
這個條件下的清洗劑的去除無機污垢和油污的綜合性能是最好的
進(jìn)一步地,所述Bola表面活性劑的結(jié)構(gòu)包括:
其中,所述R1表示C8~C20的亞烷基,所述M為堿金屬。
優(yōu)選的,所述R1表示C8~C12的亞烷基。
優(yōu)選的,所述M為鈉離子。
進(jìn)一步地,所述Bola表面活性劑的具體包括以下結(jié)構(gòu):
進(jìn)一步地,所述非離子表面活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚。
進(jìn)一步地,所述陰離子表面活性劑為烷基硫酸鈉和烷基磺酸鈉一種或兩種。
優(yōu)選的,所述陰離子表面活性劑為烷基硫酸鈉和烷基磺酸鈉的混合物。
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