[發(fā)明專利]一種鈮酸鋰和SU-8混合集成空芯光子晶體光纖陀螺有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010961700.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112097754B | 公開(公告)日: | 2022-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 佘玄;范文;張彩妮;陳侃;畢然;舒曉武 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01C19/72 | 分類號(hào): | G01C19/72 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈮酸鋰 su 混合 集成 光子 晶體 光纖 陀螺 | ||
本發(fā)明公開了一種鈮酸鋰和SU?8混合集成空芯光子晶體光纖陀螺。本發(fā)明包括第一芯片和第二芯片,第一芯片的一側(cè)和第二芯片一側(cè)拼接形成光纖陀螺;第一芯片包括從下到上依次層疊布置的硅襯底、二氧化硅緩沖層和鈮酸鋰單晶薄膜,所述鈮酸鋰單晶薄膜上集成布置光傳輸系統(tǒng);第二芯片包括從下到上依次層疊布置的光刻膠涂層和第二硅襯底;在光刻膠涂層上集成布置諧振腔光路。光纖陀螺中的光束在光傳輸系統(tǒng)和諧振腔光路中傳導(dǎo),通過探測(cè)器來檢測(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)信息。本發(fā)明提高了光學(xué)陀螺系統(tǒng)的集成度,提高光纖陀螺的可靠性和環(huán)境適應(yīng)性;采用球透鏡和平面分光鏡組合的方式,實(shí)現(xiàn)將波導(dǎo)中的光耦合進(jìn)入諧振腔的功能,實(shí)現(xiàn)光在腔內(nèi)諧振的功能,有效降低了腔內(nèi)損耗。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于集成光學(xué)和慣性傳感技術(shù)領(lǐng)域,是一種以鈮酸鋰和SU-8光刻膠為基底材料的集成式空芯光子晶體光纖陀螺。
背景技術(shù)
隨著慣性技術(shù)的發(fā)展,應(yīng)用領(lǐng)域?qū)T性系統(tǒng)的體積、重量要求越來越高,集成化、小型化、低成本和高穩(wěn)定性的光學(xué)陀螺設(shè)計(jì)成為必然。傳統(tǒng)光纖陀螺光學(xué)系統(tǒng)由各個(gè)分立光學(xué)器件組成,通過光纖耦合和熔接連接而成,這種形式的光纖陀螺工藝步驟繁瑣,結(jié)構(gòu)復(fù)雜不易安裝的問題,耦合點(diǎn)和熔接點(diǎn)的穩(wěn)定性可靠性較差,不能滿足慣性系統(tǒng)小型集成化技術(shù)日益發(fā)展的需求。
為了提高光學(xué)陀螺的性能指標(biāo),縮小光學(xué)陀螺的體積,光學(xué)系統(tǒng)集成化,即將光學(xué)陀螺中的光源、光波導(dǎo)、信號(hào)探測(cè)器、耦合器、偏振器和電光調(diào)制器一體集成在同一塊基片上是諧振式光學(xué)陀螺的發(fā)展趨勢(shì)。該光學(xué)系統(tǒng)集成化的具體目標(biāo)是所有的光學(xué)器件以最少的步驟一體集成在一個(gè)基片上。目前這方面的報(bào)道還較少。
目前在MEMS領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用的集成光學(xué)芯片是基于LiNbO3材料的集成芯片,LiNbO3電光相位調(diào)制器具有插入損耗低、半波電壓小、調(diào)制帶寬大等特點(diǎn),是實(shí)現(xiàn)閉環(huán)工作的理想器件。并且LiNbO3材料通過質(zhì)子交換技術(shù)形成的波導(dǎo)還具有起偏能力,能夠傳輸單偏振的TE模式光。
SU-8是一種具有高對(duì)比度的近紫外(波長(zhǎng)350nm-400nm)負(fù)性光刻膠,可以在某一平面上涂敷成膜,通過曝光顯影的方式在該平面上形成掩模版透光部分的圖形。由于其加工工藝成本較低、穩(wěn)定性強(qiáng)、良好的力學(xué)性能和生物兼容性等優(yōu)點(diǎn)被廣泛應(yīng)用于MEMS領(lǐng)域。例如,SU-8光刻膠可以制作微齒輪、為模具。在一些場(chǎng)合,SU-8光刻膠可以代替半導(dǎo)體刻蝕工藝做一些微結(jié)構(gòu),當(dāng)刻蝕深度需要達(dá)到幾百微米時(shí),需要很高的時(shí)間成本,而且刻蝕形貌如側(cè)壁粗糙度、展寬、側(cè)壁垂直度、底面均勻性很難控制。用SU-8光刻膠來代替需要刻蝕的材料,光刻顯影后即可得到理想的微結(jié)構(gòu),節(jié)約工藝時(shí)間,而且光刻得到的結(jié)構(gòu)幾乎沒有展寬,側(cè)壁的垂直度粗糙度也很好。一些SU-8光刻膠的型號(hào)旋涂厚度可以達(dá)到600um。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,基于薄膜型LiNbO3材料易于集成的特點(diǎn)、質(zhì)子交換鈮酸鋰波導(dǎo)技術(shù)、SU-8穩(wěn)定性高,力學(xué)性能良好以及空芯光子晶體光纖環(huán)大模場(chǎng)保偏能力強(qiáng)的特點(diǎn),提供一種集成度高、滿足互易性且制備工藝簡(jiǎn)單、易于封裝的集成式諧振式陀螺光學(xué)芯片。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
本發(fā)明包括第一芯片和第二芯片,第一芯片的一側(cè)和第二芯片一側(cè)拼接形成光纖陀螺;第一芯片包括從下到上依次層疊布置的硅襯底、二氧化硅緩沖層和鈮酸鋰單晶薄膜,所述鈮酸鋰單晶薄膜上集成布置光傳輸系統(tǒng),光傳輸系統(tǒng)包括窄線寬激光光源、輸入波導(dǎo)、第一Y分支波導(dǎo)、金屬電極調(diào)制器、兩個(gè)探測(cè)器和兩個(gè)第二Y分支波導(dǎo),輸入波導(dǎo)、第一Y分支波導(dǎo)和兩個(gè)第二Y分支波導(dǎo)構(gòu)成了鈮酸鋰波導(dǎo)且均嵌裝于鈮酸鋰單晶薄膜的表面內(nèi),輸入波導(dǎo)輸入端和窄線寬激光光源連接,輸入波導(dǎo)的輸出端和第一Y分支波導(dǎo)的集合端連接,第一Y分支波導(dǎo)的兩個(gè)分支端旁的鈮酸鋰單晶薄膜上各自均布置有金屬電極調(diào)制器,第一Y分支波導(dǎo)的兩個(gè)分支端分別和一個(gè)第二Y分支波導(dǎo)各自的一個(gè)分支端連接,兩個(gè)第二Y分支波導(dǎo)各自的另一個(gè)分支端分別和一個(gè)探測(cè)器連接,兩個(gè)第二Y分支波導(dǎo)各自的集合端分別連接到第二芯片上;
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G01C 測(cè)量距離、水準(zhǔn)或者方位;勘測(cè);導(dǎo)航;陀螺儀;攝影測(cè)量學(xué)或視頻測(cè)量學(xué)
G01C19-00 陀螺儀;使用振動(dòng)部件的轉(zhuǎn)動(dòng)敏感裝置;不帶有運(yùn)動(dòng)部件的轉(zhuǎn)動(dòng)敏感裝置
G01C19-02 .旋轉(zhuǎn)式陀螺儀
G01C19-56 .使用振動(dòng)部件的轉(zhuǎn)動(dòng)敏感裝置,例如基于科里奧利力的振動(dòng)角速度傳感器
G01C19-58 .不帶有運(yùn)動(dòng)部件的轉(zhuǎn)動(dòng)敏感裝置
G01C19-60 ..電子磁共振或核磁共振陀螺測(cè)量?jī)x
G01C19-64 ..利用薩格萘克效應(yīng),即利用逆向旋轉(zhuǎn)的兩電磁束之間旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生位移的陀螺測(cè)量?jī)x
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