[發(fā)明專利]復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010960643.6
• 申請(qǐng)日: 2020-09-14
• 公開（公告）號(hào): CN112064028B
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇偉;葉宗和
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市志凌偉業(yè)光電有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/18
• 分類號(hào): C23F1/18;H05K3/06
• 代理公司: 深圳市博銳專利事務(wù)所 44275
• 代理人: 歐陽(yáng)燕明

1.復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：包括

溶劑；

第一蝕刻劑，溶于所述溶劑中，所述第一蝕刻劑與所述溶劑的質(zhì)量體積比為1g:4L-1g:16L；所述第一蝕刻劑為硝酸鈰、硝酸銨和硝酸銨鈰中的至少一種；

第二蝕刻劑，溶于所述溶劑中，所述第二蝕刻劑與所述溶劑的體積比為1ml:1L-1ml:6L；所述第二蝕刻劑為硫酸、過氧硫酸和亞硝酸中的至少一種；

其中，所述第二蝕刻劑與第一蝕刻劑的體積質(zhì)量比介于1ml:1g至1ml:6g之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：還包括第三蝕刻劑，溶于所述溶劑中，所述第三蝕刻劑與所述溶劑的質(zhì)量體積比為1:2-1:21；所述第三蝕刻劑為鹽酸、次氯酸和高氯酸中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：所述第二蝕刻劑的體積、第三蝕刻劑的體積以及第一蝕刻劑的質(zhì)量三者之間的比值介于1:1:1-1:0.25:0.25之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：還包括溶于所述溶劑之中的緩蝕劑，其在所述蝕刻藥水中的濃度為0.01g/L-50g/L；所述緩蝕劑為氯化鹽類緩蝕劑、硫脲類化合物緩蝕劑和有機(jī)緩蝕劑中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：所述氯化鹽類緩蝕劑包括氯化鉀、氯化鋅、氯化鈣、氯化銨和氯化鉻中的至少一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：所述硫脲類化合物緩蝕劑包括硫脲、二氧化硫脲、N-甲基硫脲、1,3-二甲基硫脲、1,3-二乙基硫脲和苯基硫脲中的至少一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：所述有機(jī)緩蝕劑包括苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、巰基苯并噻唑、苯并三氮唑鈉、巰基苯并噻唑鈉、甲基苯并三氮唑和甲基異噻唑啉酮中的至少一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：還包括溶于所述溶劑之中的濕潤(rùn)劑，其在所述蝕刻藥水中的濃度為0.02g/L-0.5g/L，所述濕潤(rùn)劑包括壬基苯氧基聚氧基乙烯醇類化合物、季銨鹽類化合物和叔辛基苯氧基聚氧乙烯基醇類化合物中的至少一種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：還包括溶于所述溶劑之中的酸劑，其在所述蝕刻藥水中的濃度為0.01g/L-150g/L，所述酸劑為甲基磺酸。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合銅膜結(jié)構(gòu)用蝕刻藥水，其特征在于：所述溶劑為去離子水。