[發(fā)明專利]液晶顯示器及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010958542.5 | 申請日: | 2020-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN112068349A | 公開(公告)日: | 2020-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 海博 | 申請(專利權(quán))人: | 惠州市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
| 地址: | 516006 廣東省惠州市仲愷高新*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示器 及其 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示器的制造方法,其包括:
提供液晶顯示面板,其中所述液晶顯示面板包含在其相對兩側(cè)的入光面及出光面;
設(shè)置第一偏光片于所述液晶顯示面板的入光面或出光面上;以及
直接形成第一減反射膜于所述第一偏光片遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面。
2.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,
所述第一偏光片包括硬化層,設(shè)置在所述第一偏光片最遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的一側(cè),用以防止所述第一偏光片被刮傷;以及
所述第一減反射膜直接形成于所述第一偏光片的硬化層遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面上。
3.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,
所述第一偏光片設(shè)置于所述液晶顯示面板的入光面;
所述第一偏光片包括保護(hù)層,設(shè)置在所述第一偏光片最遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的一側(cè),用以隔絕水汽進(jìn)入所述第一偏光片;以及
所述第一減反射膜直接形成于所述第一偏光片的保護(hù)層遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面上。
4.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,
所述第一偏光片設(shè)置于所述液晶顯示面板的出光面;
所述第一偏光片包括防眩膜,設(shè)置在所述第一偏光片最遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的一側(cè);以及
所述第一減反射膜直接形成于所述第一偏光片的防眩膜遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面上。
5.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其還包括:
設(shè)置第二偏光片于所述液晶顯示面板遠(yuǎn)離所述第一偏光片的表面;以及
直接形成第二減反射膜于所述第二偏光片遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面。
6.一種液晶顯示器,其包括:
液晶顯示面板,包含在其相對兩側(cè)的入光面及出光面;
第一偏光片,設(shè)置于所述液晶顯示面板的入光面或出光面;以及
第一減反射膜,直接形成于所述第一偏光片遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面。
7.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示器,其特征在于,
所述第一偏光片包括硬化層,設(shè)置在所述第一偏光片最遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的一側(cè),用以防止所述第一偏光片被刮傷;以及
所述第一減反射膜直接形成于所述第一偏光片的硬化層遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面上。
8.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示器,其特征在于,
所述第一偏光片設(shè)置于所述液晶顯示面板的入光面;
所述第一偏光片包括保護(hù)層,設(shè)置在所述第一偏光片最遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的一側(cè),用以隔絕水汽進(jìn)入所述第一偏光片;以及
所述第一減反射膜直接形成于所述第一偏光片的保護(hù)層遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面上。
9.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示器,其特征在于,
所述第一偏光片設(shè)置于所述液晶顯示面板的出光面;
所述第一偏光片包括防眩膜,設(shè)置在所述第一偏光片最遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的一側(cè);以及
所述第一減反射膜直接形成于所述第一偏光片的防眩膜遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面上。
10.如權(quán)利要求6所述的液晶顯示器,其還包括:
第二偏光片,設(shè)置在所述液晶顯示面板遠(yuǎn)離所述第一偏光片的表面;以及
第二減反射膜,直接形成于所述第二偏光片遠(yuǎn)離所述液晶顯示面板的表面上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于惠州市華星光電技術(shù)有限公司,未經(jīng)惠州市華星光電技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010958542.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





