[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010958419.3 | 申請日: | 2020-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN112014993A | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊超群;黃長治 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1335;G03F7/00;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 汪阮磊 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制備 方法 | ||
本申請公開了一種顯示面板及其制備方法,所述制備方法包括:提供第一基板,在所述第一基板上形成陣列功能層;提供第二基板,在所述第二基板上形成量子點(diǎn)彩膜層;提供第三基板,在所述第三基板上形成偏光層;將所述偏光層從所述第三基板上剝離,并粘貼于所述量子點(diǎn)彩膜層上;以及將所述第一基板與所述第二基板進(jìn)行組立,并在所述第一基板與所述第二基板之間形成液晶層。相較直接在量子點(diǎn)彩膜上形成偏光層,由于基板比量子點(diǎn)彩膜的平面具有更為平坦的表面,有利于獲得更為均一的偏光層結(jié)構(gòu)。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種顯示面板及其制備方法。
背景技術(shù)
量子點(diǎn)由于激發(fā)波長寬,半寬峰窄,發(fā)光效率高,顏色可調(diào)節(jié),近年來被廣泛應(yīng)用在顯示領(lǐng)域。并且將其應(yīng)用在LCD(Liquid Crystal Display,液晶顯示器)中的彩膜中,既能較大程度的繼續(xù)沿用LCD制造工藝,同時又能提高顏色表現(xiàn),在色純度與色域上均有優(yōu)異的表現(xiàn),使得近年來逐漸引起面板行業(yè)的廣泛關(guān)注。
然而由于量子點(diǎn)是自發(fā)光材料,由其發(fā)出的光即使在顯示面板盒外貼加偏光片也無法實(shí)現(xiàn)光的通斷。采用納米壓印技術(shù)在量子點(diǎn)顯示面板盒內(nèi)制作內(nèi)置偏光片可以實(shí)現(xiàn)光路通斷。然而在實(shí)際操作中量子點(diǎn)彩膜很難做到絕對平坦,當(dāng)將納米級別的光柵結(jié)構(gòu)壓印到量子點(diǎn)彩膜之上時,其壓印形貌會受到基底平坦度的影響,納米壓印的殘膠量變得難以控制,蝕刻時就會導(dǎo)致不同位置的刻蝕結(jié)果存在差異,從而導(dǎo)致所制備的內(nèi)置偏光片的均一性差,影響顯示效果。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題,第一方面,本發(fā)明提供一種顯示面板的制備方法,包括如下步驟:
S10:提供第一基板,在所述第一基板上形成陣列功能層;
S20:提供第二基板,在所述第二基板上形成量子點(diǎn)彩膜層;
S30:提供第三基板,在所述第三基板上形成偏光層;
S40:將所述偏光層從所述第三基板上剝離,并粘貼于所述量子點(diǎn)彩膜層上;以及
S50:將所述第一基板與所述第二基板進(jìn)行組立,并在所述第一基板與所述第二基板之間形成液晶層。
進(jìn)一步地,所述S30包括如下步驟:
S301:提供第三基板,在所述第三基板上形成犧牲層;
S302:在所述犧牲層上形成偏光層;以及
S303:在所述偏光層上形成粘結(jié)層。
進(jìn)一步地,所述S40包括:將所述偏光層與所述犧牲層剝離,并藉由所述粘結(jié)層將所述偏光層黏附于所述量子點(diǎn)彩膜層上。
進(jìn)一步地,所述S302包括:
在所述犧牲層上依次形成第一無機(jī)層,金屬層以及第二無機(jī)層;
在所述第二無機(jī)層上形成光阻層;
使用納米壓印模板壓印所述光阻層,以形成光阻圖案層;
在所述光阻圖案層的遮蔽下,對所述第一無機(jī)層,金屬層以及第二無機(jī)層一并進(jìn)行蝕刻,以形成所述偏光層;以及
剝離去除所述光阻圖案層。
進(jìn)一步地,所述光阻圖案層包括多條間隔等距排布的條形光阻,使得形成的偏光層包括多條間隔等距排布的線柵結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步地,所述粘結(jié)層的材料為具有粘結(jié)功能的透明聚合物材料。
進(jìn)一步地,所述偏光層與所述犧牲層通過激光剝離工藝實(shí)現(xiàn)剝離。
進(jìn)一步地,在量子點(diǎn)彩膜層上還形成有包覆于所述量子點(diǎn)彩膜層的封裝層,以致所述偏光層粘貼于所述封裝層上。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





