[發(fā)明專(zhuān)利]彩色濾光片、圖像傳感器和攝像裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010954210.X | 申請(qǐng)日: | 2020-09-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114167650B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周健;賈南方;彭依丹;王龍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1343 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1343;G02F1/133;G02F1/1335;G02F1/01;G02F1/09;H01L27/146;G03B17/12 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人: | 武娜 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彩色 濾光 圖像傳感器 攝像 裝置 | ||
1.一種濾光模組,其特征在于,包括:彩色濾光片與控制組件;所述彩色濾光片包括第一基底、超表面結(jié)構(gòu)、介質(zhì)層與第二基底;
所述超表面結(jié)構(gòu)位于所述第一基底上,所述超表面結(jié)構(gòu)包括周期性排布的多個(gè)微結(jié)構(gòu),所述介質(zhì)層位于所述超表面結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離所述第一基底的一側(cè),且覆蓋所述超表面結(jié)構(gòu);所述介質(zhì)層的折射率與所述超表面結(jié)構(gòu)的折射率不同;所述第二基底位于所述介質(zhì)層遠(yuǎn)離所述第一基底的一側(cè);
所述控制組件被配置為調(diào)整所述介質(zhì)層的折射率,以調(diào)整通過(guò)所述彩色濾光片的可見(jiàn)光的波長(zhǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾光模組,其特征在于,所述介質(zhì)層的材料為液晶;所述控制組件包括第一透明電極、第二透明電極與控制器;所述第一透明電極位于所述第一基底遠(yuǎn)離所述第二基底的一側(cè),所述第二透明電極位于所述第二基底與所述介質(zhì)層之間;
所述控制器被配置為控制所述第一透明電極與所述第二透明電極之間的電壓,以控制所述液晶的折射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濾光模組,其特征在于,所述控制組件還包括液晶取向?qū)樱鲆壕∠驅(qū)游挥谒鼋橘|(zhì)層與所述第二透明電極之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾光模組,其特征在于,所述介質(zhì)層的材料為熱光材料;所述控制組件包括加熱片與控制器,所述加熱片位于所述第一基底上,且環(huán)繞所述超表面結(jié)構(gòu);所述加熱片與所述控制器連接;
所述控制器被配置為控制所述加熱片對(duì)所述介質(zhì)層加熱,以控制所述熱光材料的折射率。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濾光模組,其特征在于,所述熱光材料為SU-8膠、TZ001或PMMA。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾光模組,其特征在于,所述介質(zhì)層的材料為磁光材料;所述控制組件包括控制器與光源,所述光源與所述控制器連接;
所述控制器被配置為控制所述光源發(fā)射的光的頻率、偏振態(tài)與光強(qiáng)中的任意一種或任何組合,以控制所述磁光材料的折射率。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的濾光模組,其特征在于,所述磁光材料為鐵電材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾光模組,其特征在于,所述彩色濾光片還包括第一反射鏡與第二反射鏡,所述第一反射鏡位于所述第一基底遠(yuǎn)離所述第二基底的一側(cè),所述第二反射鏡位于所述第二基底遠(yuǎn)離所述第一基底的一側(cè),所述第一反射鏡與第二反射鏡形成光學(xué)諧振腔。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾光模組,其特征在于,所述第一反射鏡為分布式布拉格反射鏡,所述第二反射鏡為分布式布拉格反射鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的濾光模組,其特征在于,所述第一反射鏡包括在垂直于所述第一基底的方向上交替排布的第一膜層與第二膜層,所述第二反射鏡包括在垂直于所述第一基底的方向上交替排布的所述第一膜層與所述第二膜層;
所述第一膜層的厚度與所述第一膜層的折射率的乘積為所述波長(zhǎng)的四分之一;所述第二膜層的厚度與所述第二膜層的折射率的乘積為所述波長(zhǎng)的四分之一;
所述第一膜層的材料為Si3N4,所述第二膜層的材料為SiO2;或,所述第一膜層的材料為a-Si,所述第二膜層的材料為SiO2;或,所述第一膜層的材料為p-Si,所述第二膜層的材料為SiO2。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾光模組,其特征在于,所述微結(jié)構(gòu)的材料為a-Si、p-Si、Si3N4、SiO2、TiO2或Ge;
所述微結(jié)構(gòu)為柱狀,所述微結(jié)構(gòu)的橫截面為長(zhǎng)方形、正方形、圓形或橢圓形;或
所述微結(jié)構(gòu)為圓球或橢圓球體。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010954210.X/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線(xiàn)性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





