[發(fā)明專利]制備全生物降解地膜的專用料及其制備的全降解地膜及該地膜制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010953758.2
• 申請日: 2020-09-11
• 公開（公告）號: CN112063125A
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發(fā)明（設計）人: 陳雷;丁建萍;羅子輝
• 申請（專利權）人: 新疆藍山屯河高端新材料工程技術研究中心（有限公司）;新疆藍山屯河化工股份有限公司
• 主分類號: C08L67/02
• 分類號: C08L67/02;C08L69/00;C08L35/06;C08L91/06;C08K13/06;C08K9/00;C08K3/34;C08K3/26;C08K3/36;C08K3/04;C08J5/18;C08J3/22;A01G13/02
• 代理公司: 烏魯木齊恒智專利商標代理事務所(普通合伙) 65102
• 代理人: 李靖

1.一種制備全生物降解地膜的專用料，其特征在于：

由如下重量份原料組成：PBAT 40～80、PBS 1～30、PPC 0～20、滑石粉0.1～20、潤滑劑0.1～5、納米活性碳酸鈣0.1～30、納米二氧化硅0.1～5、SMA 0.1～5、相容劑0.01～1；

制備全生物降解地膜的專用料通過以下步驟制備：

(1)、熱烘脫水：將PBAT、PPC、黑色母粒50～80℃熱烘至含水率0.05％以下，熱烘時間0～5h；

(2)、物料混合：將PBAT、PBS、PPC、滑石粉、納米活性碳酸鈣、潤滑劑、相容劑、SMA按照配比投入高混機內，按照500～1000r/min混合50～120s，1000～2000r/min混合0～60s混合均勻；

所述滑石粉、納米活性碳酸鈣需要預先熱處理，即將滑石粉、活性碳酸鈣在60～110℃熱烘至含水率0.05％以下，熱烘時間0～3h，之后再降溫至室溫；

(3)、擠出造粒：將混合物料投入雙螺桿擠出機，擠出溫度160℃～185℃，制得全生物降解地膜的專用料。

2.根據權利要求1所述的制備全生物降解地膜的專用料，其特征在于：所述的PBS熔指在15～25g/10min。

3.根據權利要求1所述的制備全生物降解地膜的專用料，其特征在于：所述的PBAT熔指在2～6g/10min，端羧基＜25。

4.根據權利要求1所述的制備全生物降解地膜的專用料，其特征在于：所述的滑石粉、納米活性碳酸鈣、納米二氧化硅粒徑＜5μm。

5.根據權利要求1所述的制備全生物降解地膜的專用料，其特征在于：

所述的相容劑由環(huán)氧型相容劑、過氧型相容劑、異氰酸酯類相容劑其中一種或多種按照任意配比混合；

或者，所述的潤滑劑由液體石蠟、色拉油、硬脂酸單甘脂、聚乙烯蠟其中一種或多種按照任意配比混合。

6.根據權利要求1所述的制備全生物降解地膜的專用料，其特征在于：原料還包含黑色母粒0.1～10、紫外吸收劑0.1～5、光穩(wěn)定劑0.1～5、抗氧劑0.1～5；

所述黑色母粒為炭黑和PBAT按照重量比1：1～10的比例混合并擠出得到；

所述的抗氧劑由抗氧劑1010、抗氧劑168、抗氧劑264、抗氧劑1076、抗氧劑B215、抗氧劑B225其中一種或多種按照任意配比混合；

或者，所述的紫外吸收劑由UV531、UV234、UV326、UV327、UV328、UV329、UV1130其中一種或多種按照任意配比混合；

或者，所述的光穩(wěn)定劑由光穩(wěn)定劑770、光穩(wěn)定劑944、光穩(wěn)定劑622、光穩(wěn)定劑2002、光穩(wěn)定劑783、光穩(wěn)定劑2020其中一種或多種按照任意配比混合。

7.根據權利要求1所述的制備全生物降解地膜的專用料，其特征在于：步驟(3)擠出造粒得到的專用料直徑2～3.5mm，長度2.5～3.5mm。

8.一種由含PBS增強的高強度顆粒制備的全生物降解地膜，其特征在于：使用如權利要求1～6任意權利要求所制備得到的制備全生物降解地膜的該專用料投入吹膜機進料口，螺桿溫度120℃～190℃，三通溫度140～190℃，模頭加工溫度140～190℃。

9.一種全生物降解地膜的制備方法，其特征在于：

選擇重量份原料：PBAT 40～80、PBS 1～30、PPC 0～20、滑石粉0.1～20、潤滑劑0.1～5、納米活性碳酸鈣0.1～30、納米二氧化硅0.1～5、黑色母粒0.1～10、紫外吸收劑0.1～5、光穩(wěn)定劑0.1～5、抗氧劑0.1～5、SMA 0.1～5、相容劑0.01～1；

所述黑色母粒為炭黑和PBAT按照重量比1：1～10的比例混合并擠出得到；

制備步驟如下：

(1)、熱烘脫水：將PBAT、PPC、黑色母粒58℃熱烘至含水率0.05％以下，熱烘時間0～5h；

(2)、物料混合：將PBAT、PBS、PPC、滑石粉、納米活性碳酸鈣、潤滑劑、抗氧劑、交聯劑、色母粒、紫外吸收劑、光穩(wěn)定劑、相容劑、SMA按照配比投入高混機內，按照500-1000r/min混合50-120s，1000-2000r/min混合0-60s混合均勻；

所述滑石粉、納米活性碳酸鈣需要預先熱處理，即將滑石粉、活性碳酸鈣在60-110℃熱烘至含水率0.05％以下，熱烘時間0-3h，再冷卻至室溫；

(3)、擠出造粒：將混合物料投入雙螺桿擠出機，擠出溫度160℃～185℃，制得全生物降解地膜的專用料；

(4)、吹膜：將步驟(3)制備得到的物料投入吹膜機，螺桿溫度120℃～190℃，三通溫度140～190℃，模頭加工溫度140～190℃，吹膜厚度7～15μm；

所述的PBS熔指在15～25g/10min；

所述的PBAT熔指在2～6g/10min，端羧基＜25；

所述的滑石粉、納米活性碳酸鈣、納米二氧化硅粒徑＜5μm；

所述的抗氧劑由抗氧劑1010、抗氧劑168、抗氧劑264、抗氧劑1076、抗氧劑B215、抗氧劑B225其中一種或多種按照任意配比混合；

所述的紫外吸收劑由UV531、UV234、UV326、UV327、UV328、UV329、UV1130其中一種或多種按照任意配比混合；

所述的光穩(wěn)定劑由光穩(wěn)定劑770、光穩(wěn)定劑944、光穩(wěn)定劑622、光穩(wěn)定劑2002、光穩(wěn)定劑783、光穩(wěn)定劑2020其中一種或多種按照任意配比混合；

所述的相容劑由環(huán)氧型相容劑、過氧型相容劑、異氰酸酯類相容劑其中一種或多種按照任意配比混合；

所述的潤滑劑由液體石蠟、色拉油、硬脂酸單甘脂、聚乙烯蠟其中一種或多種按照任意配比混合。