[發(fā)明專利]加熱裝置及具有其的MOCVD設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010953754.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114164415A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 聚燦光電科技(宿遷)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/46 | 分類號(hào): | C23C16/46 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 沈曉敏 |
| 地址: | 223800 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加熱 裝置 具有 mocvd 設(shè)備 | ||
1.一種加熱裝置,適用于MOCVD設(shè)備,所述加熱裝置外輪廓大致呈圓形,其特征在于,
所述加熱裝置沿其周向分為偶數(shù)個(gè)扇形區(qū);
每個(gè)所述扇形區(qū)內(nèi)分為依次交替排布的多個(gè)加熱區(qū)和多個(gè)空置區(qū),所述加熱裝置內(nèi)設(shè)有加熱元件,所述加熱元件至少覆蓋部分所述加熱區(qū);
于相鄰的兩個(gè)所述扇形區(qū)內(nèi),一所述扇形區(qū)內(nèi)的所述加熱區(qū)與另一所述扇形區(qū)內(nèi)的所述空置區(qū)在分布位置上呈鏡像對(duì)稱關(guān)系。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,每個(gè)所述扇形區(qū)的圓心角角度相等。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱裝置,其特征在于,所述加熱裝置沿其一中軸線分為對(duì)稱分布的第一扇形區(qū)和第二扇形區(qū),所述第一扇形區(qū)內(nèi)分為依次交替排布的多個(gè)第一加熱區(qū)和多個(gè)第一空置區(qū),所述第二扇形區(qū)內(nèi)分為依次交替排布的多個(gè)第二加熱區(qū)和多個(gè)第二空置區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置,其特征在于,所述第一加熱區(qū)和所述第一空置區(qū)的分界線為以所述加熱裝置中心為圓心的多個(gè)同心半圓;所述第二加熱區(qū)和所述第二空置區(qū)的分界線為以所述加熱裝置中心為圓心的多個(gè)同心半圓。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置,其特征在于,所述第一加熱區(qū)和所述第一空置區(qū)的分界線垂直于所述中軸線;所述第二加熱區(qū)和所述第二空置區(qū)的分界線垂直于所述中軸線。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置,其特征在于,所述第一加熱區(qū)和所述第一空置區(qū)的分界線平行于所述中軸線;所述第二加熱區(qū)和所述第二空置區(qū)的分界線平行于所述中軸線。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置,其特征在于,所述加熱元件為連續(xù)彎折分布于所述加熱區(qū)內(nèi)的電阻絲或電阻片,至少于一個(gè)所述扇形區(qū)內(nèi),所述電阻絲或所述電阻片至少包括單位長(zhǎng)度電阻不同的兩部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加熱裝置,其特征在于,所述電阻絲或所述電阻片沿所述加熱裝置半徑方向由內(nèi)向外單位長(zhǎng)度電阻逐漸升高。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加熱裝置,其特征在于,位于所述加熱裝置半徑方向由內(nèi)向外一固定位置處的部分所述電阻絲或所述電阻片的單位長(zhǎng)度電阻低于其他區(qū)域所述電阻絲或所述電阻片的電阻。
10.一種MOCVD設(shè)備,包括:反應(yīng)室、位于所述反應(yīng)室內(nèi)的基片承載盤(pán)和位于基片承載盤(pán)下方的加熱裝置、及源供給系統(tǒng),其特征在于,所述加熱裝置為權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的加熱裝置。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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