[發(fā)明專利]OCR文字位置的校正方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)及電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010948477.8
• 申請(qǐng)日: 2020-09-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112085014A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王川;苗新宇;魏小紅;劉楠;顏永陽(yáng);王雨楠;王洪;雷一鳴
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G06K9/20
• 分類號(hào): G06K9/20;G06K9/32;G06T5/00
• 代理公司: 北京金信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225
• 代理人: 莊何媛;范繼晨

1.一種OCR文字位置的校正方法，其特征在于，包括：

根據(jù)待處理圖片的OCR識(shí)別結(jié)果，確定所述識(shí)別結(jié)果中每個(gè)文字塊的第一斜率；

根據(jù)所有所述文字塊的所述第一斜率，擬合傾斜場(chǎng)函數(shù)；

根據(jù)所述傾斜場(chǎng)函數(shù)，確定每個(gè)所述文字塊的偏移量；

基于所述偏移量對(duì)所述偏移量對(duì)應(yīng)的文字塊的位置進(jìn)行校正。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述根據(jù)待處理圖片的OCR識(shí)別結(jié)果，確定所述識(shí)別結(jié)果中每個(gè)文字塊的第一斜率，包括：

在所述識(shí)別結(jié)果中確定每個(gè)所述文字塊的頂點(diǎn)坐標(biāo)；

根據(jù)每個(gè)所述文字塊的所述頂點(diǎn)坐標(biāo)確定所述文字塊的第一斜率，并通過(guò)每個(gè)所述文字塊的中心點(diǎn)坐標(biāo)表征所述文字塊。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的校正方法，其特征在于，所述根據(jù)所有所述文字塊的所述第一斜率，擬合傾斜場(chǎng)函數(shù)，包括：

基于每個(gè)所述文字塊的中心點(diǎn)坐標(biāo)和三次曲面函數(shù)確定每個(gè)所述文字塊對(duì)應(yīng)的第二斜率；

基于每個(gè)所述文字塊的所述第一斜率和第二斜率，通過(guò)預(yù)設(shè)回歸算法對(duì)所述三次曲面函數(shù)的參數(shù)進(jìn)行調(diào)整；

在所述第一斜率和所述第二斜率之間的差值最小時(shí)，確定所述當(dāng)前的三次曲面函數(shù)為傾斜場(chǎng)函數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的校正方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)回歸算法至少包括嶺回歸算法。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的校正方法，其特征在于，所述根據(jù)所述傾斜場(chǎng)函數(shù)，確定每個(gè)所述文字塊的偏移量，包括：

在每個(gè)所述文字塊的中心點(diǎn)坐標(biāo)處對(duì)所述傾斜場(chǎng)函數(shù)進(jìn)行離散積分，確定所述離散積分的積分結(jié)果為所述每個(gè)所述文字塊的偏移量。

6.一種OCR文字位置的校正裝置，其特征在于，包括：

斜率估算模塊，用于根據(jù)待處理圖片的OCR識(shí)別結(jié)果，確定所述識(shí)別結(jié)果中每個(gè)文字塊的第一斜率；

擬合模塊，用于根據(jù)所有所述文字塊的所述第一斜率，擬合傾斜場(chǎng)函數(shù)；

偏移量計(jì)算模塊，用于根據(jù)所述傾斜場(chǎng)函數(shù)，確定每個(gè)所述文字塊的偏移量；

校正模塊，用于基于所述偏移量對(duì)所述偏移量對(duì)應(yīng)的文字塊的位置進(jìn)行校正。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的校正裝置，其特征在于，所述斜率估算模塊，具體用于：

在所述識(shí)別結(jié)果中確定每個(gè)所述文字塊的頂點(diǎn)坐標(biāo)；

根據(jù)每個(gè)所述文字塊的所述頂點(diǎn)坐標(biāo)確定所述文字塊的第一斜率，并通過(guò)每個(gè)所述文字塊的中心點(diǎn)坐標(biāo)表征所述文字塊。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的校正裝置，其特征在于，所述擬合模塊，具體用于：

基于每個(gè)所述文字塊的中心點(diǎn)坐標(biāo)和三次曲面函數(shù)確定每個(gè)所述文字塊對(duì)應(yīng)的第二斜率；

基于每個(gè)所述文字塊的所述第一斜率和第二斜率，通過(guò)預(yù)設(shè)回歸算法對(duì)所述三次曲面函數(shù)的參數(shù)進(jìn)行調(diào)整；

在所述第一斜率和所述第二斜率之間的差值最小時(shí)，確定所述當(dāng)前的三次曲面函數(shù)為傾斜場(chǎng)函數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的校正裝置，其特征在于，所述偏移量計(jì)算模塊，具體用于：

在每個(gè)所述文字塊的中心點(diǎn)坐標(biāo)處對(duì)所述傾斜場(chǎng)函數(shù)進(jìn)行離散積分，確定所述離散積分的積分結(jié)果為所述每個(gè)所述文字塊的偏移量。

10.一種存儲(chǔ)介質(zhì)，存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的OCR文字位置的校正方法的步驟。

11.一種電子設(shè)備，至少包括存儲(chǔ)器、處理器，所述存儲(chǔ)器上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器在執(zhí)行所述存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的OCR文字位置的校正方法的步驟。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備還包括：

輸入設(shè)備和/或輸出設(shè)備；

其中，所述輸入設(shè)備至少包括以下之一：攝像機(jī)、掃描儀、掃描筆；所述輸出設(shè)備至少包括顯示屏幕。