[發(fā)明專利]一種W型固定床淋洗裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010948375.6 | 申請日: | 2020-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN112143886A | 公開(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 程威;胡柏石;黃永;原淵;何柯;霍建黨;趙立信 | 申請(專利權(quán))人: | 核工業(yè)北京化工冶金研究院 |
| 主分類號: | C22B3/02 | 分類號: | C22B3/02;C22B3/42;C22B60/02 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 陳曉菲 |
| 地址: | 101149 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 固定床 淋洗 裝置 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種W型固定床淋洗裝置及方法,包括W型塔器、自動控制三通閥、布液器、富鈾樹脂進口以及進液口。塔器左側(cè)頂部設有布液器,淋洗劑通過布液器均勻分布于塔器內(nèi)。布液器的上部設置有進液口。塔器左側(cè)面在布液器的下部設有富鈾樹脂進口。W型固定床淋洗裝置通過自動控制三通閥串聯(lián)多個塔器。自動控制三通閥的一個出口連接另一串聯(lián)的塔器,另一個出口連接合格液儲槽。本發(fā)明簡化操作流程和控制參數(shù),樹脂容量高,淋洗得到的鈾富集液鈾濃度能夠直接滿足產(chǎn)品沉淀標準。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于鈾礦地浸技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種W型固定床淋洗裝置及方法。
背景技術(shù)
離子交換是地浸浸出液后處理工藝的重要組成部分,淋洗是其重要工序之一。淋洗作業(yè)的操作對象為富鈾樹脂,根據(jù)離子交換過程中樹脂床層相對塔器是否移動,可分為固定床淋洗和移動床淋洗。
由于離子競爭吸附等原因,酸法地浸浸出液經(jīng)吸附塔吸附產(chǎn)生的富鈾樹脂容量較低。采用單塔立式固定床淋洗下來的富集液鈾濃度偏低,無法直接沉淀產(chǎn)品,需要經(jīng)萃取等方法進一步富集,流程長,有安全環(huán)保風險。采用移動床淋洗,需要用吸附塔產(chǎn)生的飽和樹脂再吸附鈾富集液,以進一步提高樹脂容量,前序工序復雜,控制參數(shù)多。
因此,急需一種改進的淋洗裝置和方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提供一種W型固定床淋洗裝置及方法,簡化操作流程和控制參數(shù),淋洗得到的鈾富集液鈾濃度能夠直接滿足產(chǎn)品沉淀標準。
本發(fā)明所采取的技術(shù)方案為:
一種W型固定床淋洗裝置,包括塔器、布液器、富鈾樹脂進口以及進液口。塔器左側(cè)頂部設有布液器,淋洗劑通過布液器均勻分布于塔器內(nèi)。布液器的上部設置有進液口。塔器左側(cè)面在布液器的下部設有富鈾樹脂進口。
塔器為W型結(jié)構(gòu)。
塔器的頂部在進液口的一側(cè)設置有排空閥,另一側(cè)設置有壓力表。
塔器在左右兩側(cè)底部分別設有一個排放口。塔器在中間頂部有樹脂補充口二,塔器右側(cè)頂部有樹脂補充口一。
塔器右側(cè)在樹脂補充口一下部設有淋洗劑出口,淋洗劑出口下部有集液槽,集液槽底部左右兩邊各設有一個凹槽。
所述W型固定床淋洗裝置還設置有自動控制三通閥、鈾濃度分析取樣口。兩個凹槽的底部互相連接后與自動控制三通閥的入口連接。
所述W型固定床淋洗裝置通過自動控制三通閥串聯(lián)多個塔器。自動控制三通閥的出口一連接另一串聯(lián)的塔器,自動控制三通閥的出口二連接合格液儲槽。
自動控制三通閥控制凹槽的出液方向為合格液儲槽或者串聯(lián)的另一塔器。
鈾濃度分析取樣口設置在自動控制三通閥的入口。
本發(fā)明還提供了一種W型固定床淋洗方法,包括以下步驟:
S1:通過富鈾樹脂進口、樹脂補充口一和樹脂補充口二,在塔器內(nèi)裝滿富鈾樹脂,使富鈾樹脂容量高于14mgU/mLWR,W型固定床淋洗裝置中的富鈾樹脂床層總長度為15-25m。
S2:通過進液口進淋洗劑,控制淋洗劑接觸時間為16-20h;同時打開淋洗劑出口,出淋洗劑。淋洗劑為硝酸根型或者氯型淋洗劑。
S3:淋洗劑通過集液槽匯聚進入凹槽,并從凹槽底部流出匯合,經(jīng)過鈾濃度分析取樣口進行取樣并進行濃度分析,測得鈾濃度為C1。
S4:設定合格浸出液濃度為C2,
若C1≥C2,則自動控制三通閥的出液方向為合格液儲槽;
若C1<C2,則自動控制三通閥的出液方向為串聯(lián)的另一塔器。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于核工業(yè)北京化工冶金研究院,未經(jīng)核工業(yè)北京化工冶金研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010948375.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種可阻隔紅外光的OLED保護膜及其制備方法
- 下一篇:一種3D打印機





