[發明專利]濕法刻蝕控制系統、濕法刻蝕機和濕法刻蝕控制方法

在審

• 申請號: 202010947256.9
• 申請日: 2020-09-10
• 公開（公告）號: CN114171424A
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 陳信宏;黃焱謄
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 張娜;劉芳

1.一種濕法刻蝕控制系統，其特征在于，包括：液位檢測單元、刻蝕劑噴射單元、清洗劑噴射單元、控制單元；

所述液位檢測單元，用于檢測漏液收集槽中漏液的液位；

所述刻蝕劑噴射單元，用于將刻蝕劑噴射在晶圓表面；

所述清洗劑噴射單元，用于將清洗劑噴射在晶圓表面；

所述控制單元，用于當所述液位檢測單元檢測的漏液的液位大于第一預設值時，控制所述刻蝕劑噴射單元停止向晶圓表面噴射刻蝕劑，并控制所述清洗劑噴射單元向晶圓表面噴射清洗劑。

2.根據權利要求1所述的濕法刻蝕控制系統，其特征在于，還包括：

用于向晶圓表面吹風的供風單元；

所述控制單元還用于：當所述清洗劑噴射單元停止噴射清洗劑時，控制所述供風單元向晶圓表面吹風。

3.根據權利要求1所述的濕法刻蝕控制系統，其特征在于，所述控制單元還用于：當所述液位檢測單元檢測的漏液的液位大于第二預設值時，控制濕法刻蝕機整機停機；其中，所述第二預設值大于所述第一預設值。

4.根據權利要求3所述的濕法刻蝕控制系統，其特征在于，還包括：

報警單元，用于發出報警信號；

所述控制單元還用于：當所述液位檢測單元檢測的漏液的液位大于第一預設值時，控制所述報警單元發出第一報警信號。

5.根據權利要求4所述的濕法刻蝕控制系統，其特征在于，所述控制單元還用于：當所述液位檢測單元檢測的漏液的液位大于第二預設值時，控制所述報警單元發出第二報警信號。

6.根據權利要求4所述的濕法刻蝕控制系統，其特征在于，所述報警信號為聲音信號、光信號和圖像信號中的一種或者多種。

7.根據權利要求1-6任一項所述的濕法刻蝕控制系統，其特征在于，還包括：

PH值檢測單元，用于檢測所述漏液收集槽中漏液的PH值；

所述控制單元還用于：根據所述PH值檢測單元檢測到的PH值，控制所述漏液收集槽中的漏液排放到相適配的廢液罐。

8.一種濕法刻蝕機，其特征在于，包括如權利要求1-7任一項所述的濕法刻蝕控制系統。

9.一種濕法刻蝕控制方法，其特征在于，包括：

檢測漏液收集槽中漏液的液位；

當所述漏液的液位大于第一預設值時，控制停止向晶圓噴射刻蝕劑，并控制向晶圓噴射清洗劑。

10.根據權利要求9所述的濕法刻蝕控制方法，其特征在于，還包括：

當停止向晶圓噴射清洗劑時，控制向晶圓吹風。

11.根據權利要求9所述的濕法刻蝕控制方法，其特征在于，當所述漏液的液位大于第二預設值時，控制濕法刻蝕機整機停機；其中，所述第二預設值大于所述第一預設值。

12.根據權利要求11所述的濕法刻蝕控制方法，其特征在于，還包括：

當所述漏液的液位大于第一預設值時，控制報警單元發出第一報警信號。

13.根據權利要求12所述的濕法刻蝕控制方法，其特征在于，還包括：

當所述漏液的液位大于第二預設值時，控制所述報警單元發出第二報警信號。

14.根據權利要求13所述的濕法刻蝕控制方法，其特征在于，所述第一報警信號和/或所述第二報警信號為聲音信號、光信號和圖像信號中的一種或者多種。

15.根據權利要求9-14任一項所述的濕法刻蝕控制方法，其特征在于，

檢測所述漏液收集槽中漏液的PH值；

根據檢測到的漏液的PH值，控制所述漏液收集槽中的漏液排放到相適配的廢液罐。