[發(fā)明專(zhuān)利]一種包裹式圖形化復(fù)合襯底、制備方法及LED外延片

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010947179.7
• 申請(qǐng)日: 2020-09-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114171649A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 肖桂明;張劍橋;劉鳳儀;康凱;陸前軍;張能
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東莞市中圖半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L33/22
• 分類(lèi)號(hào): H01L33/22;H01L33/00
• 代理公司: 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，包括襯底基板以及形成于所述襯底基板上的多個(gè)復(fù)合圖形微結(jié)構(gòu)；

所述復(fù)合圖形微結(jié)構(gòu)包括中心凸起微結(jié)構(gòu)和類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)，所述中心凸起微結(jié)構(gòu)的底部與所述襯底基板一體連接，所述類(lèi)火山口型凸起微結(jié)構(gòu)采用異質(zhì)材料制成；

所述類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)圍繞所述中心凸起微結(jié)構(gòu)設(shè)置，且包裹所述中心凸起微結(jié)構(gòu)的底部，露出所述中心凸起微結(jié)構(gòu)的頂部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，所述中心凸起微結(jié)構(gòu)的高度大于或等于所述類(lèi)火山口型凸起微結(jié)構(gòu)的高度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，相鄰的兩個(gè)所述復(fù)合圖形微結(jié)構(gòu)之間裸露出所述襯底基板。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，所述中心凸起微結(jié)構(gòu)為臺(tái)狀微結(jié)構(gòu)、柱狀微結(jié)構(gòu)、錐狀微結(jié)構(gòu)、類(lèi)臺(tái)狀微結(jié)構(gòu)和類(lèi)錐狀微結(jié)構(gòu)中的任意一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，所述中心凸起微結(jié)構(gòu)包括上部和下部，所述上部的側(cè)壁傾斜角度小于所述下部的側(cè)壁傾斜角度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，所述中心凸起微結(jié)構(gòu)包括上部、中部和下部，所述上部為異質(zhì)材料制成，所述下部、所述中部和所述襯底基板一體連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，所述類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)的側(cè)壁呈弧狀。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，其特征在于，所述襯底基板的制備材料包括藍(lán)寶石、硅、碳化硅、氮化鎵、氮化硅、氧化鋅和尖晶石；所述異質(zhì)材料包括氧化物、氮化物、碳化物和單質(zhì)。

9.一種LED外延片，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底。

10.一種包裹式圖形化復(fù)合襯底的制備方法，其特征在于，用于制備如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底，所述制備方法包括：

提供一襯底基板，并在所述襯底基板上圖形化形成中心凸起微結(jié)構(gòu)；

在所述襯底基板上形成異質(zhì)材料層；

圖形化所述異質(zhì)材料層形成類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)；其中，所述類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)圍繞所述中心凸起微結(jié)構(gòu)設(shè)置，且包裹所述中心凸起微結(jié)構(gòu)的底部，露出所述中心凸起微結(jié)構(gòu)的頂部。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底的制備方法，其特征在于，提供一襯底基板，并在所述襯底基板上圖形化形成中心凸起微結(jié)構(gòu)，包括：

在襯底基板上形成第一光刻膠層；

圖形化所述第一光刻膠層，形成第一膠柱掩膜；

根據(jù)所述第一膠柱掩膜，對(duì)所述襯底基板進(jìn)行刻蝕，并形成所述中心凸起微結(jié)構(gòu)。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底的制備方法，其特征在于，圖形化所述異質(zhì)材料層形成類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)，包括：

在所述異質(zhì)材料層上形成第二光刻膠層；

圖形化所述第二光刻膠層，形成第二膠柱掩膜；

根據(jù)所述第二膠柱掩膜，對(duì)所述異質(zhì)材料層進(jìn)行至少一次主刻蝕，并形成所述類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的包裹式圖形化復(fù)合襯底的制備方法，其特征在于，在根據(jù)所述第二膠柱掩膜，對(duì)所述異質(zhì)材料層進(jìn)行主刻蝕，并形成所述類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)之后，還包括：

對(duì)所述類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)進(jìn)行過(guò)刻蝕，以修飾所述類(lèi)火山口型環(huán)狀凸起微結(jié)構(gòu)和所述中心凸起微結(jié)構(gòu)的圖形形貌。