[發明專利]大理石雕表面拋光一體機有效
| 申請號: | 202010943756.5 | 申請日: | 2019-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN112276779B | 公開(公告)日: | 2022-11-25 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 蘇州喜全軟件科技有限公司 |
| 主分類號: | B24B31/10 | 分類號: | B24B31/10;B24B31/12;B24B31/14;B24B57/02;B01F27/90;B01F27/1125 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 大理 石雕 表面 拋光 一體機 | ||
本發明公開了一種大理石雕表面拋光一體機,包括內筒、電機、攪拌組件、拋光液、基板、外筒,基板通過機架找正安裝在大理石雕的待拋光平面上,基板上表面安裝電機,基板下表面通過連接桿連接開口朝下的內筒,攪拌組件包括軸和攪拌葉片,攪拌葉片位于內筒中,攪拌葉片朝上通過軸連接至電機,內筒包括筒體和密封支撐件,筒體內充滿拋光液,軸穿過筒體的位置處設置密封支撐件,外筒開口朝下,套設于內筒外,外筒包括若干拼接板,拼接板的側面設有榫槽,若干拼接板通過榫槽嵌合在一起且可相互獨立地沿豎直方向平移,拼接板下端設置密封條,密封條貼緊待拋光平面,拼接板向上設置預緊柱,預緊柱的上端插入基板內并抵置于基板內的緊預緊彈簧。
技術領域
本發明涉及拋光設備領域,具體是一種大理石雕表面拋光一體機。
背景技術
大理石是一種常用的石材,裝飾材料行業使用越來越廣泛。
所有的人造大理石以及很多天然大理石表面并不光潔,表面粗糙度太低的話容易藏污納垢且被磕碰時更容易發生表面損傷,所以,絕大多數的大理石在末道使用環節需要進行拋光處理,美觀且極其耐污染。
傳統上,大理石的拋光幾乎都是通過機械式的方式進行的,磨砂輪高速旋轉掠過待加工平面,降低表面粗糙度,但是,磨輪形式的拋光方式,其表面粗糙度的提升有限,Ra0.8的粗糙度幾乎是極限了,當有更高精度需求時就無能為力了,而且,拋光過程產生的大量粉塵污染周圍環境。
現有技術出現了一些消除粉塵污染的拋光裝置,通過吸塵或灑水的方式,還沒有出現進一步提高拋光精度的設備。
發明內容
本發明的目的在于提供一種大理石雕表面拋光一體機,以解決現有技術中的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:
一種大理石雕表面拋光一體機,包括內筒、電機、攪拌組件、拋光液和基板,基板通過機架找正安裝在大理石雕的待拋光平面上,基板上表面安裝電機,基板下表面通過連接桿連接開口朝下的內筒,攪拌組件包括軸和攪拌葉片,攪拌葉片位于內筒中,攪拌葉片朝上通過軸連接至電機,內筒包括筒體和密封支撐件,筒體內充滿拋光液,軸穿過筒體的位置處設置密封支撐件。
本發明使用拋光液進行拋光,拋光液中含有一定含量的拋光顆粒物,顆粒物存留在拋光液中,隨著攪拌組件攪動拋光液,拋光液與待拋光平面相接觸,顆粒物不斷沖刷待拋光平面的過程中,將待拋光平面上的毛刺、表面粗糙度微觀尺度上的凸起磨平,從而達到降低粗糙度,提高表面光潔度的目的,拋光液中顆粒物粒徑選取得越小,可以不斷提高待拋光表面的光滑程度,相比于機械式砂輪等拋光物件,精度等級上不受限制,而不同與酸堿腐蝕等化學手段,使用帶細碎顆粒物的拋光液進行拋光仍然是純物理手段,首先不會損害大理石表面的化學性質,而且不會產生二次化學污染等問題。
攪拌葉片攪動拋光液的動力來自于上方的電機,下懸臂結構為了提供軸的旋轉穩定性,設置密封支撐件提供徑向支撐,同時為防止拋光液從軸穿過筒體的位置處濺出以及濺入密封支撐件內的軸承,拋光液內的細碎顆粒毫無疑問會損傷軸承,所以密封支撐件同時具備朝向拋光液的密封功能。
進一步的,拋光一體機還包括外筒,外筒也是開口朝下,外筒套設于內筒外,外筒包括若干拼接板,拼接板的側面設有榫槽,若干拼接板通過榫槽嵌合在一起且可相互獨立地沿豎直方向平移,拼接板下端設置密封條,密封條貼緊待拋光平面,拼接板向上設置預緊柱,預緊柱的上端插入基板內并抵置于基板內的預緊彈簧。
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