[發(fā)明專利]一種渦旋機械的引壓方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010943521.6
• 申請日: 2020-09-09
• 公開（公告）號: CN112032048B
• 公開（公告）日: 2022-05-24
• 發(fā)明（設計）人: 楊軍;金效興;宋雪峰
• 申請（專利權）人: 上海海立新能源技術有限公司
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F04C29/00;F04C29/12;F04C28/18
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 沈棟棟

本發(fā)明公開了一種渦旋機械的引壓方法，包括：動渦旋盤的背面引入第一背壓力，第一背壓力為P_θ1；靜渦旋盤的背面引入第二背壓力，第二背壓力為P_θ2；動渦旋盤與靜渦旋盤嚙合形成壓縮腔，壓縮腔內用于壓縮流體；流體的等熵指數(shù)為k；壓縮腔的容積比為V_θ；動渦旋盤與靜渦旋盤不發(fā)生分離的最小背壓P_bmin所對應的容積比為V_bmin；容積比V_θ和容積比V_bmin均隨渦旋機械工作呈周期性變化；且0＜P_θ1≤(V_bmin)^k，P_θ2≥(V_bmin)^k。等熵指數(shù)通過對本發(fā)明的應用，抵消了壓縮腔內產生的部分或全部的軸向氣體力，實現(xiàn)動渦旋盤與靜渦旋盤沿軸方向向上保持最小間隙，減小動、靜渦盤齒頂面的摩擦損耗，降低動渦旋盤盤與下壓板間的摩擦損耗，適用于壓縮機變工況運行能力要求。

技術領域

本發(fā)明涉及壓縮機技術領域，尤其涉及一種渦旋機械的引壓方法。

背景技術

渦旋壓縮機工作時，被壓縮的流體在壓縮腔內會產生的軸向氣體力并作用于動渦旋盤和靜渦旋盤上，造成動渦旋盤與靜渦旋盤之間的軸向間隙增大，頂隙泄露量變大，容積效率降低。現(xiàn)有的的技術路線有引壓進入動渦旋盤或靜渦盤的背面，具體地說，動渦旋盤或靜渦旋盤背面引入高壓、中高壓，用來抵消動渦旋盤與靜渦旋盤之間的軸向氣體力，從而使動渦旋盤與靜渦旋盤的接觸面相貼合，減小軸向間隙，達到降低頂隙泄露的目的。然而，這類技術方案雖可以解決部分渦旋壓縮機的軸向泄露問題，但也不可避免地引發(fā)了渦旋壓縮機功耗和可靠性的問題。

發(fā)明內容

有鑒于此，為解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種渦旋機械的引壓方法，包括：

動渦旋盤的背面引入第一背壓力，所述第一背壓力為P_θ1；

靜渦旋盤的背面引入第二背壓力，所述第二背壓力為P_θ2；

所述動渦旋盤與所述靜渦旋盤嚙合形成壓縮腔，所述壓縮腔內用于壓縮流體；

所述流體的等熵指數(shù)為k；

所述壓縮腔的容積比為V_θ；

所述動渦旋盤與所述靜渦旋盤不發(fā)生分離的最小背壓P_bmin所對應的容積比為V_bmin；

所述容積比V_，θ，和所述容積比V_bmin均隨所述動渦旋盤與所述靜渦旋盤的匹配工作呈周期性變化；

其中，0＜P_θ1≤(V_bmin)^k，_θ2≥(V_bmin)^k。

在另一個優(yōu)選的實施例中，所述第一背壓力P_θ1為一定值壓力。

在另一個優(yōu)選的實施例中，所述動渦旋盤與所述靜渦旋盤不發(fā)生分離的最小背壓為P_bmin，所述最小背壓P_bmin隨動渦旋盤與靜渦旋盤的匹配工作呈周期性變化，所述第一背壓力P_θ1與所述最小背壓P_bmin為等壓差的壓力，即P_θ1＝P_bmin-C₁，C₁為固定常數(shù)，且C₁≥0。