[發(fā)明專利]陣列基板及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010939538.4 | 申請日： | 2020-09-09 |
| 公開（公告）號： | CN112068370B | 公開（公告）日： | 2021-10-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張艦;劉超凡 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1362 | 分類號： | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1339;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人： | 唐秀萍 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陣列 及其 制造 方法 | ||
1.一種陣列基板，其包含：
襯底基板；
像素單元，設(shè)置在所述襯底基板上，包含主像素電極、從像素電極及設(shè)置在所述主像素電極及所述從像素電極之間的第一薄膜晶體管，其中所述主像素電極包含：
第一主干電極，包含相交的第一條狀電極及第二條狀電極；
多個第一分支電極，從所述第一主干電極往對角線方向延伸；及
多個第一連接線，其中每個第一連接線從相對應(yīng)的第一分支電極延伸且電連接至所述第一薄膜晶體管；以及
間隔子，設(shè)置在所述像素單元上且在主像素電極及從像素電極之間，其中所述間隔子在所述襯底基板上的投影與所述第一連接線在所述襯底基板上的投影不重疊，且所述兩投影在平行于所述第一條狀電極的方向上及在平行于所述第二條狀電極的方向上不重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：所述間隔子在所述襯底基板上的投影與所述第一連接線在所述襯底基板上的投影在平行于所述第一條狀電極的方向上相距第一距離，以及在平行于所述第二條狀電極的方向上相距第二距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：所述主像素電極還包含呈U型的第一邊框電極，以及所述第一連接線中的一個從所述第一邊框電極的一端延伸且電連接至所述第一薄膜晶體管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：
所述主像素電極還包含第一連接部，連接所述第一連接線；
所述第一薄膜晶體管包含第一漏極及從第一漏極延伸的第一漏極延伸部；以及
第一連接部通過第一通孔與第一漏極延伸部電連接，使得所述第一連接線與所述第一薄膜晶體管電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于：
所述像素單元還包含第二薄膜晶體管，設(shè)置在所述主像素電極及所述從像素電極之間；
所述從像素電極包含：
第二主干電極，包含相交的第三條狀電極及第四條狀電極，其中所述第三條狀電極與所述第一條狀電極平行；
多個第二分支電極，從所述第二主干電極往對角線方向延伸；及
多個第二連接線，其中每個第二連接線從相對應(yīng)的第二分支電極延伸且電連接至所述第二薄膜晶體管；以及
所述間隔子在所述襯底基板上的投影與所述第二連接線在所述襯底基板上的投影不重疊，且所述兩投影在平行于所述第三條狀電極的方向上及在平行于所述第四條狀電極的方向上不重疊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于：所述間隔子在所述襯底基板上的投影與所述第二連接線在所述襯底基板上的投影在平行于所述第三條狀電極的方向上相距第三距離，以及在平行于所述第四條狀電極的方向上相距第四距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于：所述從像素電極還包含呈U型的第二邊框電極，以及所述第二連接線中的一個從所述第二邊框電極的一端延伸且電連接至所述第二薄膜晶體管。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于：
所述從像素電極還包含第二連接部，連接所述第二連接線；
所述第二薄膜晶體管包含第二漏極及從第二漏極延伸的第二漏極延伸部；以及
第二連接部通過第二通孔與第二漏極延伸部電連接，使得所述第二連接線與所述第二薄膜晶體管電連接。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
