[發明專利]一種在碳基底上原位生長碳化硼光陰極材料的制備方法有效
| 申請號: | 202010932993.1 | 申請日: | 2020-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN112151341B | 公開(公告)日: | 2022-09-23 |
| 發明(設計)人: | 劉冀鍇;溫麗蘋;尚志超;羅和安 | 申請(專利權)人: | 湘潭大學 |
| 主分類號: | H01J9/02 | 分類號: | H01J9/02;C25D3/12 |
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| 地址: | 411105 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基底 原位 生長 碳化 陰極 材料 制備 方法 | ||
1.一種在碳基底上原位生長碳化硼光陰極材料的制備方法,其特征在于,以可佇立碳材料為基底,通過表面電沉積金屬顆粒作為催化劑,采用原位生長的方法在碳材料表面生長碳化硼材料,通過酸洗去除過渡金屬,獲得碳基碳化硼光陰極,即C/B4C,具體包括如下步驟:
(1)將可佇立碳材料,分別用乙醇、丙酮、超純水浸泡并超聲30~60min,然后于空氣中50~60℃烘干1~3h,得到潔凈的碳基底;
(2)取潔凈的碳基底于電鍍亮鎳液中浸漬3~8h,得到吸附了電鍍鎳液的碳基底;
(3)采用三電極體系,以電沉積的方法,以(2)中所得碳基底為工作電極,甘汞電極為參比電極,鉑電極為對電極,于電壓為-1.2V時,電鍍60~150s,成功獲得表面均勻分布鎳單質的反應前軀體;
(4)將(3)中所得前驅體置于鋪滿氧化硼(B2O3)的坩堝內,然后放入立式管式爐中,設置氬氣(Ar)通氣量為300~600sccm,設置升溫程序如下:室溫~600℃為5~10℃/min、600~1450℃為5℃/min、保溫600min、1450~600℃為2℃/min,降至600℃后自然冷卻至室溫,即可得到獲得表面附有鎳催化劑的反應產物;
(5)將(4)中得到的產物放入稀硝酸中,用封口膜封緊,超聲震蕩1~3h,以除去材料表面的過渡金屬鎳,獲得碳基碳化硼光陰極,即C/B4C。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述的碳基底為碳纖維布、碳棒、碳片、碳泡沫中的一種。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,電鍍亮鎳液配方如下:每500ml超純水中含以下幾種物質:六水硫酸鎳(NiSO4·6H2O)40~45g,六水氯化鎳(NiCl2·6H2O)5~8g,硼酸(H3BO3)4~6g,十二烷基硫酸鈉(SDS)0.8~1.2g,鹽酸(HCl)10~15滴,超聲震蕩溶解后,磁力攪拌12~24h,即得到所需的電鍍亮鎳液。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,鎳單質作為反應過程中的催化劑。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,借助于高熔點金屬絲,將碳基前驅體架空于B2O3之上,質量比MC:MB2O3=1:1.5~2.5。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(5)中,所述C/B4C的晶相尺寸約為100~400nm。
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