[發(fā)明專利]皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010931938.0
• 申請日: 2020-09-07
• 公開（公告）號: CN112006685B
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李欣蓉;蔡新霞;宋軼琳;肖桂花;謝精玉;何恩慧;徐聲偉
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院空天信息創(chuàng)新研究院
• 主分類號: A61B5/291
• 分類號: A61B5/291;B82Y40/00;A61B5/369
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 孫蕾

1.一種皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列，用于直接貼附于腦皮層表面，其特征在于，包括：

基底層，為柔性材料；所述基底層包括聚二甲基硅氧烷、聚對二甲苯形成的復(fù)合層；

導(dǎo)電層，形成于所述基底層上，所述導(dǎo)電層是在所述基底層上進行沉積、光刻和腐蝕得到的；所述導(dǎo)電層包括微電極陣列、引線和焊盤；其中，

微電極陣列，所述微電極陣列包括多個檢測位點；所述多個檢測位點可覆蓋多個皮層腦區(qū)；所述多個檢測位點以矩陣形式排布；所述檢測位點的位點直徑包括1μm～50μm；所述檢測位點的排布范圍包括：寬度為0.3cm～0.5cm；長度為0.3cm～1cm；相鄰兩個檢測位點之間的間隔為100μm～200μm；

焊盤，通過引線與所述微電極陣列連接；

絕緣層，為柔性材料，形成于所述導(dǎo)電層上；其中，所述絕緣層覆蓋所述引線，并暴露所述微電極陣列和焊盤；

所述檢測位點包括128個；

所述檢測位點陣列分8行排布，每行均勻分布16個；

相鄰兩行之間的間隔為900μm；每行中相鄰兩個檢測位點之間的間隔為200μm；

所述焊盤的背面貼附聚酰亞胺片，用于滿足插入后端接口時的硬度和厚度。

2.如權(quán)利要求1所述的皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列，其特征在于，

所述檢測位點的位點直徑包含1μm、20μm、30μm、40μm和/或50μm。

3.如權(quán)利要求1所述的皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列，其特征在于，

所述檢測位點采用納米粒子進行修飾；

所述納米粒子包括鉑黑納米粒子、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)納米粒子或者碳納米管納米粒子。

4.如權(quán)利要求1所述的皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列，其特征在于，

所述焊盤的尺寸符合標準接口要求，用于與一后端接口電氣連接。

5.如權(quán)利要求1所述的皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列，其特征在于，

所述皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列還包括粘附層，所述粘附層形成于所述基底層和所述導(dǎo)電層之間；

所述粘附層的材料包括鉻或鈦。

6.如權(quán)利要求1所述的皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列，其特征在于，

所述基底層包括具有生物相容性的柔性復(fù)合層；

所述導(dǎo)電層的導(dǎo)電材料包括鉻/金或鈦/鉑；

所述絕緣層為單一柔性材料，包括聚二甲基硅氧烷或聚對二甲苯。

7.如權(quán)利要求6所述的皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列，其特征在于，

所述基底層的厚度為10-20μm；所述絕緣層的厚度為1-2μm。

8.一種如權(quán)利要求1至7任一項所述的皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

在基底上由下至上依次形成犧牲層、基底層和金屬層；所述基底層包括聚二甲基硅氧烷、聚對二甲苯形成的復(fù)合層；

采用光刻技術(shù)，在金屬層上形成第一版圖形化的光刻膠；

以第一版圖形化的光刻膠為掩模，濕法腐蝕金屬層，形成導(dǎo)電層；

在導(dǎo)電層上形成絕緣層；

采用光刻技術(shù)，在絕緣層上形成第二版圖形化的光刻膠；

以第二版圖形化的光刻膠為掩模，刻蝕絕緣層至使微電極陣列和焊盤裸露；

刻畫微電極陣列的每個微電極的獨立外形輪廓；

去除犧牲層，使基底脫離；

在所述微電極陣列的檢測位點上修飾納米粒子，得到皮層癲癇腦功能定位柔性微納電極陣列；

所述微電極陣列包括多個檢測位點；所述多個檢測位點的排布范圍廣，可覆蓋多個皮層腦區(qū)；多個檢測位點以矩陣形式排布；所述檢測位點的位點直徑包括1μm～50μm；所述檢測位點的排布范圍包括：寬度為0.3cm～0.5cm；長度為0.3cm～1cm；相鄰兩個檢測位點之間的間隔為100μm～200μm；

所述檢測位點包括128個；

所述檢測位點陣列分8行排布，每行均勻分布16個；

相鄰兩行之間的間隔為900μm；每行中相鄰兩個檢測位點之間的間隔為200μm；

所述焊盤的背面貼附聚酰亞胺片，用于滿足插入后端接口時的硬度和厚度。