[發明專利]一種以離子液為頂柵的薄層Bi2 在審
| 申請號: | 202010931585.4 | 申請日: | 2020-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN112038440A | 公開(公告)日: | 2020-12-04 |
| 發明(設計)人: | 張禮杰;羅婷燕;鄒超;楊云 | 申請(專利權)人: | 溫州大學新材料與產業技術研究院 |
| 主分類號: | H01L31/101 | 分類號: | H01L31/101;H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616 | 代理人: | 鄧凌云 |
| 地址: | 325000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 離子 薄層 bi base sub | ||
1.一種以離子液為頂柵的薄層Bi2O2Se晶體管及其制備方法,其特征在于:包括如下步驟;
1.CVD方法生長Bi2O2Se薄層晶片:
用Bi2O3和Bi2Se3粉末為反應物,稱取4:1的量,放入管式爐中,Bi2Se3放置在上游,Bi2O3放置在溫區中心,兩種反應物相距5cm,加熱溫度為650℃,以云母片作為襯底,放置在距離中心溫區13cm的下游,反應30min;反應前用Ar氣300sccm洗氣20min,反應時Ar氣流量為100sccm;反應完后待自然冷卻,將樣品取出可在顯微鏡下觀察;
2.Au電極制備:
a)取一塊干凈的硅片,滴一滴PMMA并旋涂,旋涂完后將硅片放置在加熱到150℃的加熱臺上加熱3min,使PMMA涂層固化;
b)利用電子束光刻的方法,在PMMA涂層上刻畫出Au電極形狀,然后將硅片泡在顯影液中1min,定影液30s,用N2氣槍吹干;
c)用熱蒸發的方法,將Au金屬蒸發沉積到硅片上,60nm厚;
d)將鍍完Au的硅片在50℃條件下,在丙酮中泡20min,將PMMA涂層泡掉,即可得到Au電極。
3.將Au電極貼到Bi2O2Se薄層晶片上:
a)旋涂PMMA涂層到Au電極上,固化后,用刻刀在硅片邊緣劃一圈;
b)放置到10%的HF溶液中,將帶有Au電極的PMMA層泡下來,然后用鑷子將PMMA薄層放在去離子水中清洗3次;
c)用一塊干凈的硅片將PMMA薄層整齊地撈起,然后用PDMS膜貼在PMMA薄層的上面;
d)利用PDMS的支持力,將Au電極對準在云母片上生長好的Bi2O2Se薄層晶片,貼上后,在80℃條件下加熱10min,使PDMS變性,再揭起,可將PDMS與PMMA涂層分離,此時PMMA涂層以及下方的Au電極貼在Bi2O2Se上;
e)將云母片放置在加熱臺上,50℃加熱20min,以使電極與Bi2O2Se接觸更牢固;
f)在50℃的條件下,將帶有PMMA涂層的云母片放置在丙酮中泡20min,以去除PMMA;
g)用鑷子將云母片夾起,用N2槍將表層的丙酮吹干,即可獲得Bi2O2Se器件;
4.利用液滴槍將離子液滴在Bi2O2Se上方,同時覆蓋兩邊的電極;
5.在真空中對Bi2O2Se器件進行電學測試。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





