[發明專利]一種釹鐵硼永磁體陶瓷鍍層的制備裝置及制備方法

在審

• 申請號: 202010930693.X
• 申請日: 2020-09-07
• 公開（公告）號: CN112007781A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 王傳申;楊昆昆;彭眾杰;賈道寧;丁開鴻
• 申請（專利權）人: 煙臺首鋼磁性材料股份有限公司
• 主分類號: B05B13/00
• 分類號: B05B13/00;B05B13/02;B05B14/00;B05D1/02;B05D3/04;B05D3/10;B05D7/00;C09D1/00;C09D5/08
• 代理公司: 亳州速誠知識產權代理事務所(普通合伙) 34157
• 代理人: 張輝

1.一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備裝置，其特征在于，

包括容納桶（1）、泵體（2）、噴涂系統、夾具機構，泵體（2）一端通過管路與容納桶（1）相通，另一端通過管路與噴涂系統相通，噴涂系統位于夾具機構的上方，噴涂系統與夾具機構之間存在距離，夾具機構通過管路與回收桶（7）相通，回收桶（7）與容納桶（1）通過管路相通；

噴涂系統包括噴頭（5），其中噴頭（5）的進口與連接泵體（2）的管路相通；

夾具機構包括支撐板（11）、上回收槽板（9）和下回收槽板（10），其中下回收槽板（10）位于支撐板（11）的上方，下回收槽板（10）兩端對稱設置有上回收槽板（9），兩側的上回收槽板（9）與下回收槽板（10）之間形成用于放置釹鐵硼永磁體（8）的容納空間；

噴頭（5）的出口位于噴涂系統的容納空間上方。

2.據權利要求1所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備裝置，其特征在于，噴頭（5）的出口為多個噴出點，多個噴出點設置成點陣型。

3.據權利要求1所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備裝置，其特征在于，噴涂系統還包括倒漏斗形的回收槽（4），回收槽（4）的頂端固定在管路上并被管路貫穿，或固定在噴頭（5）的頂端，回收槽（4）的底端兩側分別扣接在噴頭（5）的底端兩側。

4.一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備方法，其特征在于，利用制備設備在釹鐵硼永磁體表面精密噴涂一層可陶瓷化鍍層前驅體，加熱可陶瓷化鍍層前驅體，固化后形成有機陶瓷鍍層，包括如下步驟：

步驟a、制備陶瓷前驅液，按照重量含量，將0-50%的聚硅氮烷或改性的聚硅氮烷，陶瓷填料0-10%，有機溶劑40-96%，膠黏劑0-10%進行多級攪拌混合，混合液形成均勻漿狀的懸浮液，將陶瓷前驅液進行攪拌形成漿料；

步驟b、設置放置釹鐵硼永磁體的容納空間，在容納空間內夾緊并固定釹鐵硼永磁體；

步驟c 、將步驟a形成的漿料通過泵體傳送給噴頭，噴頭在釹鐵硼永磁體上方通過噴涂的方式使漿料垂直噴涂在釹鐵硼永磁體上；噴涂時控制噴頭與釹鐵硼磁體的距離為5-50mm；

步驟d 、噴涂完畢后，噴涂后的釹鐵硼永磁體進入下一工位，烘干固化處理；之后，再對釹鐵硼永磁體未噴涂的面進行上述同樣步驟，釹鐵硼永磁體外表面均噴涂并烘干固化后，通過高溫化處理進行陶瓷化，釹鐵硼永磁體表面形成一層有機復合陶瓷涂層。

5.根據權利要求4所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備方法，其特征在于，在步驟a之前對釹鐵硼永磁體進行表面脫脂，使用純水清洗、質量分數3%-5%的硝酸溶液清洗、純水清洗、超聲波去灰、放入質量分數99%的酒精脫水，吹干后并用50-60℃烘箱烘干20分鐘。

6.根據權利要求4所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備方法，其特征在于，釹鐵硼永磁體包括方形釹鐵硼永磁體、異形釹鐵硼永磁體。

7.根據權利要求4所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備方法，其特征在于，陶瓷填料包括低熔點玻璃粉、氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鎂 、氧化鋅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鎢、碳化鋯、碳化鎢、碳化硼、碳化硅、碳化鈦、氮化硅、硼化鋯、硼化鈦、稀土氧化物中的一種或多種。

8.據權利要求4所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備方法，其特征在于，所述的有機溶劑為酯類溶劑、醚類溶劑、脂環烴類溶劑、脂肪烴類溶劑。

9.據權利要求4所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備方法，其特征在于，所述的膠黏劑為環氧樹脂、丙烯酸、有機硅、聚氨酯、丙烯酸、固化膠中一種或多種混合而成。

10.據權利要求4所述一種釹鐵硼永磁體陶瓷化鍍層的制備方法，其特征在于，烘干固化溫度為50-400℃，時間0.1h-1h ，陶瓷化溫度為400-750℃，時間0.5-4h ，有機復合陶瓷涂層的厚度在5-35μm。