[發(fā)明專利]電子設(shè)備殼體及其制作方法和電子設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010929346.5
• 申請(qǐng)日: 2020-09-07
• 公開（公告）號(hào): CN112135452A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳益明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司
• 主分類號(hào): H05K5/02
• 分類號(hào): H05K5/02;H05K5/00
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 尹璐

1.一種電子設(shè)備殼體，其特征在于，包括：

基材層；

漆層，所述漆層設(shè)置在所述基材層的第一表面上；

紋理層，所述紋理層設(shè)置在所述漆層遠(yuǎn)離所述基材層的表面上，且形成所述紋理層的材料包括光阻油墨；和

光學(xué)鍍膜層，所述光學(xué)鍍膜層設(shè)置在所述紋理層遠(yuǎn)離所述漆層的表面上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，至少部分所述第一表面為曲面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，所述曲面上任意一點(diǎn)處的曲率D滿足0＜D＜180°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，基于形成所述紋理層的材料的總質(zhì)量，形成所述紋理層的材料還包括：

質(zhì)量百分含量為1％～10％的環(huán)氧丙烯酸樹脂；和

質(zhì)量百分含量不大于1％的納米氧化物顆粒。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，所述紋理層滿足以下條件的至少之一：

所述納米氧化物顆粒包括氧化硅或者氧化鋁中的至少一種；

紋理的深度為8μm～10μm；

紋理的寬度為30μm～60μm；

硬度為1H～2H。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，所述漆層進(jìn)一步包括：

底漆層，所述底漆層設(shè)置在所述第一表面上；

色漆層，所述色漆層設(shè)置在所述底漆層遠(yuǎn)離所述基材層的表面上；和

鍍膜漆層，所述鍍膜漆層設(shè)置在所述色漆層遠(yuǎn)離所述底漆層的表面上。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，所述漆層滿足以下條件的至少之一：

形成所述鍍膜漆層的材料包括硅氧化物、鈦氧化物或者鋯氧化物中的至少一種；

所述鍍膜漆層的厚度為20μm～30μm；

所述色漆層的厚度為8μm～12μm；

所述底漆層的厚度為20μm～30μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，所述光學(xué)鍍膜層包括：

第一鍍層，所述第一鍍層設(shè)置在所述紋理層遠(yuǎn)離所述漆層的表面上；

第二鍍層，所述第二鍍層設(shè)置在所述第一鍍層遠(yuǎn)離所述紋理層的表面上；和

第三鍍層，所述第三鍍層設(shè)置在所述第二鍍層遠(yuǎn)離所述第一鍍層的表面上，

其中，所述光學(xué)鍍膜層滿足以下任意一種：

(1)形成所述第一鍍層的材料為鋯氧化物，形成所述第二鍍層的材料為鈦氧化物，形成所述第三鍍層的材料為硅氧化物；

(2)形成所述第一鍍層的材料為硅氧化物，形成所述第二鍍層的材料為鈦氧化物，形成所述第三鍍層的材料為硅氧化物；

(3)形成所述第一鍍層的材料為硅氧化物，形成所述第二鍍層的材料為鈮氧化物，形成所述第三鍍層的材料為硅氧化物；

(4)形成所述第一鍍層的材料為鋯氧化物，形成所述第二鍍層的材料為鈮氧化物，形成所述第三鍍層的材料為硅氧化物。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，所述第二鍍層的厚度為所述光學(xué)鍍膜層的總厚度的60％～70％。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，還包括：

底涂層，所述底涂層設(shè)置在所述基材層和所述漆層之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備殼體，其特征在于，還包括：

面漆層，所述面漆層設(shè)置在所述光學(xué)鍍膜層遠(yuǎn)離所述紋理層的表面上。