[發(fā)明專利]一種小尺寸GEM膜板的工業(yè)化制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010925524.7 | 申請日: | 2020-09-04 |
| 公開(公告)號: | CN111916331B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 董洋;朱麗娜;張夢夢;姚暢;孫亞 | 申請(專利權(quán))人: | 北京航天新立科技有限公司;北京衛(wèi)星制造廠有限公司 |
| 主分類號: | H01J43/22 | 分類號: | H01J43/22;H01J43/06;H01J9/02 |
| 代理公司: | 北京市京大律師事務(wù)所 11321 | 代理人: | 李光松 |
| 地址: | 100039*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 尺寸 gem 工業(yè)化 制作方法 | ||
1.一種小尺寸GEM膜板(10)的工業(yè)化制作方法,其特征在于,通過以下工藝流程實現(xiàn)的:
步驟1下料,利用PCB剪板機按實際GEM膜板(10)尺寸,長方向增加25mm-40mm,寬方向增加15mm-25mm,裁成小塊材料,之后按此尺寸裁切蓋板(12)、墊板(14);
步驟2光繪底片(1),利用光繪機光繪生產(chǎn)所使用的底片(1);
步驟3檢驗1,用計量器具按“米”字形對步驟2中所產(chǎn)生的底片(1)質(zhì)量進(jìn)行檢驗;
步驟4加工定位系統(tǒng),利用設(shè)備在板材上加工定位系統(tǒng);
步驟5表面清洗1,將步驟4加工完的板材放入設(shè)備中進(jìn)行表面清洗;
步驟6表面涂覆保護(hù)層,將步驟5清洗完的板材,帶入黃光區(qū)利用設(shè)備進(jìn)行表面保護(hù)層涂覆;
步驟7保護(hù)層半固化,對于涂覆完保護(hù)層的板材,需要在烘箱中對保護(hù)層進(jìn)行烘烤以達(dá)到半固化效果;
步驟8圖形轉(zhuǎn)移,涂覆完保護(hù)層的板材在黃光區(qū)內(nèi)進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移,利用底片(1)定位靶標(biāo)(3)、定位銷釘(11)、板材上的定位孔和透圖臺以及40倍手持目鏡來進(jìn)行對位;
步驟9保護(hù)層固化,對于完成步驟8的板材,需要在烘箱中對保護(hù)層進(jìn)行烘烤以達(dá)到完全固化效果;
步驟10檢驗2,用40倍手持目鏡檢查保護(hù)層的完整性和顯影狀態(tài),用透圖臺和目鏡檢查上下面圖形的對位情況,剔除殘次品;
步驟11表面銅箔蝕刻,利用蝕刻溶液將板材上下表面裸露銅箔進(jìn)行腐蝕,銅箔腐蝕采用噴淋方法;
步驟12表面清洗2,操作同步驟5,清洗后迅速用高壓空氣吹凈表面水漬;
步驟13保護(hù)層退除,用退膜液將保護(hù)層退除干凈;
步驟14表面清洗3,操作同步驟12,清洗后迅速用高壓空氣吹凈表面水漬;
步驟15檢驗3,用手持40倍目鏡檢查銅箔蝕刻狀態(tài),用透圖臺和目鏡檢查上下面圖形的對位情況,剔除殘次品;
步驟16邊緣圖形保護(hù),用抗堿蝕膠帶將GEM膜板(10)圖形邊緣到工藝邊之間的基材保護(hù)好;
步驟17蝕刻孔內(nèi)基材,用蝕刻液蝕刻孔內(nèi)基材;
步驟18表面清洗4,去除GEM膜板(10)上的保護(hù)膠帶,之后操作同步驟14,清洗后迅速用高壓空氣吹凈表面水漬;
步驟19檢驗4,用金相顯微鏡或具有測量功能的光學(xué)顯微鏡對GEM膜板(10)基材進(jìn)行檢查,顯微鏡放大倍數(shù)不低于100倍,并在電腦上測量rim尺寸,并記錄;
步驟20金屬表面處理,通過電鍍方法對GEM膜板(10)表面進(jìn)行處理;
步驟21工藝導(dǎo)線去除,用直柄手術(shù)刀在顯微鏡下進(jìn)行操作,去除用于步驟20的電鍍用工藝導(dǎo)線;
步驟22外形加工,利用設(shè)備和板材上的定位系統(tǒng)加工外形;
步驟23表面清洗5,操作同步驟14,清洗后迅速用高壓空氣吹凈表面水漬;
步驟24檢驗5,用手持目鏡和卡尺對GEM膜板(10)進(jìn)行終檢并記錄;
步驟25包裝,用真空塑封機對GEM膜板(10)進(jìn)行抽真空包裝,抽真空前必須用比GEM膜板(10)尺寸大的硬紙板包裹住GEM膜板(10),避免由于基材過軟造成損害。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種小尺寸GEM膜板(10)的工業(yè)化制作方法,其特征在于,在所述步驟2中,所述底片(1)的工藝邊(2)為“回”字形,在底片(1)最外圍,工藝邊(2)每邊寬度為15mm-30mm;所述底片(1)的定位靶標(biāo)(3)為雙環(huán)加中心十字線結(jié)構(gòu),雙環(huán)的內(nèi)環(huán)直徑與定位銷直徑一致;定位靶標(biāo)(3)分布在角線(4)的外側(cè),數(shù)量4至6個;所述角線(4)為兩條互相垂直,長度為4mm-8mm的實線,其位置是以實際GEM膜板(10)外邊框為基點向四邊各延長4mm-8mm,形成的矩形的四個頂角;GEM膜板(10)信息主要分布自圖形的上下兩邊,上邊的信息主要是GEM膜板(10)名稱、制作日期和生產(chǎn)單位信息;下邊的信息主要是步驟1中裁板的最終尺寸、有效電鍍面積和拼版相對坐標(biāo)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種小尺寸GEM膜板(10)的工業(yè)化制作方法,其特征在于,所述步驟1中,利用PCB剪板機按實際GEM膜板(10)尺寸,長方向增加30mm,寬方向20mm;所述步驟2中,工藝邊(2)每邊寬度為25mm,所述角線(4)長度為5mm,所述角線(4)位置是以實際GEM膜板(10)外邊框為基點向四邊各延長5mm形成的矩形的四個頂角。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京航天新立科技有限公司;北京衛(wèi)星制造廠有限公司,未經(jīng)北京航天新立科技有限公司;北京衛(wèi)星制造廠有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010925524.7/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種新型環(huán)保潤滑脂及制備方法
- 下一篇:
- 同類專利
- 專利分類





