[發(fā)明專利]灶用多層聚能組件及燃?xì)庠?/span>有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010922809.5 | 申請日： | 2020-09-04 |
| 公開（公告）號： | CN111998416B | 公開（公告）日： | 2021-05-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 柯情;劉曉剛;王帥東;葉佳輝 | 申請（專利權(quán)）人： | 寧波方太廚具有限公司 |
| 主分類號： | F24C15/22 | 分類號： | F24C15/22;F24C15/10;F24C15/14;F24C3/08;F23D14/46;F23D14/62;F23D14/66;F23L9/00 |
| 代理公司： | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人： | 楊東明;羅洋 |
| 地址： | 315336 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 多層 組件 燃?xì)庠?/a> | ||
1.一種灶用多層聚能組件，其特征在于，其包括：
聚能罩主體，用于向上反射熱輻射；
罩支腳，固定于所述聚能罩主體上，各所述罩支腳沿所述聚能罩主體的周向間隔設(shè)置；及，
上盛液盤，所述上盛液盤具有支腳安裝孔，所述罩支腳一一對應(yīng)穿過所述支腳安裝孔，所述上盛液盤還包括下凹的預(yù)熱槽，所述預(yù)熱槽位于相鄰的支腳安裝孔之間，所述預(yù)熱槽與所述聚能罩主體之間具有用以供二次空氣流通的預(yù)熱通道。
2.如權(quán)利要求1所述的灶用多層聚能組件，其特征在于，所述上盛液盤包括：
上預(yù)熱板，所述上預(yù)熱板從其內(nèi)圈到其外圈先向下延伸再向上延伸，所述預(yù)熱槽形成于所述上預(yù)熱板上；每一所述支腳安裝孔至少部分位于所述上預(yù)熱板上；和，
豎擋板，所述豎擋板圍繞所述支腳安裝孔的周向設(shè)置，所述豎擋板的下端固定于所述安裝孔的邊緣。
3.如權(quán)利要求2所述的灶用多層聚能組件，其特征在于，所述上盛液盤還包括環(huán)狀的外擋液板，所述外擋液板的上端連接所述上預(yù)熱板的外圈，所述外擋液板用于將溢液向遠(yuǎn)離所述上預(yù)熱板的方向引導(dǎo)。
4.如權(quán)利要求3所述的灶用多層聚能組件，其特征在于，
所述外擋液板包括順次連接的凹面段、凸面段以及豎向定位段，所述凹面段的上端連接所述上預(yù)熱板的外圈，所述凹面段從其上端到其下端逐漸向遠(yuǎn)離所述上盛液盤的中心軸的方向延伸，所述凸面段先向遠(yuǎn)離所述上盛液盤的中心軸的方向延伸，再向靠近所述上盛液盤的中心軸的方向延伸，所述豎向定位段相對于所述凹面段向下彎折；
和/或，每一所述支腳安裝孔部分位于所述上預(yù)熱板上，另一部分位于所述外擋液板上；
和/或，所述外擋液板設(shè)有供二次空氣進(jìn)入所述上預(yù)熱板下方的進(jìn)氣口。
5.如權(quán)利要求1所述的灶用多層聚能組件，其特征在于，灶用多層聚能組件還包括下盛液盤，所述下盛液盤包括支撐環(huán)和凸臺，所述凸臺的下端連接所述支撐環(huán)的內(nèi)圈，所述上盛液盤的下端被定位于所述凸臺的側(cè)面，所述罩支腳被定位于所述凸臺上。
6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的灶用多層聚能組件，其特征在于，所述聚能罩主體包括：
上罩，用于向上反射熱輻射；
下罩，所述下罩從其內(nèi)圈到其外圈先向下延伸再向上延伸，所述下罩與所述上盛液盤之間形成所述預(yù)熱通道；所述上罩設(shè)于所述下罩的上端，所述罩支腳固定于所述下罩的下部。
7.如權(quán)利要求6所述的灶用多層聚能組件，其特征在于，所述下罩的位于相鄰罩支腳之間的下表面為平滑過渡的曲面。
8.一種燃?xì)庠睿涮卣髟谟冢ㄈ鐧?quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的灶用多層聚能組件。
9.如權(quán)利要求8所述的燃?xì)庠睿涮卣髟谟冢鋈細(xì)庠钸€包括燃燒器，所述燃燒器包括同軸設(shè)置的內(nèi)火蓋和外火蓋，所述外火蓋的側(cè)面和所述聚能罩主體保持間隙；所述燃燒器具有與所述預(yù)熱通道連通的內(nèi)環(huán)補(bǔ)氣通道，二次空氣經(jīng)由所述內(nèi)環(huán)補(bǔ)氣通道從燃燒器的側(cè)面流向內(nèi)火蓋。
10.如權(quán)利要求9所述的燃?xì)庠睿涮卣髟谟冢鰞?nèi)環(huán)補(bǔ)氣通道的入口位于所述燃燒器的側(cè)壁上；所述上盛液盤的內(nèi)圈位于所述入口的上方，并貼合于所述外火蓋的側(cè)壁；所述支腳安裝孔的靠近所述上盛液盤的內(nèi)圈的一端與所述罩支腳保持距離，所述支腳安裝孔的遠(yuǎn)離所述上盛液盤的內(nèi)圈的一端與所述罩支腳保持距離。
11.如權(quán)利要求9所述的燃?xì)庠睿涮卣髟谟冢鋈紵鬟€包括混氣室，所述混氣室包括：
盤體；
內(nèi)環(huán)輸氣柱，設(shè)于所述盤體的中心，所述內(nèi)火蓋設(shè)于所述內(nèi)環(huán)輸氣柱上；
兩個外環(huán)輸氣柱，設(shè)于所述盤體上，并環(huán)繞所述內(nèi)環(huán)輸氣柱間隔設(shè)置，所述外火蓋設(shè)于兩個所述外環(huán)輸氣柱上，且所述外火蓋的下端與所述盤體的上表面保持距離。
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