[發明專利]無鉛硅酸鹽玻璃釉原料組成物、無鉛硅酸鹽玻璃釉及其應用

有效

• 申請號: 202010917780.1
• 申請日: 2020-09-03
• 公開（公告）號: CN112010558B
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發明（設計）人: 徐繼清;劉春林;王吉剛;陳文卓
• 申請（專利權）人: 山東華菱電子股份有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00
• 代理公司: 北京博浩百睿知識產權代理有限責任公司 11134
• 代理人: 謝湘寧

1.一種用于熱敏打印頭保護層的無鉛硅酸鹽玻璃釉原料組成物，其特征在于，所述無鉛硅酸鹽玻璃釉原料組成物中固體成分組成包括：氧化硼3～7.5％、二氧化硅10～15％、三氧化二鋁20～30％、氧化鈣5～10％、氧化鋅2～5％、氧化鍶2～5％、氧化鋇2～10％、二氧化鋯5～8.5％和二氧化釕15～25％；所述氧化硼與所述二氧化硅的質量比為(1：5)～(1：2)；所述二氧化釕的中心粒徑D50為0.1～3.0μm；所述二氧化鋯的中心粒徑D50為0.1～5.0μm；所述三氧化二鋁的中心粒徑D50為0.1～3.0μm。

2.根據權利要求1所述無鉛硅酸鹽玻璃釉原料組成物，其特征在于，所述二氧化鋯與所述二氧化釕的質量比為(1：5)～(1：2)。

3.一種用于熱敏打印頭保護層的無鉛硅酸鹽玻璃釉，其特征在于，所述無鉛硅酸鹽玻璃釉采用如權利要求1至2中任一項所述的無鉛硅酸鹽玻璃釉原料組成物制備而成。

4.根據權利要求3所述的無鉛硅酸鹽玻璃釉，其特征在于，按質量百分比計所述無鉛硅酸鹽玻璃釉包括以下組分：氧化硼3～7.5％、二氧化硅10～15％、三氧化二鋁20～30％、氧化鈣5～10％、氧化鋅2～5％、氧化鍶2～5％、氧化鋇2～10％、二氧化鋯5～8.5％和二氧化釕15～25％；所述氧化硼與所述二氧化硅的質量比為(1：5)～(1：2)；所述二氧化釕的中心粒徑D50為0.1～3.0μm；所述二氧化鋯的中心粒徑D50為0.1～5.0μm；所述三氧化二鋁的中心粒徑D50為0.1～3.0μm。

5.根據權利要求3所述的無鉛硅酸鹽玻璃釉，其特征在于，所述無鉛硅酸鹽玻璃釉通過以下步驟制備得到：

將氧化硼、二氧化硅、部分三氧化二鋁、氧化鈣混合后采用1200～1500℃預燒制備保護層玻璃；

將所述保護層玻璃球磨粉碎后制得粒徑0.1～5μm粉末顆粒；

將所述粉末顆粒與氧化鋅、氧化鍶、氧化鋇、剩余部分三氧化二鋁、二氧化鋯和二氧化釕混合，然后采用乙基纖維素以及混合有松油醇或丁基卡必醇醋酸酯的混合溶劑形成漿料狀物質；

將所述漿料狀物質采用600～1000℃燒結形成所述無鉛硅酸鹽玻璃釉。

6.如權利要求3至5中任一項所述的無鉛硅酸鹽玻璃釉作為熱敏打印頭保護層的應用。